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공란으로 67개 검색됨
- Cerium Oxide Lapping Film | Flexible Lapping Film
Explore cerium oxide applications for cleaning and polishing delicate surfaces, including glass, metals, and fiber optics efficiently. 산화세륨 랩핑 필름 산화세륨 랩핑 필름은 유리 또는 석영을 포함하는 부품의 정밀 세척 및 연마에 사용됩니다. 또한 금속, 세라믹 및 플라스틱과 같은 다른 기판에 미세 광택을 생성하는 데 유용합니다.이 제품은 최종 연마에 사용됩니다. 광섬유 커넥터는 정밀 광학 초정밀 가공에도 사용할 수 있습니다. 세륨 산화물 연마 슬러리의 사용은 더 나은 사용을 증가시키는 공정 참고, 연마, 시간 및 압력 조정, 연마, 깨끗한 연마 표면에 유의하십시오. 감압 접착제(PSA)가 있거나 없는 디스크, 시트 및 롤로 제공됩니다. 기능: 1. 균일한 코팅층이 있는 슬러리 코팅막은 일관된 연마 성능을 제공합니다. _cc7191905-5cde-3194-bb3b-138bad5 2. 연마 중 자체 연마 기능이 향상되었습니다. 3. Uniform particle size help to get higher passing rate. _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Can be used for different polishing process _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 5. option 로 두 가지 다른 레시피 필름 모델 Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ : 15000 10000 5dc1905-0dc1905-5cde-3194-bb3b51 Particle size/µm: 0.3 _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ 0.5 _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 유형: 세륨 산화물 래핑 필름 디스크
- Rough-Surface Monocrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry)
High-performance Rough-Surface Monocrystalline Diamond (RCD) slurry with polydisperse formula for uniform stock removal and scratch-free polishing. Rough-surface MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) 거 친 표면 MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry)는 Hans의 RCD 분말을 원료로 사용합니다. 다분산 포뮬러로 높은 균일한 제거율을 유지할 수 있으며 스크래치 발생이 용이하지 않습니다. RCD 다이아몬드 슬러리는 주로 사파이어 재료, 광학 렌즈, 경질 유리 및 수정, 초경 세라믹 및 합금 재료 등의 연삭 및 연마에 사용됩니다. 기능: 1. 거친 표면은 연마 과정에서 접점을 증가시킬 수 있습니다. 그에 따라 연마 효과를 향상시키십시오. 2. 좋은 자체 연마로 높은 제거율을 유지할 수 있습니다. 3. 많은 수의 작은 절단 턱으로 공작물의 표면 거칠기를 줄일 수 있습니다.
- Monocrystalline Diamond Slurry | Flexible Lapping Film | Hans
Grinding oil, belonging to a grinding agent. It has the following characteristics: 1) High purity and low ion content; 2) Auxiliary coarse grinding or fine grinding makes the grinding end face more delicate and easier to polish; 3) Good product stability and long storage time. 단결정 다이아몬드 슬러리 단결정 다이아몬드 슬러리는 세라믹, 주철, 금속 재료, 광학 결정 등과 같은 경질 래핑에 대한 당사의 가장 비용 효율적인 솔루션입니다. 물과 기름 모두에서 우수한 분배성, 균일한 입자 크기 분포를 제공합니다. 기반이 가능하며 경질 재료의 랩핑 및 가공에 널리 사용됩니다. 적용 분야: 1. 사파이어 기판 연삭 및 연마; 2. 아연 셀레나이드 래핑 연마, Iphone6 카메라 렌즈 래핑 및 연마, 하드 디스크 헤드 래핑 및 연마, 3. 금속 래핑/연삭, 알루미늄 합금 래핑/연삭; 몰드 랩핑/연삭; 금형 연마; 세라믹 연삭/래핑; 휴대폰 케이스/케이스 랩핑; 4. 피스톤 링 호닝.
