Aspero-superficies Monocrystallinus pulveris adamantis, RCD pro brevi, ex monocrystallino adamantis pulvere processit per specialem technologiam. Pulvis RCD similior est polycrystallino adamante in effectu. Comparatus cum pulvere monocrystallino adamantino, RCD pulveris superficiem asperiorem habet, qui in magna multitudine menta incisa parva agit. Potest et superficies asperitatem reducere et ratem workpiece remotionem augere.

Features

Aspera superficies punctum contactum augere potest in processu poliendo; Proin id ornare purus.

Cum bona sui acuit, rate summo remotionem servare potest.

Cum numerus minutorum secantium mento, asperitatem superficiei fabricae reducere potest.