Search Results

Explore cerium oxide applications for cleaning and polishing delicate surfaces, including glass, metals, and fiber optics efficiently. ฟิล์มขัดซีเรียมออกไซด์ ฟิล์มขัดซีเรียมออกไซด์ใช้สำหรับทำความสะอาดและขัดเงาชิ้นส่วนที่มีแก้วหรือควอตซ์อย่างแม่นยำ นอกจากนี้ยังมีประโยชน์สำหรับการขัดเงาบนพื้นผิวอื่นๆ เช่น โลหะ เซรามิก และพลาสติก ผลิตภัณฑ์นี้ใช้สำหรับขัดเงาขั้นสุดท้าย ตัวเชื่อมต่อไฟเบอร์ออปติกยังสามารถใช้สำหรับการตัดเฉือนออปติกที่มีความแม่นยำสูงเป็นพิเศษ ใช้กระบวนการทราบว่าสารละลายขัดซีเรียมออกไซด์เพิ่มการใช้ดีขึ้น ขัด ปรับเวลาและความดัน ขัด โปรดทราบพื้นผิวขัดสะอาด มีจำหน่ายในรูปแบบแผ่น แผ่น และม้วน โดยมีหรือไม่มีกาวไวต่อแรงกด (PSA) คุณสมบัติ: 1. ฟิล์มเคลือบสารละลายที่มีชั้นเคลือบสม่ำเสมอส่งผลให้ประสิทธิภาพการขัดเงาสม่ำเสมอ _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 2. มีการลับให้คมขึ้นระหว่างการขัดเงา _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58_d_ _cc311905-bad5c3b-f 3. ขนาดอนุภาคสม่ำเสมอช่วยให้ได้อัตราการผ่านที่สูงขึ้น _cc781905-bad378d _cc781905-5cdeb58 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. สามารถใช้กับกระบวนการขัดต่างๆ ได้ _cc781905-5cde-3194_bad bb3b-136bad5cf58d_ 5. ฟิล์มสูตรต่างๆ 2 รุ่น ได้แก่ option ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ : _cc3781905_bad5_bdh 10000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 ขนาดอนุภาค/µm: 0.3 _cc781905-5ccde-3194_5cb58d 136bad5cf58d_ 0.5 _cc781905-5cde-3194-5dcf58d_ _cc781905-5cde-3194-5df-3194-5dcf58d_d -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 ชนิด: แผ่นฟิล์มขัดซีเรียมออกไซด์

Discover high-performance diamond lapping films designed for exceptional material removal processes. Ideal for precision grinding tasks. ก๊อกฟิล์มขัด บ้าน / แผ่นขัดฟิล์มขัด / Super Resistant diamond lapping Disc / Diamond-Bead Polishing Tape ทำจากเม็ดเพชรขนาดไมครอนซึ่งประกอบด้วยอนุภาคเพชรขนาดไมครอนที่เล็กกว่ามาก มันทำหน้าที่เหมือนหินเจียรระดับไมครอนในระหว่างกระบวนการขัดเงา และให้พื้นผิวที่ขัดเรียบด้วยอัตราการขจัดที่สูง ในระหว่างกระบวนการขัด เม็ดเพชรจะแตกเป็นอนุภาคขนาดเล็ก ซึ่งทำหน้าที่เป็นห่วงโซ่การขัดและให้การขัดที่สม่ำเสมอและมีอายุการใช้งานยาวนานขึ้น หมายเหตุ: การปรับแต่งตามคำขอ คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดที่สม่ำเสมอและอายุการใช้งานยาวนาน 2. ปราศจากรอยขีดข่วนและสร้างพื้นผิวที่เหนือกว่า

Premium polycrystalline diamond powder for precision grinding, lapping, and polishing. High hardness, durability, and superior performance for industrial applications. ผงขัดละเอียดพิเศษ Ultra Fine Polishing Powder มีผงขัดละเอียดพิเศษสามชนิด ได้แก่ ซิลิกอนคาร์ไบด์, อะลูมิเนียมออกไซด์และซีเรียมออกไซด์ที่ผลิตโดยเทคโนโลยีการให้เกรดขั้นสูง มีลักษณะเด่นด้วยความบริสุทธิ์สูง รูปทรงคริสตัลที่ยอดเยี่ยม และการกระจายขนาดอนุภาคที่สม่ำเสมอ สิ่งเหล่านี้ส่วนใหญ่จะใช้โดยออปติก, การสื่อสาร, การแสดงผล, เซมิคอนดักเตอร์, อุตสาหกรรมการจัดเก็บข้อมูลและอื่น ๆ คุณสมบัติ 1. ขนาดอนุภาคละเอียดและประสิทธิภาพการขัดที่ปรับได้สามารถตอบสนองความต้องการการขัดต่างๆ 2. การกระจายขนาดอนุภาคแบบรวมศูนย์และรูปทรงคริสตัลที่ดีสามารถบรรลุผลการขัดที่แม่นยำในเวลาอันสั้น 3. ความบริสุทธิ์สูงสามารถตอบสนองคำขอจากวัสดุบันทึกแม่เหล็ก เช่น ฮาร์ดดิสก์ และวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ เช่น ซิลิกอนและเขตข้อมูลไฮเทคอื่นๆ แอปพลิเคชั่น 1. เซมิคอนดักเตอร์ 2. แก้วแสงและคริสตัล 3. ฮาร์ดดิสก์ 4. จอ LCD 5. การสื่อสารด้วยแสง

