Search Results

High-quality cerium oxide lapping film rolls for precise polishing, smoothing, and finishing on glass, ceramics, and other hard surfaces. Diamond Lapping Filmrol Microfinishing-filmrol wordt geproduceerd door de schuurkorrels uniform op de PET-film met hoge sterkte te coaten, wat een hoog rendement kan bieden en een spiegelafwerkingsresultaat kan bereiken. Beschikbare schurende materialen zijn aluminiumoxide, siliciumcarbide en diamant enz. om te voldoen aan verschillende hardheidseisen voor het afwerken van werkstukken. Functies 1. Hoge verwijderingsgraad met goed geplateerde slijpkorrels; 2. Gemakkelijk schrapen en minder plug; 3. Consistente afwerkingsprestaties met uniforme PET-rug en schurend geplateerd; 4. Lange duurzaamheid en goede kostenprestaties voor klanten.

Explore cerium oxide applications for cleaning and polishing delicate surfaces, including glass, metals, and fiber optics efficiently. Ceriumoxide lepfilm Ceriumoxide lepfilm wordt gebruikt voor het nauwkeurig reinigen en polijsten van onderdelen die glas of kwarts bevatten. Het is ook nuttig voor het genereren van een fijne glans op andere substraten zoals metalen, keramiek en kunststoffen. Dit product wordt gebruikt voor het uiteindelijke polijsten. Glasvezelconnectoren kunnen ook worden gebruikt voor precisie-optica, ultraprecieze bewerking; gebruik van het proces merk op dat ceriumoxide polijstslurry het gebruik van beter verhoogt, polijsten, aanpassen van de tijd en druk, polijsten, let op schoon gepolijst oppervlak. Verkrijgbaar in schijven, vellen en rollen, met of zonder drukgevoelige lijm (PSA). Kenmerken: 1. Slurrycoatingfilm met uniforme coatinglaag resulteert in consistente polijstprestaties. _cc781905-5cde-3194-bb358d_bad5cff 2. Betere zelfslijping tijdens het polijsten 3. Uniforme deeltjesgrootte helpt om een hogere slagingssnelheid te krijgen. _cc781905-bbcde-31bad 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Kan worden gebruikt voor verschillende polijstprocessen bb3b-136bad5cf58d_ 5. Twee verschillende receptfilmmodellen als optie Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b-13bad5cf58d_:_cc781905--5cdebb3-139419-5cdebb3 10000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-13680005 Deeltjesgrootte/µm: 0.3 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bbbad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb378de-3194-cb378 136bad5cf58d_ 0.5 cc3_cc781905-53b-513694-debbc3_cc781905-53b-3194-bad -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 Type: Ceriumoxide lepfilmschijf

High-performance grinding and polishing oil slurry for glass, ceramics, metals, and semiconductors. Compatible with flexible lapping films for ultra-fine finishes. Slijpen Polijstolie Slurry Slijpolie, behorend tot een maalmiddel. Het heeft de volgende kenmerken: 1) Hoge zuiverheid en laag ionengehalte; 2) Extra grof slijpen of fijn slijpen maakt het slijpvlak delicater en gemakkelijker te polijsten; 3) Goede productstabiliteit en lange opslagtijd. Specificatie: Productmodus lPGE-2 Verpakkingsspecificatie 500ml/Fles (Het kan worden aangepast aan de behoeften van de klant) Opslag condities: 1) Opslagtemperatuur: 0℃ ~ 40℃; 2) Opslagvochtigheid: 20-70%; 3) Het wordt aanbevolen om het product binnen 2 jaar te gebruiken. Opmerking: Aanpassingen zijn beschikbaar op aanvraag. Instructies: 1. Het product kan direct worden gebruikt of worden verdund met gedeïoniseerd water; 2. Bij het mengen van dit product met andere toevoegingen, 4-6 minuten roeren; 3. Er wordt gesuggereerd dit product niet opnieuw te gebruiken. Toepassingen: 1. Geschikt voor het polijsten van optische vezels, metaal, legeringen, optische precisieapparaten, roestvrij staal, kristallen en saffierprecisiepolijsten; 2. Geschikt voor precisie-optische apparaten, kristallen en saffierprecisiepolijsten.

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. Polykristallijne diamantslurry Hans diamantpolijstslurry is inclusief PCD-, DND- en MD-series die geschikt zijn voor de meeste verschillende toepassingen. Het is met een goede doseerbaarheid, uniforme deeltjesgrootteverdeling, zowel op water- als op oliebasis is beschikbaar, op grote schaal gebruikt voor het lappen en verwerken van harde materialen. Polykristallijne diamantslurry Onze meest populaire PCD-slurry kan een hoge materiaalverwijderingssnelheid bieden zonder krassen, veel gebruikt voor het leppen en verwerken van saffiersubstraat, optische lens, harde glazen, kristallen, keramiek, magnetische koppen, harde schijf en CMOS-chip enz.

