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Explore cerium oxide applications for cleaning and polishing delicate surfaces, including glass, metals, and fiber optics efficiently. 산화세륨 랩핑 필름 산화세륨 랩핑 필름은 유리 또는 석영을 포함하는 부품의 정밀 세척 및 연마에 사용됩니다. 또한 금속, 세라믹 및 플라스틱과 같은 다른 기판에 미세 광택을 생성하는 데 유용합니다.이 제품은 최종 연마에 사용됩니다. 광섬유 커넥터는 정밀 광학 초정밀 가공에도 사용할 수 있습니다. 세륨 산화물 연마 슬러리의 사용은 더 나은 사용을 증가시키는 공정 참고, 연마, 시간 및 압력 조정, 연마, 깨끗한 연마 표면에 유의하십시오. 감압 접착제(PSA)가 있거나 없는 디스크, 시트 및 롤로 제공됩니다. 기능: 1. 균일한 코팅층이 있는 슬러리 코팅막은 일관된 연마 성능을 제공합니다. _cc7191905-5cde-3194-bb3b-138bad5 2. 연마 중 자체 연마 기능이 향상되었습니다. 3. Uniform particle size help to get higher passing rate. _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Can be used for different polishing process _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 5. option 로 두 가지 다른 레시피 필름 모델 Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ : 15000 10000 5dc1905-0dc1905-5cde-3194-bb3b51 Particle size/µm: 0.3 _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ 0.5 _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 유형: 세륨 산화물 래핑 필름 디스크

Discover high-performance diamond lapping films designed for exceptional material removal processes. Ideal for precision grinding tasks. 랩핑 필름 탭 집 / 래핑 필름 연마 디스크 / Super Resistant diamond lapping Disc / 다이아몬드 비드 연마 테이프는 훨씬 더 작은 미크론 크기의 다이아몬드 입자로 구성된 미크론 크기의 다이아몬드 비드로 만들어집니다. 연마과정에서 미크론 숫돌과 같은 역할을 하여 높은 연마율로 매끄러운 연마면을 제공합니다. 연마 과정에서 다이아몬드 비드는 더 작은 입자로 부서져 연마 체인 역할을 하고 일관된 연마를 제공하고 더 긴 수명을 달성합니다. 비고: 사용자 정의는 요청 시 제공됩니다. 특징 1.일관된 제거율과 긴 수명; 2. 긁힘이 없고 표면 조도가 우수합니다.

High-purity monocrystalline diamond powder with sharp edges for precision grinding, polishing, and finishing in optical, semiconductor, and industrial applications. 폭발 나노 다이아몬드 분말 집 / 래핑 폴리싱 파우더 / 단결정 다이아몬드 분말 / 단결정 다이아몬드 분말은 분쇄, 성형, 등급화 및 기타 공정을 통해 고품질 다이아몬드로 만들어집니다. 단결정 다이아몬드 분말은 날카로운 모서리와 높은 경도를 가지고 있습니다.특징 1. 나노미터 및 서브미크론 입자 사용 가능; 2. 입자 크기 분포가 좁고 래핑 효율이 높고 예상치 못한 스크래치가 적습니다. 3. 고순도, 100ppm 미만의 금속 불순물.

Durable 3D structured lapping film for precise polishing, smoothing, and finishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. 산화세륨 랩핑 필름 및 벨트 3D 구조 필름은 입방체, 피라미드, 프리즘, 다이아몬드 패턴 등과 같은 복제 3D 패턴을 가지고 있습니다. 패턴 내부에 미세한 연마제가 포함되어 있습니다. 이러한 패턴은 균일한 높이를 가지며 일관되고 내구성 있는 연마 능력을 나타냅니다. 특징 1. 균일한 연마 모듈로 내구성 있는 연마 성능; 2. 셀프드레싱 특성으로 일관된 제거율; 3. 패턴 사이의 홈을 통해 연마 찌꺼기를 배출합니다.

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd offers high-performance Diamond and Aluminum Oxide lapping and microfinishing film rolls for polishing mirror rollers, ceramic rollers, rubber rollers, and super hard metal screws. Superior precision, wear resistance, and impact durability for industrial applications. 실리콘 카바이드 랩핑 필름 디스크 이산화규소 랩핑 필름 디스크 이산화규소 입자를 함유한 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 가장자리 유지가 중요한 최종 연마 작업에 권장됩니다. SEM 및 TEM 샘플의 최종 광택용 콜로이드 및 천의 대안으로 권장됩니다. 탄화규소 및 이산화규소 래핑 필름은 탄화규소 또는 이산화규소 입자를 포함하는 수지로 코팅된 마일라 필름으로 구성됩니다. 모서리 유지가 중요한 미세 연삭 및 래핑 작업에 권장됩니다. 특징: * 마이크론 등급의 고급 연마재로 정밀한 마감 처리 * 균일성과 샘플 평면성을 위한 정밀 백킹 * 물, 기름 및 대부분의 용매에 강함 * 캡슐화되지 않은 샘플에 사용 * 파워 헤드 애플리케이션에는 권장하지 않음 직경: 4" 6" 8" 장착: PSA(패드) 거칠기 등급: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-5cde 입자 크기/μm: 0.3 유형: 실리콘 이산화물 랩핑 필름 디스크

