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Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. 半導体研磨スラリー 半導体研磨剤は、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、リン化インジウムなどの化合物半導体に対応した研磨工程と消耗品を取り揃え、各種OEMサービスも承っております。 特徴 GRISH AO 研磨スラリーの新シリーズは、InP および GaAs チップの裏面研磨用に専門的に開発されました。 高い合格率。 アプリケーション InPチップ、GaAsチップの裏面研磨に広く使用されています。 InP&GaAsの推奨研磨プロセス ロジクール ポリッシャー 最初のステップ: 薄くする, 15-30 分:3-10um酸化アルミニウム パウダー & クォーツ プレート; 第二工程：裏打ち研磨：30～40分： InP: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry with PU Polishing Pad GaAs: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry orAO-1/5-10Aluminum Oxide Polishing Slurry orSO-80-PF CMP Polishing Slurry with PU Polishing Pad

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We offer abrasive lapping films and papers in sheets, discs, rolls and belts with diamond, aluminum oxide, silicon carbide and cerium oxide coatings in a wide range of particle sizes from mesh size down to sub-micron. FAQ Frequently asked questions General How should diamond lapping film be used? To use diamond lapping film, peel a strip from the sheet and adhere it to the platen, ensuring it is centered. Use an edge-trailing stroke (up and away) with the lapping film, unlike diamond stones. What materials are ideal for diamond lapping? Boron carbide is an ideal abrasive for diamond lapping, particularly for hard materials like tungsten carbide and tempered steel. Its aggressive cutting and high stock removal capabilities make it suitable for lapping the hardest materials, including tungsten carbide and titanium carbide. What is the process of diamond lapping? Diamond lapping is a material removal method using fixed diamond abrasive particles which produce long chips of the component material . The process of making chips with a sharp abrasive grain produces the lowest amount of deformation in the component while giving the highest removal rate. Is aluminum oxide better than diamond lapping film? When comparing aluminum oxide to Diamond lapping film for precision polishing , diamond lapping film is generally considered superior. Here are the key reasons why Diamond lapping film is better than aluminum oxide: Superior Hardness : Diamond is the hardest known material, significantly harder than aluminum oxide . This allows Diamond lapping film to cut through materials more efficiently and maintain its cutting ability over a longer period. Higher Cutting Performance : The superior hardness of Diamond translates to higher cutting performance. Diamond particles can cut and abrade materials more quickly and effectively than aluminum oxide , which results in faster material removal rates and more efficient polishing processes. Durability : Diamond lapping film is more durable due to the inherent toughness of Diamond particles. This means the abrasive surface remains effective for a longer period, reducing the need for frequent replacements and thus offering better cost-effectiveness over time. Precision and Consistency : Diamond lapping film provides a more consistent and precise finish. The uniformity of Diamond particles and their ability to maintain sharpness ensures a uniform surface finish, which is crucial in high-precision applications. Versatility : Diamond lapping film can be used on a wider range of materials, including very hard substrates such as ceramics, carbide, and hardened steels. aluminum oxide , while effective, may not perform as well on these tougher materials. Reduction in Surface Damage : The cutting efficiency and sharpness of Diamond particles help in reducing the heat generated during the lapping process, which minimizes the risk of surface damage such as burns or cracks. In summary, Diamond lapping film offers better performance, durability, and precision compared to aluminum oxide , making it the preferred choice for high-precision and demanding polishing tasks. What material is best for lapping? Diamond slurries are often used in precision lapping applications, as they offer several advantages over traditional abrasives such as Alumina or silicon carbide . Diamond particles are harder and more durable than these traditional abrasives, allowing for faster material removal and improved surface finish. What is diamond lapping fluid made of? Diamond lapping fluid , also known as water-soluble coolant, is commonly used in conjunction with diamond lapping films and other precision polishing tools. This type of coolant enhances the water with additional features to improve the lapping process. Here are the details, benefits, and some challenges associated with using Diamond lapping fluid : Benefits of Diamond Fapping Fluid Enhanced Cooling : Diamond lapping fluid improves the cooling efficiency of water, helping to dissipate heat generated during the lapping process. This prevents overheating and potential damage to both the workpiece and the lapping film. Lubrication : The fluid provides better lubrication than plain water, reducing friction between the abrasive film and the workpiece. This helps in achieving a smoother finish and extending the life of the lapping film. Particle Suspension : It helps to suspend the abrasive particles and swarf (material removed from the workpiece) in the coolant, preventing clogging of the lapping film and ensuring a consistent cutting action. Corrosion Protection : Many Diamond lapping fluid s contain additives that protect both the workpiece and the lapping equipment from corrosion, especially when working with metals. Challenges of Using Diamond Fapping Fluid Concentration Management : As the water component of the coolant evaporates, the concentration of the fluid increases. This can lead to changes in the performance of the fluid, potentially causing issues with consistency and effectiveness. Regular monitoring and adjustment are necessary to maintain the correct concentration. Frequent Testing : To ensure optimal performance, the concentration of the lapping fluid needs to be tested frequently. This adds an extra maintenance step and requires the use of appropriate testing equipment and methods. Potential Residue : If not managed properly, the evaporation of water can leave behind residues that may affect the lapping process or the final finish of the workpiece. Storage and Handling : Proper storage and handling are required to maintain the efficacy of the Diamond lapping fluid . Contamination or improper storage conditions can degrade the fluid’s performance. Best Practices for Using Diamond Fapping Fluid Regular Monitoring : Implement a regular schedule for testing the concentration of the lapping fluid and adjusting it as necessary. Use a refractometer or other suitable devices to measure concentration accurately. Top-Up with Water : Regularly top up the fluid with water to compensate for evaporation and maintain the appropriate concentration. Clean Work Environment : Ensure that the work environment and all equipment used are kept clean to prevent contamination of the lapping fluid. Proper Storage : Store the fluid in a cool, dry place and keep containers sealed when not in use to prevent contamination and evaporation. By following these best practices, the advantages of using Diamond lapping fluid can be maximized while mitigating the potential challenges associated with its use. What is the main goal of the lapping process? The main goal of the lapping process is to produce parts with a uniformly smooth and flat surface. This is achieved by removing material from the high points of the part's surface through contact with a flat lap plate. How should a diamond lapping plate be cleaned? To clean a diamond lapping plate, evenly apply Bar Keepers Friend using a nylon brush. Gently scrub the plate for one to two minutes, then rinse with warm water while continuing to scrub. How much material is typically removed during the lapping process? The lapping process is gentler than honing and removes significantly less surface material. Typically, lapping removes only 0.0005” to 0.005” (0.0127 mm to 0.127 mm) of material. Therefore, the workpiece should be as close to the final size as possible before lapping, often achieved through double-disk grinding.

