top of page

Search Results

67 resultaten gevonden met een lege zoekopdracht

  • Silicon Carbide Lapping Microfinishing Polishing Rolls | HANS

    High-efficiency silicon carbide microfinishing polishing rolls from HANS. Provides mirror finishes and adapts to various hardness substrates with flexible PET backing. Siliciumcarbide lepfilmrol Microfinishing-filmrol wordt geproduceerd door de schuurkorrels uniform op de PET-film met hoge sterkte te coaten, wat een hoog rendement kan bieden en een spiegelafwerkingsresultaat kan bereiken. Beschikbare schurende materialen zijn aluminiumoxide, siliciumcarbide en diamant enz. om te voldoen aan verschillende hardheidseisen voor het afwerken van werkstukken. Functies 1. Hoge verwijderingsgraad met goed geplateerde slijpkorrels; 2. Gemakkelijk schrapen en minder plug; 3. Consistente afwerkingsprestaties met uniforme PET-rug en schurend geplateerd; 4. Lange duurzaamheid en goede kostenprestaties voor klanten.

  • Rough Monocrystalline Diamond Powder | Advanced Polycrystalline Polishing Solutions

    Discover high-quality monocrystalline diamond powder solutions for industrial applications, offering precision and efficiency. Ruw oppervlak monokristallijn diamantpoeder Huis / Lappend polijstpoeder / Ruw monokristallijn diamantpoeder / Ruw oppervlak Monokristallijn diamantpoeder, kortweg RCD, afgeleid van monokristallijn diamantpoeder dat met een speciale technologie is verwerkt. RCD-poeder lijkt qua prestaties meer op polykristallijne diamant. In vergelijking met monokristallijn diamantpoeder heeft RCD-poeder een ruwer oppervlak, dat fungeert als een groot aantal kleine snijkinnen. Het kan zowel de oppervlakteruwheid verminderen als de verwijderingssnelheid van het werkstuk verbeteren. Functies Een ruw oppervlak kan het contactpunt in het polijstproces vergroten; Verbeter het polijsteffect dienovereenkomstig. Met goede zelfslijping, kan een hoge verwijderingssnelheid worden behouden. Met een groot aantal kleine snijkinnen, kan de oppervlakteruwheid van het werkstuk worden verminderd.

  • Semiconductor Polishing Slurry – Precision CMP Solutions | Hans

    Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Semiconductor polijstslurry Semiconductor Polishing Slurry heeft overeenkomstige polijstprocessen en verbruiksartikelen voor samengestelde halfgeleiders, waaronder siliciumcarbide, aluminiumnitride, galliumnitride, galliumarsenide, indiumfosfide, enz., en onderneemt ook verschillende soorten OEM-services. Functies GRISH nieuwe serie AO polijstslurry is professioneel ontwikkeld voor het terugpolijsten van InP & GaAs-chips. Vergeleken met Logitech Slurry, heeft het een hoge verwijderingssnelheid, betere oppervlaktevlakheid (Ra, TTV, LTV), hoge kwalificatiegraad. Toepassingen Op grote schaal gebruikt in InP Chip en GaAs Chip terug polijsten. Beveel het polijstproces aan voor InP&GaAs Logitech Polijstmachine Eerste stap: verdunnen, 15-30 min (3-10umaluminiumoxidepoeder en kwartsplaat) Tweede stap: polijsten van de achterkant (30-40 min) InP: AO-1/3-20 aluminiumoxide polijstslurry samen met PU-polijstkussen GaAs: AO-1/3-20 aluminiumoxide polijstslurry OrAO-1/5-10 aluminiumoxide polijstslurry orSO-80-PF CMP polijstslurry samen met PU polijstpad

  • Structured Foam Polishing Disc | Flexible Lapping Film | Hans

    Innovative structured foam polishing disc with 3D silicon carbide abrasives on flexible foam for precision lapping, finishing, and surface polishing. Lappende Film Kranen Huis / Lapping Film Polijstschijf / Diamant lappende filmschijf / Diamond-bead Polishing Tape is gemaakt van micron-grootte diamantkorrels die uit veel kleinere micron-grootte diamantdeeltjes bestaan. Het werkt als een micron-slijpsteen tijdens het polijstproces en geeft een glad polijstoppervlak met een hoge verwijderingssnelheid. Tijdens het polijstproces breken de diamantparels in kleinere deeltjes, die fungeren als polijstketting en zorgen voor consistent polijsten en een langere levensduur bereiken. Opmerking: Aanpassingen zijn beschikbaar op aanvraag. Functies 1. Consistente verwijderingssnelheid en een lange levensduur; 2. Krast vrij en produceert een superieure oppervlakteafwerking.

