Discover our high-performance abrasive cloth designed for versatile grinding and polishing tasks, ensuring excellent results. Diamond Lapping Film Diamond Lapping Film is gecoat met nauwkeurig gesorteerd diamantpoeder op de zeer sterke polyester achterkant voor een uniforme, consistente afwerking. Biedt een consistente, herhaalbare afwerking op extreem harde materialen. Ze bieden uitstekende randretentie en behouden coplanariteit, ongeacht de verschillende materialen of hardheid in het monster. Meestal gebruikt voor niet-ingekapselde doorsneden, TEM-wig/bovenaanzicht polijsten, achterkant polijsten en FIB-monsterverdunning. Verkrijgbaar in 0,5-80 m kwaliteiten, met of zonder PSA (Pressure Sensitive Adhesive) rug. Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b-13bad5cf58d_ _cc781905- 5cde-1336 240 360 _cc781905-5cde-3194-bb3b-135bad5de- -bb3b-136bad5cf58d_ 600 1000 _cc31941905- 5 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 2000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5 cf58d_ 2500 4000 _cc781905bbcde-3194-badge 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 8000 10000 Deeltjesgrootte/µm 80 _cc781905- 5cde-3194-b 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 45_cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5ccf3194-5 _de -136bad5cf58d_ 40 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58dc_cc3_cc781905-53b-51905-53b-3194-badge 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 16 _decc31941905- -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 15 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 d_ 9 _cc781905-5cde-31945-5ccde-31945-bb3581905bad3 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 6 _decc31941905- 3 _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 bb3b-136bad5cf58d_ 2 ccbad5cf58d_ _cc781905- 5cde-781905- 5cde-781905-5 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_1 _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 0,5 Type: Diamond Lapping Film Disc

Explore Diamond Flexible Lapping Film by Hans Flexible Lapping Film, delivering precision polishing solutions online for diverse industries. Oplossingen voor Precisie Polijsten Slijpsysteem View More Producten en diensten Precisie lappen Afwerking Schurende lepfilm/polijstfilm is gecoat met nauwkeurig gesorteerde mineralen (zoals diamant, aluminiumoxide, siliciumcarbide, siliciumoxide, ceriumoxide enzovoort) op de zeer sterke polyesterrug voor een uniforme, consistente afwerking. Met of zonder PSA-rug (Pressure Sensitive Adhesive) en verkrijgbaar in vellen, schijven en rollen voor gebruik op elk type polijstapparatuur. Deze films worden veel gebruikt bij het polijsten van glasvezelconnectoren, rollen, harde schijven en metalen onderdelen enz. Lapping Film Lapping Specificatie: Trouble Shooting for Lapping Film Polishing

Explore high-performance abrasive solutions from Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd — including Structured Aluminum Oxide Abrasive Discs, Diamond Grinding Pads, Lapping Films, and Microfinishing Films. Ideal for stainless steel, aluminum-magnesium alloy, titanium alloy, and 3C device manufacturing. Siliciumcarbide lepfilmschijf Siliciumdioxide lepfilmschijf bestaat uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumdioxidedeeltjes bevat. Het wordt aanbevolen voor eindpolijsttoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Aanbevolen als alternatief voor colloïden en doeken voor het uiteindelijke polijsten van SEM- en TEM-monsters. Siliciumcarbide- en siliciumdioxide-lepfilms bestaan uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumcarbide- of siliciumdioxidedeeltjes bevat. Ze worden aanbevolen voor fijnslijp- en leptoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Functies: * Micron-gegradeerd premium schuurmiddel om nauwkeurige afwerkingen te produceren * Precisierug voor uniformiteit en vlakheid van het monster * Bestand tegen water, olie en de meeste oplosmiddelen * Gebruik voor niet-ingekapselde monsters * Niet aanbevolen voor toepassingen met powerheads Diameter: 4" 6" 8" Montage: PSA (Pad) Ruwheidsgraad: Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 Deeltjesgrootte/µm: 0,3 Type: Silicium Dioxide Lappende filmschijf

High-performance Rough-Surface Monocrystalline Diamond (RCD) slurry with polydisperse formula for uniform stock removal and scratch-free polishing. Rough-surface MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) Ruw-oppervlakte MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) neemt Hans eigen RCD-poeder als grondstof. Met de polydisperse formule kan het een hoge en uniforme verwijderingssnelheid behouden en is het niet gemakkelijk om krassen te produceren. RCD-diamantslurry wordt voornamelijk gebruikt bij het slijpen en polijsten van saffiermateriaal, optische lens, hard glas en kristal, superhard keramiek en legeringsmateriaal enz. Kenmerken: 1. Een ruw oppervlak kan het contactpunt in het polijstproces vergroten; Verbeter het polijsteffect dienovereenkomstig; 2. Met een goede zelfscherping, kan een hoog verwijderingspercentage behouden blijven; 3. Met een groot aantal kleine snijkinnen, kan de oppervlakteruwheid van het werkstuk worden verminderd.