Innovative polycrystalline diamond slurry designed for precise gemstone polishing, delivering superior performance, consistent results, and smooth finishes. PCD 다이아몬드 연마 슬러리 절단 및 연마 효율을 극대화하기 위해 PCD 분말 및 수용성/유용성 캐리어 액체 로 제조된 다결정 다이아몬드 슬러리. PCD Slurry는 높은 제거율, 적은 스크래치, 안정적인 연삭율 및 균일한 연마면을 제공합니다. 우리는 또한 고객의 특정 요구 사항에 따라 슬러리를 사용자 정의할 수 있습니다. 특징 1. 자체 생산 분말 이점은 사용되는 고품질 원료를 확인합니다. 2. 특수 포뮬러는 우수한 분산성과 높은 제거율을 유지하면서 스크래치가 적습니다. 3. 안정된 연삭율과 균일한 연마면을 얻을 수 있습니다. 애플리케이션 1. 사파이어 소재 2. 하드 디스크 3. 경질 세라믹 4. 씰링 링

High-performance Rough-Surface Monocrystalline Diamond (RCD) slurry with polydisperse formula for uniform stock removal and scratch-free polishing. Rough-surface MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry) 거친 표면 MonoCrystalline Diamond Slurry (RCD Slurry)는 Hans의 RCD 분말을 원료로 사용합니다. 다분산 포뮬러로 높은 균일한 제거율을 유지할 수 있으며 스크래치 발생이 용이하지 않습니다. RCD 다이아몬드 슬러리는 주로 사파이어 재료, 광학 렌즈, 경질 유리 및 수정, 초경 세라믹 및 합금 재료 등의 연삭 및 연마에 사용됩니다. 기능: 1. 거친 표면은 연마 과정에서 접점을 증가시킬 수 있습니다. 그에 따라 연마 효과를 향상시키십시오. 2. 좋은 자체 연마로 높은 제거율을 유지할 수 있습니다. 3. 많은 수의 작은 절단 턱으로 공작물의 표면 거칠기를 줄일 수 있습니다.

High-quality lubricants and dispersants base liquid for flexible lapping films. Ensures consistent polishing, cooling, and even abrasive performance. 콜로이드 실리카 슬러리 윤활제는 다이아몬드 분말과 같은 연마재와 혼합하여 우수한 분산 및 현탁 효과를 달성하고 연마 연삭력을 개선하며 우수한 연삭 및 가공 효과를 얻을 수 있습니다. 환경 친화적이며 청소가 쉽습니다. 사용자 정의는 요구 사항, 에 사용할 수 있으며 고객이 사용하는 것이 더 편리합니다. 특징 1. 좋은 분산성; 2. 높은 제거율; 3. 광범위한 적용.

Achieve precision polishing with our aluminum oxide slurry. This eco-friendly solution ensures defect-free finishes on glass surfaces. 세륨 산화물 연마 슬러리 세륨 산화물 시리즈 연마 슬러리는 환경 친화적 인 수성 연마 슬러리의 일종입니다. 고품질 연마재로 만들어진 슬러리는 분산도가 좋고 입자 크기가 균일하며 연마 효율이 높습니다. 한편, 세척이 용이하고 잔류물이 없는 특징으로 MPO/MTP 연마 공정에 매우 적합합니다. 산화세륨 슬러리는 미리 혼합된 세륨 슬러리로 병에서 꺼내 바로 연마할 수 있습니다. 분말에서 자신의 슬러리를 혼합할 필요가 없습니다. 적절하게 준비된 유리 표면에 빠르고 밝은 광택을 얻기 위해 올바르게 혼합되고 사용하기 쉽습니다. 기능: 1. 연마 공정 후 표면에 흠집이 없습니다. 2. 연마 공정 후 표면에 깨진 모서리가 없습니다. 3. 세척이 용이하고 잔류물이 없습니다. 지침 1. 사용하기 전에 병을 흔들어 연마제가 재분산되도록 합니다. 2. Pls는 PU 시리즈 연마 패드가 있는 슬러리를 사용합니다.

Achieve precision with our abrasive film discs, perfect for polishing and finishing. Durable and efficient, these abrasive film discs deliver. 알루미늄 산화물 랩핑 필름 롤 미세 마무리 필름 롤은 고강도 PET 필름에 연마 입자를 균일하게 코팅하여 생산하므로 고효율을 제공하고 경면 마무리 결과를 얻을 수 있습니다. 사용 가능한 연마 재료는 공작물 마무리 요구 사항의 다양한 경도를 충족시키기 위해 산화 알루미늄, 탄화 규소 및 다이아몬드 등입니다. 기능 _cc781905-5cde-31954-bb_3b-1386bad5cf 1. 연마 입자가 잘 도금된 높은 제거율; 2. 긁힘이 쉽고 플러그가 적습니다. 3. 균일한 PET 백킹 및 연마재 도금으로 일관된 마감 성능; 4. 고객을 위한 긴 내구성 및 좋은 비용 성과.

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High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. 다결정 다이아몬드 슬러리 Hans 다이아몬드 연마 슬러리는 대부분의 다양한 응용 분야에 적합한 PCD, DND 및 MD 시리즈를 포함합니다. 그것은 좋은 분배성, 균일 한 입자 크기 분포, 수성 및 유성 모두 사용할 수 있으며 경질 재료 랩핑 및 가공에 널리 사용됩니다. 다결정 다이아몬드 슬러리 가장 인기 있는 PCD 슬러리는 사파이어 기판, 광학 렌즈, 하드 글라스, 크리스탈, 세라믹, 자기 헤드, 하드 디스크 및 CMOS 칩 등의 랩핑 및 가공에 널리 사용되는 스크래치 없이 높은 연삭률을 제공할 수 있습니다.