  • Cerium Oxide Lapping Film Roll – Precision Polishing & Finishing

    Discover premium cerium oxide lapping film rolls for precise polishing and finishing. Buy lapping film now for exceptional results! Diamond Lapping Filmrol Microfinishing-filmrol wordt geproduceerd door de schuurkorrels uniform op de PET-film met hoge sterkte te coaten, wat een hoog rendement kan bieden en een spiegelafwerkingsresultaat kan bereiken. Beschikbare schurende materialen zijn aluminiumoxide, siliciumcarbide en diamant enz. om te voldoen aan verschillende hardheidseisen voor het afwerken van werkstukken. Functies 1. Hoge verwijderingsgraad met goed geplateerde slijpkorrels; 2. Gemakkelijk schrapen en minder plug; 3. Consistente afwerkingsprestaties met uniforme PET-rug en schurend geplateerd; 4. Lange duurzaamheid en goede kostenprestaties voor klanten.

  • Hard Alloy Roller Applications | Precision Polishing & Grinding

    Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd offers high-performance Diamond and Aluminum Oxide lapping and microfinishing film rolls for polishing mirror rollers, ceramic rollers, rubber rollers, and super hard metal screws. Superior precision, wear resistance, and impact durability for industrial applications. Siliciumcarbide lepfilmschijf Siliciumdioxide lepfilmschijf bestaat uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumdioxidedeeltjes bevat. Het wordt aanbevolen voor eindpolijsttoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Aanbevolen als alternatief voor colloïden en doeken voor het uiteindelijke polijsten van SEM- en TEM-monsters. Siliciumcarbide- en siliciumdioxide-lepfilms bestaan uit een mylar-film bedekt met hars die siliciumcarbide- of siliciumdioxidedeeltjes bevat. Ze worden aanbevolen voor fijnslijp- en leptoepassingen waarbij randbehoud belangrijk is. Functies: * Micron-gegradeerd premium schuurmiddel om nauwkeurige afwerkingen te produceren * Precisierug voor uniformiteit en vlakheid van het monster * Bestand tegen water, olie en de meeste oplosmiddelen * Gebruik voor niet-ingekapselde monsters * Niet aanbevolen voor toepassingen met powerheads Diameter: 4" 6" 8" Montage: PSA (Pad) Ruwheidsgraad: Mesh _cc781905-5cde-3194-bb37819d05-5bad5cfde-136 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 Deeltjesgrootte/µm: 0,3 Type: Silicium Dioxide Lappende filmschijf

  • Silicon Carbide Lapping Film | Flexible Lapping Film | HANS

    Discover the benefits of silicon carbide lapping film for precision surface finishes. Explore our silicon carbide lapping film today! Siliciumcarbide lepfilm Siliciumcarbide Lapping Film is gecoat met nauwkeurig gesorteerd siliciumcarbidepoeder op de zeer sterke polyesterrug voor een uniforme, consistente afwerking. Verkrijgbaar in kwaliteiten van 1-30 m, met of zonder PSA (Pressure Sensitive Adhesive) rug. Siliciumcarbide lepfilms zijn gebonden of gecoate schuurfilms van SiC die zo zijn ontworpen dat het schuurmiddel een groot aantal snijpunten heeft (negatieve schuurgraadhoek) . Dit wordt bereikt door de schurende deeltjes ongeveer loodrecht op de rug uit te lijnen. Merk op dat gecoate schuurmiddelen niet helemaal coplanair zijn, dus SiC-papier produceert de maximale efficiëntie (snijsnelheid, materiaalverwijdering en minimale schade) omdat nieuw schuurmiddel wordt blootgesteld als het oude schuurmiddel afbreekt.