Grinding oil, belonging to a grinding agent. It has the following characteristics: 1) High purity and low ion content; 2) Auxiliary coarse grinding or fine grinding makes the grinding end face more delicate and easier to polish; 3) Good product stability and long storage time. Monokristallijne diamantslurry Monokristallijne diamantslurry is onze meest kosteneffectieve oplossing voor hard leppen zoals keramiek, gietijzer, metaalmateriaal, optisch kristal enz. Het is met een goede dispensability, uniforme deeltjesgrootteverdeling, zowel water als olie gebaseerd zijn beschikbaar, op grote schaal gebruikt voor het lappen en verwerken van harde materialen. Toepassingsgebied: 1. Saffiersubstraat slijpen en polijsten; 2. Zinkselenide leppen polijsten; Iphone6 cameralens lappen en polijsten; harde schijf koppen leppen en polijsten; 3. Metaal leppen/slijpen; aluminium leppen/slijpen; mal lappen/slijpen; schimmel polijsten; keramisch slijpen/leppen; mobiele telefoon shell/case lappen; 4. Zuigerveer honen.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Flocked Pile Lapping Film Flocked pool polijstfilm wordt geproduceerd door geavanceerde elektrostatische planttechnologie en nauwkeurige coatingtechnologie. HS-1 is de vlok die direct op het polyester wordt geplant en kan afzonderlijk of met de polijstvloeistof worden gebruikt. HS-2 komt van HS-1 gecoat met het siliciumoxide schuurmiddel. Functies: 1. Uitstekende polijstprestaties: uitstekend polijstvermogen, beter polijsteffect en na polishing kan de ruwheid van het oppervlak een spiegelniveau-effect bereiken; 2. Hoge mate van lepuniformiteit: het oppervlak van de producten is netjes en zacht, kan de hoge lepconsistentie bereiken, kan een hoge mate van uniformiteit en gladheid bereiken na leppen / polijsten; 3.Perfect curviture serface polijsteffect: onze producten hebben een goede flexibiliteit, kunnen een verscheidenheid aan curivture oppervlak polijsten bereiken, en het polijsteffect is uitstekend; 4. Significant bij het reserveren van glas slokdarm / spaanafvaleffect, effectief voorkomen van krassen: onze producten gebruiken elektrostatische stroomdende substraten, met uitstekende elasticiteit en glazen slokdarm / spaanafvalreserve en buffereffect, met water als polijstmiddel, kan effectief krassen op het aanbrengen van oppervlakken voorkomen .

Professional solutions for LCD panel cleaning. Ensure streak-free, dust-free, and damage-free screens for monitors, TVs, and electronic displays. Siliciumcarbide lepfilmschijf Siliciumdioxide lepfilmschijf bestaat uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumdioxidedeeltjes bevat. Het wordt aanbevolen voor eindpolijsttoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Aanbevolen als alternatief voor colloïden en doeken voor het uiteindelijke polijsten van SEM- en TEM-monsters. Siliciumcarbide- en siliciumdioxide-lepfilms bestaan uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumcarbide- of siliciumdioxidedeeltjes bevat. Ze worden aanbevolen voor fijnslijp- en leptoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Functies: * Micron-gegradeerd premium schuurmiddel om nauwkeurige afwerkingen te produceren * Precisierug voor uniformiteit en vlakheid van het monster * Bestand tegen water, olie en de meeste oplosmiddelen * Gebruik voor niet-ingekapselde monsters * Niet aanbevolen voor toepassingen met powerheads Diameter: 4" 6" 8" Montage: PSA (Pad) Ruwheidsgraad: Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 Deeltjesgrootte/µm: 0,3 Type: Silicium Dioxide Lappende filmschijf

Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time Diamond Lapping Film Grooved Lapping Film wordt geproduceerd door diepdruk- en microstructuurherhalingstechnologie, waarbij precisieschuurmiddelen op de achterkant worden gecoat om een concaaf-convexe structuurpolijstplaat te produceren, die wordt gebruikt om het voorpaneel van de chip in het LCD-proces schoon te maken, heeft een hogere polijsten reinigend vermogen en een langere levensduur. Functies 1. Micro-eenheden hebben dezelfde hoogte op het oppervlak van het product, kunnen slijpuniformiteit garanderen; 2. Productmicro-eenheid is een rechthoekige piramidestructuur, kan een hoger reinigingsvermogen garanderen; 3. Productmicro-eenheid heeft zelfslijpend vermogen, can garanderen een stabiel reinigingsvermogen tijdens de levensduur; 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Het productoppervlak heeft een gelijkmatig verdeelde spaangroef, kan het beste vermogen tot spaanverwijdering garanderen.

