High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. สารละลายซิลิกาคอลลอยด์ สารละลายซิลิกาคอลลอยด์ผลิตโดยผงซิลิกอนที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านเทคโนโลยีขั้นสูง มีการใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการขัดด้วยสารเคมีในระดับนาโนเมตรในวัสดุที่หลากหลาย เช่น เวเฟอร์ซิลิคอน ส่วนผสมทางเคมีของคริสตัล เลนส์ที่แม่นยำ อัญมณี ฯลฯ เราสามารถจัดหาขนาดเกรนที่แตกต่างกันเพื่อตอบสนองความต้องการของคุณ ตามค่า PH ที่แตกต่างกัน สามารถแบ่งออกเป็นประเภทกรดและด่าง คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดสูง โดยใช้อนุภาคซิลิกาขนาดใหญ่ คุณสามารถบรรลุการตกแต่งอย่างรวดเร็ว 2. สามารถทำขนาดอนุภาคที่แตกต่างกันตามคำขอของคุณ 3. ความบริสุทธิ์สูงสามารถลดสิ่งเจือปนในผลิตภัณฑ์ไฟฟ้า 4. การประมวลผลที่ราบรื่นสูง อนุภาค SiO2 จะไม่ก่อให้เกิดความเสียหายต่ออุปกรณ์ทางกายภาพ แอปพลิเคชัน ขั้วต่อไฟเบอร์ออปติกขั้นสุดท้าย

Advanced structured diamond lapping discs with 3D abrasive particles for consistent, precise polishing of ceramics, metals, and other hard surfaces. ก๊อกฟิล์มขัด บ้าน / แผ่นขัดฟิล์มขัด / แผ่นฟิล์มขัดเพชร / Diamond-Bead Polishing Tape ทำจากเม็ดเพชรขนาดไมครอนซึ่งประกอบด้วยอนุภาคเพชรขนาดไมครอนที่เล็กกว่ามาก มันทำหน้าที่เหมือนหินเจียรระดับไมครอนในระหว่างกระบวนการขัดเงา และให้พื้นผิวที่ขัดเรียบด้วยอัตราการขจัดที่สูง ในระหว่างกระบวนการขัด เม็ดเพชรจะแตกเป็นอนุภาคขนาดเล็ก ซึ่งทำหน้าที่เป็นห่วงโซ่การขัดและให้การขัดที่สม่ำเสมอและมีอายุการใช้งานยาวนานขึ้น หมายเหตุ: การปรับแต่งตามคำขอ คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดที่สม่ำเสมอและอายุการใช้งานยาวนาน 2. ปราศจากรอยขีดข่วนและสร้างพื้นผิวที่เหนือกว่า

Discover our premium microfinishing film roll, designed for durability and efficiency. Achieve a flawless finish with our microfinishing film roll. ม้วนฟิล์มไมโครฟินิชชิ่ง ม้วนฟิล์มไมโครฟินิชชิ่งผลิตโดยการเคลือบเม็ดขัดอย่างสม่ำเสมอบนแผ่นฟิล์ม PET ที่มีความแข็งแรงสูง ซึ่งสามารถให้ประสิทธิภาพสูงและได้ผลลัพธ์การตกแต่งกระจก วัสดุขัดที่มีจำหน่าย ได้แก่ อะลูมิเนียมออกไซด์ ซิลิกอนคาร์ไบด์ และเพชร เป็นต้น เพื่อให้ตรงตามข้อกำหนด ความแข็งที่แตกต่างกันของข้อกำหนดการตกแต่งชิ้นงาน คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดสูงด้วยเม็ดขัดเคลือบอย่างดี 2. ขูดง่ายและเสียบน้อยลง 3. ประสิทธิภาพการตกแต่งที่สม่ำเสมอพร้อมแผ่นรอง PET ที่สม่ำเสมอและการเคลือบแบบขัด 4. ความทนทานยาวนานและคุ้มค่าสำหรับลูกค้า

