Princeps effectus slurries ad fabricam scalabilem atomice lenis et defectus liberorum SiC (carbidi pii) lagana , Specialiter designata ad lagana Si-faciem, C-faciem, lagana Si-faciem, C-faciem, et singulas vel polycrystallinas, Optimatum solutiones massae et singulae. -wafer CMP systemata auctum dominii sumptus praebentes, Slurries includunt additamenta provecta, quae rate ultra-magnam politionem praebent, usque ad 10 tempora velociores processibus existentibus, servata uniformitate et nullum damnum sub-superficie.