High-precision MTP lapping polishing film from HANS. Ideal for glass, ceramics, metals, and semiconductor polishing with flexible lapping film systems. Diamond Lapping Film MPO (Multi-fiber Push On) Fiber Optic-connector is een type plug-and-play-connector met multi-vezelkabels als signaaloverdrachtkanalen. positieve. Grish SC polijstfilm speciaal voor MPO maakt gebruik van een ontwikkeld coatingrecept om onze film te produceren met toonaangevende productietechnologie om onze films zo veel mogelijkheden te geven dat ze voldoen aan de veelvoudige polijstconditie van de klant. Kenmerken: 1. Slurrycoatingfilm met uniforme coatinglaag resulteert in consistente polijstprestaties. _cc781905-5cde-3194-bb358d_bad5cff 2. Betere zelfslijping tijdens het polijsten 3. Uniforme deeltjesgrootte helpt om een hogere slagingssnelheid te krijgen. _cc781905-bbcde-31bad 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Kan worden gebruikt voor verschillende polijstprocessen bb3b-136bad5cf58d_ 5. Twee verschillende receptfilmmodellen als optie _cc781905-5cde-1394-bb378cde-3194-bb378 bb3b-136bad5cf58d_

High-performance Rough-Surface Monocrystalline Diamond (RCD) slurry with polydisperse formula for uniform stock removal and scratch-free polishing. Rough-surface MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) Ruw-oppervlakte MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) neemt Hans eigen RCD-poeder als grondstof. Met de polydisperse formule kan het een hoge en uniforme verwijderingssnelheid behouden en is het niet gemakkelijk om krassen te produceren. RCD-diamantslurry wordt voornamelijk gebruikt bij het slijpen en polijsten van saffiermateriaal, optische lens, hard glas en kristal, superhard keramiek en legeringsmateriaal enz. Kenmerken: 1. Een ruw oppervlak kan het contactpunt in het polijstproces vergroten; Verbeter het polijsteffect dienovereenkomstig; 2. Met een goede zelfscherping, kan een hoog verwijderingspercentage behouden blijven; 3. Met een groot aantal kleine snijkinnen, kan de oppervlakteruwheid van het werkstuk worden verminderd.

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Semiconductor polijstslurry Semiconductor Polishing Slurry heeft overeenkomstige polijstprocessen en verbruiksartikelen voor samengestelde halfgeleiders, waaronder siliciumcarbide, aluminiumnitride, galliumnitride, galliumarsenide, indiumfosfide, enz., en onderneemt ook verschillende soorten OEM-services. Functies GRISH nieuwe serie AO polijstslurry is professioneel ontwikkeld voor het terugpolijsten van InP & GaAs-chips. Vergeleken met Logitech Slurry, heeft het een hoge verwijderingssnelheid, betere oppervlaktevlakheid (Ra, TTV, LTV), hoge kwalificatiegraad. Toepassingen Op grote schaal gebruikt in InP Chip en GaAs Chip terug polijsten. Beveel het polijstproces aan voor InP&GaAs Logitech Polijstmachine Eerste stap: verdunnen, 15-30 min (3-10umaluminiumoxidepoeder en kwartsplaat) Tweede stap: polijsten van de achterkant (30-40 min) InP: AO-1/3-20 aluminiumoxide polijstslurry samen met PU-polijstkussen GaAs: AO-1/3-20 aluminiumoxide polijstslurry OrAO-1/5-10 aluminiumoxide polijstslurry orSO-80-PF CMP polijstslurry samen met PU polijstpad

Explore high-performance abrasive solutions from Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd — including Structured Aluminum Oxide Abrasive Discs, Diamond Grinding Pads, Lapping Films, and Microfinishing Films. Ideal for stainless steel, aluminum-magnesium alloy, titanium alloy, and 3C device manufacturing. Siliciumcarbide lepfilmschijf Siliciumdioxide lepfilmschijf bestaat uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumdioxidedeeltjes bevat. Het wordt aanbevolen voor eindpolijsttoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Aanbevolen als alternatief voor colloïden en doeken voor het uiteindelijke polijsten van SEM- en TEM-monsters. Siliciumcarbide- en siliciumdioxide-lepfilms bestaan uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumcarbide- of siliciumdioxidedeeltjes bevat. Ze worden aanbevolen voor fijnslijp- en leptoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Functies: * Micron-gegradeerd premium schuurmiddel om nauwkeurige afwerkingen te produceren * Precisierug voor uniformiteit en vlakheid van het monster * Bestand tegen water, olie en de meeste oplosmiddelen * Gebruik voor niet-ingekapselde monsters * Niet aanbevolen voor toepassingen met powerheads Diameter: 4" 6" 8" Montage: PSA (Pad) Ruwheidsgraad: Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 Deeltjesgrootte/µm: 0,3 Type: Silicium Dioxide Lappende filmschijf