  • Water-Based Aluminum Oxide Polishing Slurry | Ultra-Fine Abrasive

    Eco-friendly aluminum oxide polishing slurry for precision surfaces. Achieve uniform polishing with ultra-fine abrasives. High efficiency. Polykristallijne diamantslurry Surface Superior Finishing AO polijstslurry is een soort op water gebaseerde, milieuvriendelijke polijstvloeistof, die het produceert met superieure ultrafijne polijstschuurmiddelen, met een goede dispersie, uniforme korrelgroottes, hoge polijstefficiëntie, voornamelijk toegepast op fijn polijsten van MPO / MTP . schuurpoeders van aluminiumoxide. De alkalische chemie in combinatie met de zeer zuivere (> 99,99%) aluminiumoxidepoeders bieden een optimale oplossing voor kritieke behoeften bij het nauwkeurig polijsten van optische materialen, elektro-optische materialen, laserkristallen, ooglenzen en bij metallurgische monstervoorbereiding. gebruikt in kritische polijsttoepassingen om oppervlakteafwerkingen te produceren die enkele angstroms benaderen. Houd er rekening mee dat de onderstaande gegevens functionele deeltjesgroottes vertegenwoordigen, die doorgaans kleiner zijn dan gemeten met standaard lichtverstrooiingsmetrologie. Deze zijn indicatief voor hoe het deeltje zal werken onder druk in een polijsttoepassing. Functies 1. Fijnere eindvlakafwerking 2. Zeldzame randfractie na polijsten 3. Consistente glasvezelhoogte voor alle poorten 4. Eenvoudige reiniging voor slurry en geen residu.

  • ​Cerium Oxide Polishing Slurry|CHINA| Hans Diamond Lapping Film Products

    Eco-friendly Cerium Oxide polishing slurry provides superior results for aluminum oxide applications, ensuring efficiency and safety. Ceriumoxide polijstslurry Polijstslurry uit de Cerium Oxide-serie is een soort milieuvriendelijke polijstslurry op waterbasis. Gemaakt van hoogwaardige schurende materialen, heeft de slurry een goede dispersiteit, uniforme korrelgrootte en hoge polijstefficiëntie. Ondertussen maken de eigenschappen die gemakkelijk schoon te maken en niet-residuen het zeer geschikt voor MPO/MTP-polijstproces. Ceriumoxide slurry is een voorgemengde cerium slurry die direct uit de fles klaar is om te polijsten. Het is niet nodig om uw eigen slurries uit poeder te mengen. Correct gemengd en gemakkelijk te gebruiken voor een snelle, heldere glans op uw goed voorbereide glasoppervlakken. Kenmerken: 1. Geen kras op het oppervlak na polijstproces; 2. Geen gebroken rand op het oppervlak na polijstproces; 3. Gemakkelijk schoon te maken en laat geen resten achter. Instructies 1. Schud de fles om het schuurmiddel opnieuw te dispergeren voor gebruik. 2. Gebruik slurry met een polijstkussen uit de PU-serie.

  • Contact Flexible Lapping Film Products – Expert Support

    Reach out to Flexible Lapping Film Products for inquiries about polishing, smoothing, and finishing solutions. Expert support for industrial and professional users. Neem contact met ons op Bedankt voor uw interesse in Hans schurende Lapping Film. Om contact met ons op te nemen kunt u ons bereiken via: Indienen Bedankt voor het indienen! Adres 111e Liuquan Road Zhangdian Zibo Shandong China flexibeleabrasive@gmail.com Whatsapp en tel: 13805339219

  • CMP Polishing Slurry | Chemical Mechanical Polishing Solution | Hans

    Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. CMP-slurry CMP-slurry neemt colloïdaal als grondstof. Met een uniek formuleontwerp volgens verschillende polijstmaterialen, kan onze slurry ervoor zorgen dat de pH-waarde tijdens het polijsten vrijwel onveranderd blijft, waardoor de stabiliteit van de polijstsnelheid wordt gewaarborgd en polijsttijd wordt bespaard. CMP-polijstslurry wordt veel gebruikt voor chemisch-mechanisch polijsten van verschillende nanoschaalmaterialen. Zoals saffiermateriaal, silicium, roestvrij staal, aluminiummagnesiumlegering, samengesteld kristal, enz. Functies 1. Uniforme deeltjesgrootte. (smalle verdeling, bolvormig oppervlak); 2. Hoge polijstsnelheid. (speciale formule. pH-waarde is stabiel); 3. Hoge vlakheid. (oppervlaktekwaliteit Ra<0,2nm TTV<3u); 4. Hoge levensduur van de fiets; 5. Polijsten bij lage temperatuur beschikbaar. (Onder 35℃); 6. Verbeterd type voor siliciumcarbidesubstraat; 7. Neutrale of zwakke zure polijstslurry voor aluminiumnitride warmteafvoersubstraat. Toepassingen 1. Silicium carbidesubstraat 2. Saffiermateriaal: 3. Roestvrij staal 4. Optisch glas en kristal 5. Aluminiumnitride warmteafvoer substraat:

