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Our most popular Polycrystalline Diamond Slurry can provide high stock removal rate without scratches, widely used for the lapping and processing of sapphire substrate, optic lens, hard glasses, crystals, ceramics, magnetic heads, hard disk and CMOS chip etc. 多結晶ダイヤモンドスラリー Hans ダイヤモンド研磨スラリーには、ほとんどの異なる用途に適した PCD、DND、および MD シリーズが含まれます。分散性に優れ、粒度分布が均一で、水系、油系があり、硬質材料のラッピングや加工に広く使用されています。 多結晶ダイヤモンドスラリー 当社の最も人気のある PCD スラリーは、傷のない高い材料除去率を提供でき、サファイア基板、光学レンズ、硬質ガラス、水晶、セラミック、磁気ヘッド、ハードディスク、CMOS チップなどのラッピングおよび加工に広く使用されています。

Diamond Lapping Microfinishing Polishing Rolls is produced by coating the abrasive grains uniformly on the high strength PET film, which can provide high efficiency and achieve mirror finishing result to meet  different hardness of workpiece finishing requirments. ダイヤモンドラッピングフィルムロール マイクロフィニッシング フィルム ロールは、高強度の PET フィルムに砥粒を均一にコーティングすることによって製造され、高効率を提供し、鏡面仕上げを実現できます。 使用可能な研磨材は、 ワーク仕上げ要件のさまざまな硬度を満たすために、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、ダイヤモンドなどです。 機能 1. よくメッキされた砥粒による高い除去率; 2. 削りやすく、プラグが少ない; 3. 均一な PET バッキングと研磨剤メッキによる一貫した仕上げ性能。 4. 耐久性に優れ、コストパフォーマンスに優れています。

Our structured abrasives Lapping cloth is available in two types: soft cloth base Abrasive cloth and hard cloth base Abrasive cloth. Both types feature three-dimensional silicon carbide abrasive particles on JE-weight or X-weight cloth. ダイヤモンドラッピングフィルム ダイヤモンド ラッピング フィルムは、高強度ポリエステルの裏地に正確に等級分けされたダイヤモンド パウダーでコーティングされており、均一で一貫した仕上がりになっています。非常に硬い材料に一貫した再現性のある仕上げを提供します。サンプル内の材料や硬度の変化に関係なく、優れたエッジ保持を提供し、共平面性を維持します。通常、カプセル化されていない断面、TEM ウェッジ/平面図研磨、裏面研磨、FIB サンプル薄化に使用されます。 Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 180 240 360 400 _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 600 1000 1200 _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 2000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5 cf58d_ 2500 4000 6000 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 8000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-1036bad5cf58d_1000 Particle size/µm 80 60_cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 45 _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ 40 30 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 16 _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 15 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 d_ 9 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 6 3 _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 2 _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_1 _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 0.5 タイプ: ダイヤモンド ラッピング フィルム ディスク

Diamond lapping films provide less polishing relief than intermediate rough polishing cloths and provide a fixed diamond grinding mode. Diamond lapping films are exceptional abrasives for preparing microelectronic materials for SEM and TEM analysis. ラッピングフィルムタップ 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / ダイヤモンドラッピングフィルムディスク / ダイヤモンドビーズ研磨テープは、はるかに小さいミクロンサイズのダイヤモンド粒子で構成されるミクロンサイズのダイヤモンドビーズから作られています。研磨工程ではミクロン砥石のような役割を果たし、高い除去率で滑らかな研磨面を実現します。研磨プロセス中、ダイヤモンドビーズはより小さな粒子に分解され、研磨チェーンとして機能し、一貫した研磨を提供し、より長い寿命を実現します。 備考: ご要望に応じてカスタマイズが可能です。 特徴 1.一貫した除去率と長寿命; 2. キズがつきにくく、仕上げ面も良好です。