High-quality lubricants and dispersants base liquid for flexible lapping films. Ensures consistent polishing, cooling, and even abrasive performance. コロイダルシリカスラリー 潤滑剤は、ダイヤモンド粉末などの研磨材と混合できます。これにより、良好な分散と懸濁効果が得られ、研磨力が向上し、優れた研磨と加工効果が得られます。環境にやさしく、お手入れも簡単です。 要件に応じてカスタマイズが可能で、お客様がより便利に使用できるようになります. 特徴 1. 分散性が良い。 2.高い除去率; 3.適用範囲が広い。

Discover premium diamond abrasive discs for glass thinning and sapphire polishing. Achieve precision results with durable, high-quality tools. ラッピングフィルムタップ 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / ダイヤモンドラッピングフィルムディスク / ダイヤモンドビーズ研磨テープは、はるかに小さいミクロンサイズのダイヤモンド粒子で構成されるミクロンサイズのダイヤモンドビーズから作られています。研磨工程ではミクロン砥石のような役割を果たし、高い除去率で滑らかな研磨面を実現します。研磨プロセス中、ダイヤモンドビーズはより小さな粒子に分解され、研磨チェーンとして機能し、一貫した研磨を提供し、より長い寿命を実現します。 備考: ご要望に応じてカスタマイズが可能です。 特徴 1.一貫した除去率と長寿命; 2. キズがつきにくく、仕上げ面も良好です。

ITO-dedicated LCD panel cleaning flocked pile with precision coating technology. Uniformly disperses aluminum oxide for scratch-free, high-precision cleaning. 液晶パネル研磨布 Panel Polishing Fabric は、テキスタイル ベースにコーティングされた細かい研磨剤で構成されています。液晶パネルの洗浄工程に使用することで、樹脂残渣やガラスカレットを除去し、良好な洗浄性能を発揮します。 特徴： 1.優れた洗浄性能 2. 繊維の裏地による優れた柔軟性とクッション効果。 アプリケーション： 偏光フィルムを貼る前のセル工程での液晶パネルの洗浄。

Abrasive Lapping film/Polishing Film is coated with precisely graded minerals (such as diamond, aluminum oxide, silicon carbide, silicon oxide, cerium oxide and so on) on the high strength polyester backing to provide a uniform, consistent finish. With or without PSA (Pressure Sensitive Adhesive) backing, and available in sheets, discs and rolls for meeting the use on any type of polishing equipment. These films are widely used in the polishing of fiber optic connectors, roller, hard disk and metal parts etc. OOPS! There’s Nothing Here. The page you’re looking for can’t be found. Check the URL, or go back to the homepage. Back to Homepage

