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CF Polishing Tape is made by uniform coating of micron-graded aluminum oxide powder on PET backing. It is used to flatten the protrusion point and repair the defects effectively in LCD color filter process. CFフィルム研磨タップ 家 / ラッピングフィルム研磨タップ / CFフィルム研磨テープ / CF研磨テープは、PET基材にミクロン単位の酸化アルミニウム粉末を均一にコーティングしたものです。液晶カラーフィルター工程で突起部を平坦化し、欠陥を効果的に修復するために使用されます。 特徴 1. 非常に均一なコーティング表面と一貫した厚さ; 2. 滑らかでまっすぐな刃先; 3. 清潔。

Silicon Carbide Polishing Slurry series are produced by super fine abrasive. They provide superior finishing result on high-precision optical material, Hard disk, Substrates wafer, Optical fiber connectors,Magnetic heads, Crystal compounds, Ceramics and Hard alloys etc. 炭化ケイ素研磨スラリー 原子的に滑らかで欠陥のない SiC (炭化ケイ素) ウェーハのスケーラブルな製造のための高性能スラリー Si 面、C 面、および単結晶または多結晶表面の SiC ウェーハのラッピングまたは機械研磨用に特別に設計された、バッチおよびシングル用に最適化されたソリューション- 所有コストの向上を実現するウェーハ CMP システム。スラリーには、均一性を維持し、表面下の損傷をなくしながら、既存のプロセスよりも最大 10 倍高速な超高速研磨速度を提供する高度な添加剤が含まれています。

MPO（Multi-fiber Push On）Fiber Optic connector is a type of Plug and Play connector with multi-fiber cables as signal transmitting channels, Thus will require the polishing film being with the self-sharpening property, ensuring the Core Dip value will be positive one. ダイヤモンドラッピングフィルム MPO（マルチファイバー プッシュ オン）光ファイバー コネクタは、信号伝送チャネルとしてマルチファイバー ケーブルを使用したプラグ アンド プレイ コネクタの一種です。したがって、コア ディップ値が確実に自己研磨特性を持つ研磨フィルムが必要になります。ポジティブなもの。 MPO専用のGrish SCポリッシングフィルムは、進化したコーティングレシピを採用し、最先端の製造技術を駆使してお客様のマニホールド研磨条件に適合する可能性の高いコーティングを施しています。 機能: 1. 均一なコーティング層を有するスラリーコーティング膜により、安定した研磨性能が得られます。 _cc781905-5cde-3194-bb3b-138d_bad5 2. 研磨中のより優れたセルフシャープニング機能を搭載 3. Uniform particle size help to get higher passing rate. _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Can be used for different polishing process _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 5. Two different recipe film models as option _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_

Micro-Finishing Lapping Microfinishing Polishing Rolls is produced by coating the abrasive grains uniformly on the high strength PET film, which can provide high efficiency and achieve mirror finishing result to meet  different hardness of workpiece finishing requirments. マイクロフィニッシングフィルムロール マイクロフィニッシング フィルム ロールは、高強度の PET フィルムに砥粒を均一にコーティングすることによって製造され、高効率を提供し、鏡面仕上げを実現できます。 使用可能な研磨材は、 ワーク仕上げ要件のさまざまな硬度を満たすために、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、ダイヤモンドなどです。 機能 1. よくメッキされた砥粒による高い除去率; 2. 削りやすく、プラグが少ない; 3. 均一な PET バッキングと研磨剤メッキによる一貫した仕上げ性能。 4. 耐久性に優れ、コストパフォーマンスに優れています。

colloidal silica slurries are produced by high purity silicon powder through advanced technology. They are widely used for nanometer scale chemical mechanical polishing in a variety of materials such as silicon wafer, chemical combination of crystals, precise optics, gemstones etc. コロイダルシリカスラリー コロイダルシリカスラリーは、高度な技術により高純度のシリコン粉末から製造されています。それらは、シリコンウェーハ、結晶の化学的組み合わせ、精密光学、宝石などのさまざまな材料のナノメートルスケールの化学機械研磨に広く使用されています。お客様の要件を満たすために、さまざまな粒子サイズを提供できます。異なるPH値によると、酸性タイプとアルカリ性タイプに分けることができます。 特徴 1. 高い除去率、大きなサイズのシリカ粒子を使用することにより、迅速な仕上げを実現できます。 2. ご要望に応じて、異なる粒子サイズを作成できます。 3.高純度は電気製品の不純物を減らすことができます; 4. 高い滑らかな処理、SiO2 粒子は物理デバイスに損傷を与えません。 応用 光ファイバー コネクタの最終仕上げ.

Roll polishing. The long lasting product is used to complete the product process and produce consistently superior surface finish. Cleaning: use plenty of DI water to clean the film between each use, then wipe the film with a lint-free wipe. 炭化ケイ素ラッピングフィルムディスク 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / 二酸化ケイ素ラッピングフィルム / 二酸化ケイ素ラッピングフィルムディスク は、二酸化ケイ素粒子を含む樹脂でコーティングされたマイラー フィルムで構成されています。エッジの保持が重要な最終研磨アプリケーションに推奨されます。 SEM および TEM サンプルの最終研磨用のコロイドおよびクロスの代替として推奨されます。これらは、エッジの保持が重要な精密研削およびラッピング アプリケーションに推奨されます。 特徴： * ミクロングレードのプレミアム研磨剤で正確な仕上げを実現。 * 均一性とサンプルの平面性のための精密バッキング * 水、油、ほとんどの溶剤に耐性があります * カプセル化されていないサンプルに使用 * パワーヘッド用途にはお勧めしません 直径: 4" 6" 8" 取り付け: PSA (パッド) 粗さグレード: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 粒子サイズ/μm: 0.3 タイプ: シリコン 二酸化物 ラッピングフィルムディスク

Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time ダイヤモンドラッピングフィルム Grooved Lapping Film は グラビア印刷と微細構造反復技術によって製造され、裏材に精密研磨剤をコーティングして凹凸構造研磨シートを製造し、LCD プロセスでチップ前面パネルを洗浄するために使用され、より高い研磨力を持っています。洗浄力と長寿命。 機能 1.マイクロユニットは製品の表面で同じ高さであり、研削の均一性を保証できます。 2.製品のマイクロユニットは四角錐構造で、より高い洗浄能力を保証できます。 3. 製品のマイクロユニットには自己研磨能力があります。 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. 製品の表面にはチップ溝が均一に分散されており、チップ除去の最高の能力を保証できます。

We offer abrasive lapping films and papers in sheets, discs, rolls and belts with diamond, aluminum oxide, silicon carbide and cerium oxide coatings in a wide range of particle sizes from mesh size down to sub-micron. お問い合わせ ハンス研磨ラッピングフィルムにご関心をお寄せいただきありがとうございます。 お問い合わせ先: 送信 提出していただきありがとうございます。 住所 111th Liuquan Road Zhangdian Zibo 山東省 中国 flexibleabrasive@gmail.com Whatsapp と電話: 13805339219

Our machine employs a swing motion system that utilizes 4 guide posts and 8 bearings, unlike the 2 guide posts and 4 bearings used by 3M. This advanced system effectively reduces the appearance of roller surface after polishing, providing a smoother and more polished finish. 炭化ケイ素ラッピングフィルムディスク / 二酸化ケイ素ラッピングフィルム / 二酸化ケイ素ラッピングフィルムディスク は、二酸化ケイ素粒子を含む樹脂でコーティングされたマイラー フィルムで構成されています。エッジの保持が重要な最終研磨アプリケーションに推奨されます。 SEM および TEM サンプルの最終研磨用のコロイドおよびクロスの代替として推奨されます。これらは、エッジの保持が重要な精密研削およびラッピング アプリケーションに推奨されます。 特徴： * ミクロングレードのプレミアム研磨剤で正確な仕上げを実現。 * 均一性とサンプルの平面性のための精密バッキング * 水、油、ほとんどの溶剤に耐性があります * カプセル化されていないサンプルに使用 * パワーヘッド用途にはお勧めしません 直径: 4" 6" 8" 取り付け: PSA (パッド) 粗さグレード: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 粒子サイズ/μm: 0.3 タイプ: シリコン 二酸化物 ラッピングフィルムディスク

The Diamond Thinning Pad is a top-quality abrasive disc designed for glass thinning and sapphire polishing. It is the perfect solution for fine grinding of optic glass, BK7, fused silica, glass ceramic, crystal line, and brittle glassy materials. ラッピングフィルムタップ 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / ダイヤモンドラッピングフィルムディスク / ダイヤモンドビーズ研磨テープは、はるかに小さいミクロンサイズのダイヤモンド粒子で構成されるミクロンサイズのダイヤモンドビーズから作られています。研磨工程ではミクロン砥石のような役割を果たし、高い除去率で滑らかな研磨面を実現します。研磨プロセス中、ダイヤモンドビーズはより小さな粒子に分解され、研磨チェーンとして機能し、一貫した研磨を提供し、より長い寿命を実現します。 備考: ご要望に応じてカスタマイズが可能です。 特徴 1.一貫した除去率と長寿命; 2. キズがつきにくく、仕上げ面も良好です。

Grinding oil, belonging to a grinding agent. It has the following characteristics: 1) High purity and low ion content; 2) Auxiliary coarse grinding or fine grinding makes the grinding end face more delicate and easier to polish; 3) Good product stability and long storage time. 半導体研磨スラリー 半導体研磨剤は、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ガリウム、ヒ化ガリウム、リン化インジウムなどの化合物半導体に対応した研磨工程と消耗品を取り揃え、各種OEMサービスも承っております。 特徴 GRISH AO 研磨スラリーの新シリーズは、InP および GaAs チップの裏面研磨用に専門的に開発されました。 高い合格率。 アプリケーション InPチップ、GaAsチップの裏面研磨に広く使用されています。 InP&GaAsの推奨研磨プロセス ロジクール ポリッシャー 最初のステップ: 薄くする, 15-30 分:3-10um酸化アルミニウム パウダー & クォーツ プレート; 第二工程：裏打ち研磨：30～40分： InP: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry with PU Polishing Pad GaAs: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry orAO-1/5-10Aluminum Oxide Polishing Slurry orSO-80-PF CMP Polishing Slurry with PU Polishing Pad

Diamond lapping films provide less polishing relief than intermediate rough polishing cloths and provide a fixed diamond grinding mode. Diamond lapping films are exceptional abrasives for preparing microelectronic materials for SEM and TEM analysis. ラッピングフィルムタップ 家 / ラッピングフィルム研磨ディスク / ダイヤモンドラッピングフィルムディスク / ダイヤモンドビーズ研磨テープは、はるかに小さいミクロンサイズのダイヤモンド粒子で構成されるミクロンサイズのダイヤモンドビーズから作られています。研磨工程ではミクロン砥石のような役割を果たし、高い除去率で滑らかな研磨面を実現します。研磨プロセス中、ダイヤモンドビーズはより小さな粒子に分解され、研磨チェーンとして機能し、一貫した研磨を提供し、より長い寿命を実現します。 備考: ご要望に応じてカスタマイズが可能です。 特徴 1.一貫した除去率と長寿命; 2. キズがつきにくく、仕上げ面も良好です。