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. สารกึ่งตัวนำขัดสารละลาย Semiconductor Polishing Slurry มีกระบวนการขัดเงาและวัสดุสิ้นเปลืองที่สอดคล้องกันสำหรับสารกึ่งตัวนำแบบผสม รวมถึงซิลิกอนคาร์ไบด์ อะลูมิเนียมไนไตรด์ แกลเลียมไนไตรด์ แกลเลียมอาร์เซไนด์ อินเดียมฟอสไฟด์ ฯลฯ และยังให้บริการ OEM ประเภทต่างๆ คุณสมบัติ GRISH ชุดใหม่ของ AO Polishing slurry ได้รับการพัฒนาอย่างมืออาชีพสำหรับการขัดด้านหลังของ InP & GaAs Chips. เมื่อเทียบกับ Logitech Slurry มันมีอัตราการขจัดที่สูง ความเรียบของพื้นผิวที่ดีขึ้น (Ra, TTV, LTV) อัตราวุฒิการศึกษาสูง แอปพลิเคชั่น ใช้กันอย่างแพร่หลายใน InP Chip และ GaAs Chip back polishing แนะนำขั้นตอนการขัด InP&GaAs เครื่องขัดเงา Logitech ขั้นตอนแรก: การทำให้ผอมบาง 15-30 นาที：3-10umAluminum oxide Powder & Quartz Plate； ขั้นตอนที่สอง: ขัดเงาด้านหลัง：30-40 นาที： InP: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry พร้อมด้วย PU polishing Pad GaAs: AO-1/3-20Aluminum Oxide Polishing Slurry OrAO-1/5-10Aluminum Oxide Polishing Slurry orSO-80-PF CMP Polishing Slurry ร่วมกับ PU polishing Pad

High-performance ultra fine polishing powder for precision finishing on glass, metal, ceramics, and semiconductors. Ideal for flexible lapping applications. ผงขัดละเอียดพิเศษ บ้าน / แป้งขัดเงา / ผงขัดละเอียดพิเศษ / Ultra Fine Polishing Powder มีผงขัดละเอียดพิเศษสามชนิด ได้แก่ ซิลิกอนคาร์ไบด์, อะลูมิเนียมออกไซด์และซีเรียมออกไซด์ที่ผลิตโดยเทคโนโลยีการให้เกรดขั้นสูง มีลักษณะเด่นด้วยความบริสุทธิ์สูง รูปทรงคริสตัลที่ยอดเยี่ยม และการกระจายขนาดอนุภาคที่สม่ำเสมอ สิ่งเหล่านี้ส่วนใหญ่จะใช้โดยออปติก, การสื่อสาร, การแสดงผล, เซมิคอนดักเตอร์, อุตสาหกรรมการจัดเก็บข้อมูลและอื่น ๆ คุณสมบัติ 1. ขนาดอนุภาคละเอียดและประสิทธิภาพการขัดที่ปรับได้สามารถตอบสนองความต้องการการขัดต่างๆ 2. การกระจายขนาดอนุภาคแบบรวมศูนย์และรูปทรงคริสตัลที่ดีสามารถบรรลุผลการขัดที่แม่นยำในเวลาอันสั้น 3. ความบริสุทธิ์สูงสามารถตอบสนองคำขอจากวัสดุบันทึกแม่เหล็ก เช่น ฮาร์ดดิสก์ และวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ เช่น ซิลิกอนและเขตข้อมูลไฮเทคอื่นๆ แอปพลิเคชั่น 1. เซมิคอนดักเตอร์ 2. แก้วแสงและคริสตัล 3. ฮาร์ดดิสก์ 4. จอ LCD 5. การสื่อสารด้วยแสง

Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time ฟิล์มขัดเพชร Grooved Lapping Film ผลิตโดย การพิมพ์แผ่นแม่พิมพ์และเทคโนโลยีการทำซ้ำโครงสร้างจุลภาค การเคลือบสารกัดกร่อนที่มีความแม่นยำบน backing เพื่อผลิตแผ่นขัดโครงสร้างเว้า-นูน ใช้ทำความสะอาดแผงด้านหน้าของชิปในกระบวนการ LCD มีการขัดที่สูงขึ้น ความสามารถในการทำความสะอาดและอายุการใช้งานยาวนานขึ้น คุณสมบัติ 1. ไมโครยูนิตมีความสูงเท่ากันบนพื้นผิวของผลิตภัณฑ์ สามารถรับประกันความสม่ำเสมอของการเจียร 2. ผลิตภัณฑ์ไมโครยูนิตเป็นโครงสร้างพีระมิดรูปสี่เหลี่ยมผืนผ้าสามารถรับประกันความสามารถในการทำความสะอาดที่สูงขึ้น 3. ผลิตภัณฑ์ไมโครยูนิตมีความสามารถในการลับคมตัวเอง can รับประกันความสามารถในการทำความสะอาดที่มั่นคงตลอดอายุการใช้งาน _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf781905_ 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. พื้นผิวของผลิตภัณฑ์มีร่องชิปกระจายอย่างสม่ำเสมอสามารถรับประกันความสามารถในการกำจัดเศษได้ดีที่สุด

Professional solutions for LCD panel cleaning. Ensure streak-free, dust-free, and damage-free screens for monitors, TVs, and electronic displays. แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนคาร์ไบด์ แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนไดออกไซด์ ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ ขอแนะนำสำหรับการขัดขั้นสุดท้ายที่การรักษาขอบเป็นสิ่งสำคัญ แนะนำให้ใช้แทนคอลลอยด์และผ้าสำหรับการขัดเงาขั้นสุดท้ายบนตัวอย่าง SEM และ TEM ฟิล์มเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และซิลิคอนไดออกไซด์ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนคาร์ไบด์หรือซิลิกอนไดออกไซด์ แนะนำให้ใช้กับการเจียรละเอียดและการขัดที่ขอบเป็นสิ่งสำคัญ คุณสมบัติ: * สารกัดกร่อนระดับไมครอนเกรดไมครอนเพื่อผิวงานที่แม่นยำ * การสำรองที่แม่นยำเพื่อความสม่ำเสมอและระนาบของตัวอย่าง * ต้านทานน้ำ น้ำมัน และตัวทำละลายส่วนใหญ่ * ใช้สำหรับตัวอย่างที่ไม่ห่อหุ้ม * ไม่แนะนำสำหรับการใช้งานหัวจ่ายไฟ เส้นผ่านศูนย์กลาง: 4" 6" 8" การติดตั้ง: PSA (Pad) ความหยาบ เกรด: ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 ขนาดอนุภาค/µm: 0.3 ประเภท: ซิลิโคน ไดออกไซด์ แผ่นฟิล์มขัด

High-efficiency silicon carbide microfinishing polishing rolls from HANS. Provides mirror finishes and adapts to various hardness substrates with flexible PET backing. ม้วนฟิล์มขัดซิลิคอนคาร์ไบด์ ม้วนฟิล์มไมโครฟินิชชิ่งผลิตโดยการเคลือบเม็ดขัดอย่างสม่ำเสมอบนแผ่นฟิล์ม PET ที่มีความแข็งแรงสูง ซึ่งสามารถให้ประสิทธิภาพสูงและได้ผลลัพธ์การตกแต่งกระจก วัสดุขัดที่มีจำหน่าย ได้แก่ อะลูมิเนียมออกไซด์ ซิลิกอนคาร์ไบด์ และเพชร เป็นต้น เพื่อให้ตรงตามข้อกำหนด ความแข็งที่แตกต่างกันของข้อกำหนดการตกแต่งชิ้นงาน คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดสูงด้วยเม็ดขัดเคลือบอย่างดี 2. ขูดง่ายและเสียบน้อยลง 3. ประสิทธิภาพการตกแต่งที่สม่ำเสมอพร้อมแผ่นรอง PET ที่สม่ำเสมอและการเคลือบแบบขัด 4. ความทนทานยาวนานและคุ้มค่าสำหรับลูกค้า

