超微粒研磨粉は、高度なグレーディング技術により、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウムの3種類の超微粒研磨粉を製造しています。それらは、高純度、優れた結晶形状、および均一な粒子サイズ分布を特徴としています。

これらは主に光学、通信、ディスプレイ、半導体、データストレージ業界などで使用されています。

特徴

1.微粒子サイズと調整可能な研磨効果により、さまざまな研磨要件を満たすことができます。

2. 集中化された粒度分布と良好な結晶形状により、短時間で精密な研磨結果を得ることができます。

3. 高純度は、ハードディスクなどの磁気記録材料、シリコンなどの半導体材料などのハイテク分野の要求に応えることができます。

アプリケーション

1. 半導体

2. 光学ガラスとクリスタル

3. ハードディスク

4. 液晶パネル

5. 光通信