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. Polykristallijne diamantslurry Hans diamantpolijstslurry is inclusief PCD-, DND- en MD-series die geschikt zijn voor de meeste verschillende toepassingen. Het is met een goede doseerbaarheid, uniforme deeltjesgrootteverdeling, zowel op water- als op oliebasis is beschikbaar, op grote schaal gebruikt voor het lappen en verwerken van harde materialen. Polykristallijne diamantslurry Onze meest populaire PCD-slurry kan een hoge materiaalverwijderingssnelheid bieden zonder krassen, veel gebruikt voor het leppen en verwerken van saffiersubstraat, optische lens, harde glazen, kristallen, keramiek, magnetische koppen, harde schijf en CMOS-chip enz.

High-performance ultra fine polishing powder for precision finishing on glass, metal, ceramics, and semiconductors. Ideal for flexible lapping applications. Ultra fijn polijstpoeder Huis / Lappend polijstpoeder / Ultra fijn polijstpoeder / Ultrafijn polijstpoeder heeft drie soorten ultrafijn polijstpoeder, siliciumcarbide, aluminiumoxide en ceriumoxide, geproduceerd door geavanceerde sorteertechnologie. Ze worden gekenmerkt door een hoge zuiverheid, uitstekende kristalvorm en uniforme deeltjesgrootteverdeling. Deze worden meestal gebruikt door optica, communicatie, beeldschermen, halfgeleiders, gegevensopslagindustrie en dergelijke. Functies 1. Fijne deeltjesgrootte en instelbare polijsteffectiviteit kunnen aan verschillende polijstvereisten voldoen; 2. Gecentraliseerde deeltjesgrootteverdeling en goede kristalvorm kunnen in korte tijd een nauwkeurig polijstresultaat bereiken; 3. Hoge zuiverheid kan voldoen aan het verzoek van magnetische recordmaterialen zoals harde schijf en halfgeleidermaterialen zoals silicium en andere hightech-velden. Toepassingen 1. Halfgeleider: 2. Optisch glas en kristal 3. Harde schijf 4. LCD-scherm 5. Optische communicatie

Discover the benefits of silicon carbide lapping film for precision surface finishes. Explore our silicon carbide lapping film today! Siliciumcarbide lepfilm Siliciumcarbide Lapping Film is gecoat met nauwkeurig gesorteerd siliciumcarbidepoeder op de zeer sterke polyesterrug voor een uniforme, consistente afwerking. Verkrijgbaar in kwaliteiten van 1-30 m, met of zonder PSA (Pressure Sensitive Adhesive) rug. Siliciumcarbide lepfilms zijn gebonden of gecoate schuurfilms van SiC die zo zijn ontworpen dat het schuurmiddel een groot aantal snijpunten heeft (negatieve schuurgraadhoek) . Dit wordt bereikt door de schurende deeltjes ongeveer loodrecht op de rug uit te lijnen. Merk op dat gecoate schuurmiddelen niet helemaal coplanair zijn, dus SiC-papier produceert de maximale efficiëntie (snijsnelheid, materiaalverwijdering en minimale schade) omdat nieuw schuurmiddel wordt blootgesteld als het oude schuurmiddel afbreekt.