Achieve precision with our abrasive film discs, perfect for polishing and finishing. Durable and efficient, these abrasive film discs deliver. 酸化アルミラッピングフィルムロール マイクロフィニッシング フィルム ロールは、高強度の PET フィルムに砥粒を均一にコーティングすることによって製造され、高効率を提供し、鏡面仕上げを実現できます。 使用可能な研磨材は、 ワーク仕上げ要件のさまざまな硬度を満たすために、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、ダイヤモンドなどです。 機能 1. よくメッキされた砥粒による高い除去率; 2. 削りやすく、プラグが少ない; 3. 均一な PET バッキングと研磨剤メッキによる一貫した仕上げ性能。 4. 耐久性に優れ、コストパフォーマンスに優れています。

High-quality LCD panel cleaning flocked pile by HANS. Safely and efficiently removes debris and dust from LCD surfaces with flexible lapping film technology. 液晶パネルのお手入れ 植毛パイル 液晶パネル洗浄植毛パイル（ITO専用） 最新開発の精密コーティング技術を採用し、均一に混合 精密研磨粉--酸化アルミニウム粉と新高分子材料、複合植毛バッキングの表面にコーティング。最高の緩衝性能とクリーニング効果があり、LCD パネル ポラロイドを取り付ける前に、特に ITO クリーニングを使用する LCD パネルをクリーニングするために使用されます。 機能: 1. 高い耐摩耗性と研磨の均一性、安定した研磨と洗浄効率。 136bad5cf58d_ 2. 柔らかいバッキングは高い切削力の鉱物、ベルベット グローブ、研磨中に LCD パネルを保護します 3. ソフトフロックバッキング、優れたバッファリングとチップ保持能力を備え、効果的に傷を防ぎます。 4. 裏面に帯電防止コーティングを施しており、帯電防止機能に優れています。 アプリケーション: あらゆる種類の精密電子部品の研磨と洗浄に使用されます。例: 1. TFT-LCD パネル表面のクリーニング、特に ITO コーティング パネルのクリーニング用 2. 中小型パネル手動洗浄 3.精密光学ガラス表面の洗浄と研磨。 4.パッドと携帯電話カバーのクリーニングと研磨。

Explore superfinishing and grinding machines from Hans Diamond Abrasive Tools, featuring precision lapping film for high-accuracy polishing. Ideal for metals, ceramics, glass, and other hard materials, delivering smooth surfaces and superior finishing performance. 炭化ケイ素ラッピングフィルムディスク / 二酸化ケイ素ラッピングフィルム / 二酸化ケイ素ラッピングフィルムディスク は、二酸化ケイ素粒子を含む樹脂でコーティングされたマイラー フィルムで構成されています。エッジの保持が重要な最終研磨アプリケーションに推奨されます。 SEM および TEM サンプルの最終研磨用のコロイドおよびクロスの代替として推奨されます。これらは、エッジの保持が重要な精密研削およびラッピング アプリケーションに推奨されます。 特徴： * ミクロングレードのプレミアム研磨剤で正確な仕上げを実現。 * 均一性とサンプルの平面性のための精密バッキング * 水、油、ほとんどの溶剤に耐性があります * カプセル化されていないサンプルに使用 * パワーヘッド用途にはお勧めしません 直径: 4" 6" 8" 取り付け: PSA (パッド) 粗さグレード: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 粒子サイズ/μm: 0.3 タイプ: シリコン 二酸化物 ラッピングフィルムディスク

High-performance ultra fine polishing powder for precision finishing on glass, metal, ceramics, and semiconductors. Ideal for flexible lapping applications. 超微研磨粉 家 / ラッピング研磨粉 / 超微研磨粉 / 超微粒研磨粉は、高度なグレーディング技術により、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウムの3種類の超微粒研磨粉を製造しています。それらは、高純度、優れた結晶形状、および均一な粒子サイズ分布を特徴としています。 これらは主に光学、通信、ディスプレイ、半導体、データストレージ業界などで使用されています。 特徴 1.微粒子サイズと調整可能な研磨効果により、さまざまな研磨要件を満たすことができます。 2. 集中化された粒度分布と良好な結晶形状により、短時間で精密な研磨結果を得ることができます。 3. 高純度は、ハードディスクなどの磁気記録材料、シリコンなどの半導体材料などのハイテク分野の要求に応えることができます。 アプリケーション 1. 半導体 2. 光学ガラスとクリスタル 3. ハードディスク 4. 液晶パネル 5. 光通信

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