High-quality polishing film for MPO/MTP multi-fiber connectors, featuring self-sharpening properties to ensure positive core dip and optimal optical performance. ฟิล์มขัดเพชร MPO (Multi-fiber Push On) ขั้วต่อไฟเบอร์ออปติกเป็นขั้วต่อ Plug and Play ชนิดหนึ่งที่มีสายไฟเบอร์หลายตัวเป็นช่องส่งสัญญาณ ดังนั้นฟิล์มขัดเงาจะต้องมีคุณสมบัติในการลับคมได้เอง จึงมั่นใจได้ว่าค่า Core Dip จะเป็น บวกหนึ่ง ฟิล์มขัดเงา Grish SC พิเศษสำหรับ MPO ใช้สูตรการเคลือบที่พัฒนาแล้วเพื่อผลิตฟิล์มของเราด้วยเทคโนโลยีการผลิตชั้นนำเพื่อเคลือบฟิล์มของเรา มีความเป็นไปได้มากว่าจะเป็นไปตามสภาพการขัดที่หลากหลายของลูกค้า คุณสมบัติ: 1. ฟิล์มเคลือบสารละลายที่มีชั้นเคลือบสม่ำเสมอส่งผลให้ประสิทธิภาพการขัดเงาสม่ำเสมอ _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 2. มีการลับให้คมขึ้นระหว่างการขัดเงา _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58_d_ _cc311905-bad5c3b-f 3. ขนาดอนุภาคสม่ำเสมอช่วยให้ได้อัตราการผ่านที่สูงขึ้น _cc781905-bad378d _cc781905-5cdeb58 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. สามารถใช้กับกระบวนการขัดต่างๆ ได้ _cc781905-5cde-3194_bad bb3b-136bad5cf58d_ 5. ฟิล์มสูตรต่างๆ 2 รุ่น ได้แก่ option _cc781905-5ccde-3194_1905-bb3 bb3b-136bad5cf58d_

We offer abrasive lapping films and papers in sheets, discs, rolls and belts with diamond, aluminum oxide, silicon carbide and cerium oxide coatings in a wide range of particle sizes from mesh size down to sub-micron. FAQ Frequently asked questions General Product Selection Customization Product Use Storage and Handling Application Compatibility How should diamond lapping film be used correctly? To use diamond lapping film correctly, remove a strip from the sheet and securely adhere it to the platen, ensuring precise alignment. Utilize an edge-trailing stroke (up and away) technique, which differs from the approach used with diamond stones. What materials are most effective for diamond lapping applications? Boron carbide is particularly effective for diamond lapping, especially when processing hard materials such as tungsten carbide and tempered steel. Its aggressive cutting action and high material removal efficiency make it suitable for the most demanding applications, including tungsten carbide and titanium carbide. What is the process of diamond lapping? Diamond lapping is a material removal method using fixed diamond abrasive particles which produce long chips of the component material. The process of making chips with a sharp abrasive grain produces the lowest amount of deformation in the component while giving the highest removal rate. Is aluminum oxide better than diamond lapping film? When comparing aluminum oxide to Diamond lapping film for precision polishing, diamond lapping film is generally considered superior. Here are the key reasons why Diamond lapping film is better than aluminum oxide: Superior Hardness: Diamond is the hardest known material, significantly harder than aluminum oxide . This allows Diamond lapping film to cut through materials more efficiently and maintain its cutting ability over a longer period. Higher Cutting Performance: The superior hardness of Diamond translates to higher cutting performance. Diamond particles can cut and abrade materials more quickly and effectively than aluminum oxide , which results in faster material removal rates and more efficient polishing processes. Durability: Diamond lapping film is more durable due to the inherent toughness of Diamond particles. This means the abrasive surface remains effective for a longer period, reducing the need for frequent replacements and thus offering better cost-effectiveness over time. Precision and Consistency: Diamond lapping film provides a more consistent and precise finish. The uniformity of Diamond particles and their ability to maintain sharpness ensures a uniform surface finish, which is crucial in high-precision applications. Versatility: Diamond lapping film can be used on a wider range of materials, including very hard substrates such as ceramics, carbide, and hardened steels. aluminum oxide, while effective, may not perform as well on these tougher materials. Reduction in Surface Damage: The cutting efficiency and sharpness of Diamond particles help in reducing the heat generated during the lapping process, which minimizes the risk of surface damage such as burns or cracks. In summary, Diamond lapping film offers better performance, durability, and precision compared to aluminum oxide, making it the preferred choice for high-precision and demanding polishing tasks. What material is best for lapping? Diamond slurries are often used in precision lapping applications, as they offer several advantages over traditional abrasives such as Alumina or silicon carbide. Diamond particles are harder and more durable than these traditional abrasives, allowing for faster material removal and improved surface finish. How should you choose a diamond lapping fluid for precision finishing? You should choose a diamond lapping fluid that provides stable particle suspension, effective cooling, and consistent lubrication during processing. It should also help reduce residue buildup and support corrosion protection where required. For reliable performance, the fluid concentration should be maintained within the recommended range, and contamination should be monitored regularly. What is the main purpose of the lapping process? The main purpose of the lapping process is to achieve uniformly smooth and flat surfaces on components. This is achieved by selectively removing material from the high points of the surface through controlled interaction with a flat lap plate. What is the standard material removal rate in the lapping process? The lapping process, which is less aggressive than honing, typically removes 0.0005” to 0.005” (0.0127 mm to 0.127 mm) of material. Therefore, the workpiece should be pre-sized as closely as possible to the final dimensions, often through double-disk grinding, before lapping. What is the proper method for cleaning a diamond lapping plate? To clean a diamond lapping plate, evenly apply Bar Keepers Friend using a nylon brush. Gently scrub the plate for one to two minutes, then rinse with warm water while continuing to scrub. Ensure thorough rinsing to remove all residues.