Discover eco-friendly silicon carbide polishing solutions for semiconductor wafer and ceramic polishing. Achieve top results! Siliciumcarbide polijstslurry Hoogwaardige slurries voor schaalbare productie van atomair gladde en defectvrije SiC-wafels (siliciumcarbide) Specifiek ontworpen voor het leppen of mechanisch polijsten van SiC-wafels met Si-face, C-face en enkelvoudige of polykristallijne oppervlakken Geoptimaliseerde oplossingen voor batch- en enkelvoudige -wafer CMP-systemen die verbeterde eigendomskosten bieden, Slurries bevatten geavanceerde additieven die een ultrahoge polijstsnelheid bieden, tot 10 keer sneller dan bestaande processen, met behoud van uniformiteit en geen schade aan de ondergrond

ITO-dedicated LCD panel cleaning flocked pile with precision coating technology. Uniformly disperses aluminum oxide for scratch-free, high-precision cleaning. Lcd-paneel polijststof Paneelpolijststof bestaat uit fijne schuurmiddelen die over een textielbasis zijn gecoat. Het vertoont goede reinigingsprestaties door harsresten en glasscherven te verwijderen bij gebruik voor het reinigingsproces van LCD-schermen. Kenmerken: 1. Uitstekende reinigingsprestaties. 2. Goede flexibiliteit en kusseneffect met textielrug. Toepassingen: Reiniging van het LCD-paneel tijdens het celproces voordat de gepolariseerde film wordt bevestigd.

Discover high-quality monocrystalline diamond powder solutions for industrial applications, offering precision and efficiency. Ruw oppervlak monokristallijn diamantpoeder Huis / Lappend polijstpoeder / Ruw monokristallijn diamantpoeder / Ruw oppervlak Monokristallijn diamantpoeder, kortweg RCD, afgeleid van monokristallijn diamantpoeder dat met een speciale technologie is verwerkt. RCD-poeder lijkt qua prestaties meer op polykristallijne diamant. In vergelijking met monokristallijn diamantpoeder heeft RCD-poeder een ruwer oppervlak, dat fungeert als een groot aantal kleine snijkinnen. Het kan zowel de oppervlakteruwheid verminderen als de verwijderingssnelheid van het werkstuk verbeteren. Functies Een ruw oppervlak kan het contactpunt in het polijstproces vergroten; Verbeter het polijsteffect dienovereenkomstig. Met goede zelfslijping, kan een hoge verwijderingssnelheid worden behouden. Met een groot aantal kleine snijkinnen, kan de oppervlakteruwheid van het werkstuk worden verminderd.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Flocked Pile Lapping Film Flocked pool polijstfilm wordt geproduceerd door geavanceerde elektrostatische planttechnologie en nauwkeurige coatingtechnologie. HS-1 is de vlok die direct op het polyester wordt geplant en kan afzonderlijk of met de polijstvloeistof worden gebruikt. HS-2 komt van HS-1 gecoat met het siliciumoxide schuurmiddel. Functies: 1. Uitstekende polijstprestaties: uitstekend polijstvermogen, beter polijsteffect en na polishing kan de ruwheid van het oppervlak een spiegelniveau-effect bereiken; 2. Hoge mate van lepuniformiteit: het oppervlak van de producten is netjes en zacht, kan de hoge lepconsistentie bereiken, kan een hoge mate van uniformiteit en gladheid bereiken na leppen / polijsten; 3.Perfect curviture serface polijsteffect: onze producten hebben een goede flexibiliteit, kunnen een verscheidenheid aan curivture oppervlak polijsten bereiken, en het polijsteffect is uitstekend; 4. Significant bij het reserveren van glas slokdarm / spaanafvaleffect, effectief voorkomen van krassen: onze producten gebruiken elektrostatische stroomdende substraten, met uitstekende elasticiteit en glazen slokdarm / spaanafvalreserve en buffereffect, met water als polijstmiddel, kan effectief krassen op het aanbrengen van oppervlakken voorkomen .

Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time Diamond Lapping Film Grooved Lapping Film wordt geproduceerd door diepdruk- en microstructuurherhalingstechnologie, waarbij precisieschuurmiddelen op de achterkant worden gecoat om een concaaf-convexe structuurpolijstplaat te produceren, die wordt gebruikt om het voorpaneel van de chip in het LCD-proces schoon te maken, heeft een hogere polijsten reinigend vermogen en een langere levensduur. Functies 1. Micro-eenheden hebben dezelfde hoogte op het oppervlak van het product, kunnen slijpuniformiteit garanderen; 2. Productmicro-eenheid is een rechthoekige piramidestructuur, kan een hoger reinigingsvermogen garanderen; 3. Productmicro-eenheid heeft zelfslijpend vermogen, can garanderen een stabiel reinigingsvermogen tijdens de levensduur; 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Het productoppervlak heeft een gelijkmatig verdeelde spaangroef, kan het beste vermogen tot spaanverwijdering garanderen.