Grinding oil, belonging to a grinding agent. It has the following characteristics: 1) High purity and low ion content; 2) Auxiliary coarse grinding or fine grinding makes the grinding end face more delicate and easier to polish; 3) Good product stability and long storage time. CMPスラリー CMP スラリーは原料としてコロイドを取ります。さまざまな研磨材料に応じた独自の処方設計により、当社のスラリーは、研磨中にpH値がほぼ変化しないことを保証できるため、研磨速度の安定性を確保し、研磨時間を節約できます。 CMP 研磨スラリーは、さまざまなナノスケール材料の化学機械研磨に広く使用されています。サファイア素材、シリコン、ステンレス鋼、アルミニウム・マグネシウム合金、化合物結晶など。 特徴 1.均一な粒子サイズ。 (狭い分布、球面); 2. 高い研磨率。 (特殊処方。pH値が安定); 3. 平坦度が高い。 (表面品質 Ra<0.2nm TTV<3u); 4.高いサイクル寿命; 5. 低温研磨が可能です。 (35℃以下); 6. シリコンカーバイド基板の改良型。 7. 窒化アルミニウム放熱基板用の中性または弱酸性研磨スラリー。 アプリケーション 1. Silicon 超硬基板 2.サファイア素材 3. ステンレス スチール 4. 光学ガラスとクリスタル 5. 窒化アルミニウム放熱基板

Diamond lapping films provide less polishing relief than intermediate rough polishing cloths and provide a fixed diamond grinding mode. Diamond lapping films are exceptional abrasives for preparing microelectronic materials for SEM and TEM analysis. 酸化セリウムラッピングフィルムディスク 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / 酸化セリウム超硬ラッピングフィルム / 酸化セリウムラッピングフィルム（研磨シート） ) ,本製品は、光コネクタの最終研磨に使用されます。また、精密光学デバイスの超精密加工にも使用できます。このプロセスの使用において、研磨スラリーは、酸化セリウム研磨の効果を増大させる。研磨中は時間と圧力を適切に調整してください。表面をきれいにして研磨するように注意してください。ナノメートル酸化セリウム粉末を使用し、耐水性と耐アルコール性に優れています。優れた研磨効率性能、長寿命の小さなバッチ差; 顧客の要求に応じて、他の仕様もカスタマイズできます。ガムは、顧客の要求に応じてカスタマイズできます。 炭化ケイ素: Lapidary 金属、セラミックス、プラスチック。 研磨材:酸化セリウム 該当する材料: セラミックス、硬化金属、炭化物、エキゾチック合金、複合材料 アプリケーション:フラット ラッピング、光ファイバー コネクタの研磨、超仕上げ 本体素材:ポリエステルフィルム ボンド：酸化セリウムコーティング 直径: 4" 6" 8" 取り付け: PSA (パッド) 粗さグレード: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ : 15000 10000 _cc781905-5cde-3194-bad_bb35b051 Particle size/µm: 0.3 _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ 0.5 _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 タイプ: 酸化セリウム ラッピング フィルム ディスク

Aluminum Oxide Polishing Slurry is a kind of water-based, Eco-friendly polishing liquid, producing it with Superior Ultra fine polishing abrasives, featuring good dispersion, uniform Grit sizes, high polishing efficiency, mainly applied to fine polishing of MPO/MTP. 多結晶ダイヤモンドスラリー 表面優れた仕上げ AO 研磨スラリーは一種の水ベースの環境に優しい研磨液であり、優れた超微細研磨砥粒で製造され、良好な分散、均一な粒度、高い研磨効率を特徴とし、主に MPO/MTP の微細研磨に適用されます。 . 酸化アルミニウム研磨粉。高純度 (>99.99%) のアルミナ粉末と組み合わせたアルカリ化学は、光学材料、電気光学材料、レーザー結晶、眼鏡レンズ、および冶金試料の準備の精密研磨における重要なニーズに最適なソリューションを提供します。重要な研磨用途で使用され、数オングストロームに近い表面仕上げを生成します。以下のデータは機能的な粒子サイズを表していることに注意してください。これは通常、標準的な光散乱測定法で測定されたものよりも小さいです。これらは、研磨用途で粒子が圧力下でどのように作用するかを示しています。機能 1. より細かい端面仕上げ 2. 研磨後のレアエッジフラクション 3. すべてのポートで一貫したファイバーの高さ 4. スラリーの洗浄が簡単で、残留物がありません.