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Explore Hans' precision grinding solutions for polished surfaces on metals, glass, and ceramics, enhancing your production quality. Agrolinx 소개 나는 단락입니다. 자신의 텍스트를 추가하고 나를 편집하려면 여기를 클릭하십시오. 그것은 간단합니다. "텍스트 편집"을 클릭하거나 저를 두 번 클릭하여 자신만의 콘텐츠를 추가하고 글꼴을 변경하십시오. 나는 당신이 이야기를 하고 사용자들에게 당신에 대해 조금 더 알릴 수 있는 좋은 장소입니다.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Flocked Pile Lapping Film Flocked Pile Polishing Film은 첨단 정전기 식재 기술과 정밀한 코팅 기술로 생산됩니다. HS-1은 폴리에스터에 직접 식재된 플록으로 단독으로 사용하거나 연마액과 함께 사용할 수 있습니다. HS-2는 실리콘 산화물 연마제로 코팅된 HS-1에서 나옵니다. 특징: 1. 뛰어난 연마 성능: 뛰어난 연마 능력, 뛰어난 연마 효과 및 연마 후 표면의 거칠기는 거울 수준 효과에 도달할 수 있습니다. 2. 높은 수준의 래핑 균일성: 제품의 표면은 청초하고 부드럽고, 높은 래핑 일관성에 도달할 수 있으며, 래핑/연마 후 높은 수준의 균일성과 부드러움에 도달할 수 있습니다. 3.Perfect 곡률 serface 연마 효과: 우리의 제품에는 좋은 유연성이 있고, 다양한 곡률 표면 연마를 달성할 수 있으며 연마 효과가 우수합니다. 4. 유리 구멍/칩 낭비 방지 효과, 효과적으로 긁힘 방지: 당사 제품은 정전기 플로킹 기판을 사용하여 탄성이 우수하고 유리 구멍/칩 폐기물 보존 및 완충 효과가 있으며 연마 매체로 물을 사용하여 표면을 적용할 때 긁힘을 효과적으로 방지할 수 있습니다. .

High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. 콜로이드 실리카 슬러리 콜로이드 실리카 슬러리는 첨단 기술을 통해 고순도 실리콘 분말로 생산됩니다. 그들은 실리콘 웨이퍼, 결정의 화학적 조합, 정밀 광학, 보석 등과 같은 다양한 재료의 나노미터 규모 화학 기계적 연마에 널리 사용됩니다. 우리는 귀하의 요구 사항을 충족시키기 위해 다양한 입자 크기를 제공할 수 있습니다. 다른 PH 값에 따라 산성 및 알칼리성 유형으로 나눌 수 있습니다. 특징 1. 높은 제거율, 큰 크기의 실리카 입자를 사용하여 빠른 마무리를 얻을 수 있습니다. 2. 귀하의 요청에 따라 다른 입자 크기를 만들 수 있습니다. 3. 고순도는 전기 제품의 불순물을 감소시킬 수 있습니다. 4. 높은 부드러운 처리, SiO2 입자는 물리적 장치에 손상을 일으키지 않습니다. 신청 광섬유 커넥터 최종 마무리

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. 다결정 다이아몬드 슬러리 Hans 다이아몬드 연마 슬러리는 대부분의 다양한 응용 분야에 적합한 PCD, DND 및 MD 시리즈를 포함합니다. 그것은 좋은 분배성, 균일 한 입자 크기 분포, 수성 및 유성 모두 사용할 수 있으며 경질 재료 랩핑 및 가공에 널리 사용됩니다. 다결정 다이아몬드 슬러리 가장 인기 있는 PCD 슬러리는 사파이어 기판, 광학 렌즈, 하드 글라스, 크리스탈, 세라믹, 자기 헤드, 하드 디스크 및 CMOS 칩 등의 랩핑 및 가공에 널리 사용되는 스크래치 없이 높은 연삭률을 제공할 수 있습니다.

Explore our high-performance abrasive polishing disc for versatile uses. Achieve precision and efficiency in grinding and polishing tasks. 랩핑 필름 탭 집 / 래핑 필름 연마 디스크 / 다이아몬드 랩핑 필름 디스크 / 다이아몬드 비드 연마 테이프는 훨씬 더 작은 미크론 크기의 다이아몬드 입자로 구성된 미크론 크기의 다이아몬드 비드로 만들어집니다. 연마과정에서 미크론 숫돌과 같은 역할을 하여 높은 연마율로 매끄러운 연마면을 제공합니다. 연마 과정에서 다이아몬드 비드는 더 작은 입자로 부서져 연마 체인 역할을 하고 일관된 연마를 제공하고 더 긴 수명을 달성합니다. 비고: 사용자 정의는 요청 시 제공됩니다. 특징 1.일관된 제거율과 긴 수명; 2. 긁힘이 없고 표면 조도가 우수합니다.

Roll polishing. The long lasting product is used to complete the product process and produce consistently superior surface finish. Cleaning: use plenty of DI water to clean the film between each use, then wipe the film with a lint-free wipe. 실리콘 카바이드 랩핑 필름 디스크 집 / 래핑 필름 연마 디스크 / 이산화규소 랩핑 필름 / 이산화규소 랩핑 필름 디스크 이산화규소 입자를 함유한 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 가장자리 유지가 중요한 최종 연마 작업에 권장됩니다. SEM 및 TEM 샘플의 최종 광택용 콜로이드 및 천의 대안으로 권장됩니다. 탄화규소 및 이산화규소 래핑 필름은 탄화규소 또는 이산화규소 입자를 포함하는 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 모서리 유지가 중요한 미세 연삭 및 래핑 작업에 권장됩니다. 특징: * 마이크론 등급의 고급 연마재로 정밀한 마감 처리 * 균일성과 샘플 평면성을 위한 정밀 백킹 * 물, 기름 및 대부분의 용매에 강함 * 캡슐화되지 않은 샘플에 사용 * 파워 헤드 애플리케이션에는 권장하지 않음 직경: 4" 6" 8" 장착: PSA(패드) 거칠기 등급: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde 입자 크기/μm: 0.3 유형: 실리콘 이산화물 랩핑 필름 디스크

Durable 3D structured lapping film for precise polishing, smoothing, and finishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. 산화세륨 랩핑 필름 및 벨트 3D 구조 필름은 입방체, 피라미드, 프리즘, 다이아몬드 패턴 등과 같은 복제 3D 패턴을 가지고 있습니다. 패턴 내부에 미세한 연마제가 포함되어 있습니다. 이러한 패턴은 균일한 높이를 가지며 일관되고 내구성 있는 연마 능력을 나타냅니다. 특징 1. 균일한 연마 모듈로 내구성 있는 연마 성능; 2. 셀프드레싱 특성으로 일관된 제거율; 3. 패턴 사이의 홈을 통해 연마 찌꺼기를 배출합니다.