- Hard Alloy Roller Applications | Precision Polishing & Grinding
Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd offers high-performance Diamond and Aluminum Oxide lapping and microfinishing film rolls for polishing mirror rollers, ceramic rollers, rubber rollers, and super hard metal screws. Superior precision, wear resistance, and impact durability for industrial applications. 실리콘 카바이드 랩핑 필름 디스크 이산화규소 랩핑 필름 디스크 이산화규소 입자를 함유한 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 가장자리 유지가 중요한 최종 연마 작업에 권장됩니다. SEM 및 TEM 샘플의 최종 광택용 콜로이드 및 천의 대안으로 권장됩니다. 탄화규소 및 이산화규소 래핑 필름은 탄화규소 또는 이산화규소 입자를 포함하는 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 모서리 유지가 중요한 미세 연삭 및 래핑 작업에 권장됩니다. 특징: * 마이크론 등급의 고급 연마재로 정밀한 마감 처리 * 균일성과 샘플 평면성을 위한 정밀 백킹 * 물, 기름 및 대부분의 용매에 강함 * 캡슐화되지 않은 샘플에 사용 * 파워 헤드 애플리케이션에는 권장하지 않음 직경: 4" 6" 8" 장착: PSA(패드) 거칠기 등급: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde 입자 크기/μm: 0.3 유형: 실리콘 이산화물 랩핑 필름 디스크
- Cerium Oxide Polishing Slurry | Flexible Lapping Film | Hans
Achieve precision polishing with our aluminum oxide slurry. This eco-friendly solution ensures defect-free finishes on glass surfaces. 세륨 산화물 연마 슬러리 세륨 산화물 시리즈 연마 슬러리는 환경 친화적 인 수성 연마 슬러리의 일종입니다. 고품질 연마재로 만들어진 슬러리는 분산도가 좋고 입자 크기가 균일하며 연마 효율이 높습니다. 한편, 세척이 용이하고 잔류물이 없는 특징으로 MPO/MTP 연마 공정에 매우 적합합니다. 산화세륨 슬러리는 미리 혼합된 세륨 슬러리로 병에서 꺼내 바로 연마할 수 있습니다. 분말에서 자신의 슬러리를 혼합할 필요가 없습니다. 적절하게 준비된 유리 표면에 빠르고 밝은 광택을 얻기 위해 올바르게 혼합되고 사용하기 쉽습니다. 기능: 1. 연마 공정 후 표면에 흠집이 없습니다. 2. 연마 공정 후 표면에 깨진 모서리가 없습니다. 3. 세척이 용이하고 잔류물이 없습니다. 지침 1. 사용하기 전에 병을 흔들어 연마제가 재분산되도록 합니다. 2. Pls는 PU 시리즈 연마 패드가 있는 슬러리를 사용합니다.
- Optical Communication Polishing Solutions | HANS
Discover professional fiber optic connector polishing solutions for flawless results. Achieve superior finishes with our advanced products. 실리콘 카바이드 랩핑 필름 디스크 이산화규소 랩핑 필름 디스크 이산화규소 입자를 함유한 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 가장자리 유지가 중요한 최종 연마 작업에 권장됩니다. SEM 및 TEM 샘플의 최종 광택용 콜로이드 및 천의 대안으로 권장됩니다. 탄화규소 및 이산화규소 래핑 필름은 탄화규소 또는 이산화규소 입자를 포함하는 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 모서리 유지가 중요한 미세 연삭 및 래핑 작업에 권장됩니다. 특징: * 마이크론 등급의 고급 연마재로 정밀한 마감 처리 * 균일성과 샘플 평면성을 위한 정밀 백킹 * 물, 기름 및 대부분의 용매에 강함 * 캡슐화되지 않은 샘플에 사용 * 파워 헤드 애플리케이션에는 권장하지 않음 직경: 4" 6" 8" 장착: PSA(패드) 거칠기 등급: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde 입자 크기/μm: 0.3 유형: 실리콘 이산화물 랩핑 필름 디스크
- 404 Error Page | Flexible Lapping Film
Abrasive Lapping film/Polishing Film is coated with precisely graded minerals (such as diamond, aluminum oxide, silicon carbide, silicon oxide, cerium oxide and so on) on the high strength polyester backing to provide a uniform, consistent finish. With or without PSA (Pressure Sensitive Adhesive) backing, and available in sheets, discs and rolls for meeting the use on any type of polishing equipment. These films are widely used in the polishing of fiber optic connectors, roller, hard disk and metal parts etc. OOPS! There’s Nothing Here. The page you’re looking for can’t be found. Check the URL, or go back to the homepage. Back to Homepage