  • About Diamond Lapping Film | CHINA| Hans Diamond Lapping Film Products

    We offer abrasive lapping films and papers in sheets, discs, rolls and belts with diamond, aluminum oxide, silicon carbide and cerium oxide coatings in a wide range of particle sizes from mesh size down to sub-micron. FAQ Frequently asked questions General Product Selection Customization Product Use Storage and Handling Application Compatibility How should diamond lapping film be used correctly? To use diamond lapping film correctly, remove a strip from the sheet and securely adhere it to the platen, ensuring precise alignment. Utilize an edge-trailing stroke (up and away) technique, which differs from the approach used with diamond stones. What materials are most effective for diamond lapping applications? Boron carbide is particularly effective for diamond lapping, especially when processing hard materials such as tungsten carbide and tempered steel. Its aggressive cutting action and high material removal efficiency make it suitable for the most demanding applications, including tungsten carbide and titanium carbide. What is the process of diamond lapping? Diamond lapping is a material removal method using fixed diamond abrasive particles which produce long chips of the component material. The process of making chips with a sharp abrasive grain produces the lowest amount of deformation in the component while giving the highest removal rate. Is aluminum oxide better than diamond lapping film? When comparing aluminum oxide to Diamond lapping film for precision polishing, diamond lapping film is generally considered superior. Here are the key reasons why Diamond lapping film is better than aluminum oxide: Superior Hardness: Diamond is the hardest known material, significantly harder than aluminum oxide . This allows Diamond lapping film to cut through materials more efficiently and maintain its cutting ability over a longer period. Higher Cutting Performance: The superior hardness of Diamond translates to higher cutting performance. Diamond particles can cut and abrade materials more quickly and effectively than aluminum oxide , which results in faster material removal rates and more efficient polishing processes. Durability: Diamond lapping film is more durable due to the inherent toughness of Diamond particles. This means the abrasive surface remains effective for a longer period, reducing the need for frequent replacements and thus offering better cost-effectiveness over time. Precision and Consistency: Diamond lapping film provides a more consistent and precise finish. The uniformity of Diamond particles and their ability to maintain sharpness ensures a uniform surface finish, which is crucial in high-precision applications. Versatility: Diamond lapping film can be used on a wider range of materials, including very hard substrates such as ceramics, carbide, and hardened steels. aluminum oxide, while effective, may not perform as well on these tougher materials. Reduction in Surface Damage: The cutting efficiency and sharpness of Diamond particles help in reducing the heat generated during the lapping process, which minimizes the risk of surface damage such as burns or cracks. In summary, Diamond lapping film offers better performance, durability, and precision compared to aluminum oxide, making it the preferred choice for high-precision and demanding polishing tasks. What material is best for lapping? Diamond slurries are often used in precision lapping applications, as they offer several advantages over traditional abrasives such as Alumina or silicon carbide. Diamond particles are harder and more durable than these traditional abrasives, allowing for faster material removal and improved surface finish. How should you choose a diamond lapping fluid for precision finishing? You should choose a diamond lapping fluid that provides stable particle suspension, effective cooling, and consistent lubrication during processing. It should also help reduce residue buildup and support corrosion protection where required. For reliable performance, the fluid concentration should be maintained within the recommended range, and contamination should be monitored regularly. What is the main purpose of the lapping process? The main purpose of the lapping process is to achieve uniformly smooth and flat surfaces on components. This is achieved by selectively removing material from the high points of the surface through controlled interaction with a flat lap plate. What is the standard material removal rate in the lapping process? The lapping process, which is less aggressive than honing, typically removes 0.0005” to 0.005” (0.0127 mm to 0.127 mm) of material. Therefore, the workpiece should be pre-sized as closely as possible to the final dimensions, often through double-disk grinding, before lapping. What is the proper method for cleaning a diamond lapping plate? To clean a diamond lapping plate, evenly apply Bar Keepers Friend using a nylon brush. Gently scrub the plate for one to two minutes, then rinse with warm water while continuing to scrub. Ensure thorough rinsing to remove all residues.

bottom of page