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd offers high-performance Diamond and Aluminum Oxide lapping and microfinishing film rolls for polishing mirror rollers, ceramic rollers, rubber rollers, and super hard metal screws. Superior precision, wear resistance, and impact durability for industrial applications. แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนคาร์ไบด์ แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนไดออกไซด์ ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ ขอแนะนำสำหรับการขัดขั้นสุดท้ายที่การรักษาขอบเป็นสิ่งสำคัญ แนะนำให้ใช้แทนคอลลอยด์และผ้าสำหรับการขัดเงาขั้นสุดท้ายบนตัวอย่าง SEM และ TEM ฟิล์มเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และซิลิคอนไดออกไซด์ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนคาร์ไบด์หรือซิลิกอนไดออกไซด์ แนะนำให้ใช้กับการเจียรละเอียดและการขัดที่ขอบเป็นสิ่งสำคัญ คุณสมบัติ: * สารกัดกร่อนระดับไมครอนเกรดไมครอนเพื่อผิวงานที่แม่นยำ * การสำรองที่แม่นยำเพื่อความสม่ำเสมอและระนาบของตัวอย่าง * ต้านทานน้ำ น้ำมัน และตัวทำละลายส่วนใหญ่ * ใช้สำหรับตัวอย่างที่ไม่ห่อหุ้ม * ไม่แนะนำสำหรับการใช้งานหัวจ่ายไฟ เส้นผ่านศูนย์กลาง: 4" 6" 8" การติดตั้ง: PSA (Pad) ความหยาบ เกรด: ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 ขนาดอนุภาค/µm: 0.3 ประเภท: ซิลิโคน ไดออกไซด์ แผ่นฟิล์มขัด

Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. สารละลาย CMP สารละลาย CMP ใช้คอลลอยด์เป็นวัตถุดิบ ด้วยการออกแบบสูตรเฉพาะตามวัสดุขัดต่างๆ สารละลายของเราสามารถมั่นใจได้ว่าค่า pH แทบไม่เปลี่ยนแปลงในระหว่างการขัดเงา จึงมั่นใจได้ถึงความเสถียรของอัตราการขัดและประหยัดเวลาในการขัดเงา น้ำยาขัดเงา CMP ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการขัดเงาทางกลทางเคมีของวัสดุระดับนาโน เช่นวัสดุแซฟไฟร์ ซิลิกอน สแตนเลส อะลูมิเนียมแมกนีเซียมอัลลอย คริสตัลผสม ฯลฯ คุณสมบัติ 1. ขนาดอนุภาคสม่ำเสมอ (การกระจายแบบแคบ, พื้นผิวทรงกลม); 2. อัตราการขัดสูง (สูตรพิเศษ ค่า pH คงที่); 3. ความเรียบสูง (คุณภาพพื้นผิว Ra <0.2nm TTV <3u); 4. ชีวิตการขี่จักรยานสูง; 5. มีการขัดด้วยอุณหภูมิต่ำ (ต่ำกว่า 35 ℃); 6. ปรับปรุงประเภทสำหรับพื้นผิวซิลิกอนคาร์ไบด์; 7. สารละลายขัดกรดเป็นกลางหรืออ่อนสำหรับพื้นผิวกระจายความร้อนอลูมิเนียมไนไตรด์ แอปพลิเคชั่น 1. Silicon สารตั้งต้นคาร์ไบด์ 2. วัสดุไพลิน 3. Stainless เหล็ก 4. แก้วแสงและคริสตัล 5. พื้นผิวกระจายความร้อนอลูมิเนียมไนไตรด์