Premium polycrystalline diamond powder for precision grinding, lapping, and polishing. High hardness, durability, and superior performance for industrial applications. ผงขัดละเอียดพิเศษ Ultra Fine Polishing Powder มีผงขัดละเอียดพิเศษสามชนิด ได้แก่ ซิลิกอนคาร์ไบด์, อะลูมิเนียมออกไซด์และซีเรียมออกไซด์ที่ผลิตโดยเทคโนโลยีการให้เกรดขั้นสูง มีลักษณะเด่นด้วยความบริสุทธิ์สูง รูปทรงคริสตัลที่ยอดเยี่ยม และการกระจายขนาดอนุภาคที่สม่ำเสมอ สิ่งเหล่านี้ส่วนใหญ่จะใช้โดยออปติก, การสื่อสาร, การแสดงผล, เซมิคอนดักเตอร์, อุตสาหกรรมการจัดเก็บข้อมูลและอื่น ๆ คุณสมบัติ 1. ขนาดอนุภาคละเอียดและประสิทธิภาพการขัดที่ปรับได้สามารถตอบสนองความต้องการการขัดต่างๆ 2. การกระจายขนาดอนุภาคแบบรวมศูนย์และรูปทรงคริสตัลที่ดีสามารถบรรลุผลการขัดที่แม่นยำในเวลาอันสั้น 3. ความบริสุทธิ์สูงสามารถตอบสนองคำขอจากวัสดุบันทึกแม่เหล็ก เช่น ฮาร์ดดิสก์ และวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ เช่น ซิลิกอนและเขตข้อมูลไฮเทคอื่นๆ แอปพลิเคชั่น 1. เซมิคอนดักเตอร์ 2. แก้วแสงและคริสตัล 3. ฮาร์ดดิสก์ 4. จอ LCD 5. การสื่อสารด้วยแสง

Discover the benefits of abrasive film discs for precise polishing and finishing. Abrasive film discs are versatile for metals and ceramics. แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนคาร์ไบด์ แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนไดออกไซด์ ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ ขอแนะนำสำหรับการขัดขั้นสุดท้ายที่การรักษาขอบเป็นสิ่งสำคัญ แนะนำให้ใช้แทนคอลลอยด์และผ้าสำหรับการขัดเงาขั้นสุดท้ายบนตัวอย่าง SEM และ TEM ฟิล์มเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และซิลิคอนไดออกไซด์ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนคาร์ไบด์หรือซิลิกอนไดออกไซด์ แนะนำให้ใช้กับการเจียรละเอียดและการขัดที่ขอบเป็นสิ่งสำคัญ คุณสมบัติ: * สารกัดกร่อนระดับไมครอนเกรดไมครอนเพื่อผิวงานที่แม่นยำ * การสำรองที่แม่นยำเพื่อความสม่ำเสมอและระนาบของตัวอย่าง * ต้านทานน้ำ น้ำมัน และตัวทำละลายส่วนใหญ่ * ใช้สำหรับตัวอย่างที่ไม่ห่อหุ้ม * ไม่แนะนำสำหรับการใช้งานหัวจ่ายไฟ เส้นผ่านศูนย์กลาง: 4" 6" 8" การติดตั้ง: PSA (Pad) ความหยาบ เกรด: ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 ขนาดอนุภาค/µm: 0.3 ประเภท: ซิลิโคน ไดออกไซด์ แผ่นฟิล์มขัด Frequently asked questions General Product Selection Customization Product Use Storage and Handling Application Compatibility Quality Assurance Application Support Shipping and Delivery Sampling and Evaluation Ordering and Quotations How should diamond lapping film be used correctly? To use diamond lapping film correctly, remove a strip from the sheet and securely adhere it to the platen, ensuring precise alignment. Utilize an edge-trailing stroke (up and away) technique, which differs from the approach used with diamond stones. Which abrasive materials are commonly used for demanding diamond lapping work? What is the process of diamond lapping? What material is best for lapping? How should you choose a diamond lapping fluid for precision finishing? What is the main purpose of the lapping process? What is the standard material removal rate in the lapping process? What is the proper method for cleaning a diamond lapping plate?

Precision diamond-bead polishing tape for optical glass and sapphire. Ideal for flexible lapping, fine finishing, and high-accuracy surface repair. ดอกต๊าปขัดเพชร บ้าน / ขัดฟิล์มขัดแตะ / เทปขัดเพชร / Diamond-Bead Polishing Tape ทำจากเม็ดเพชรขนาดไมครอนซึ่งประกอบด้วยอนุภาคเพชรขนาดไมครอนที่เล็กกว่ามาก มันทำหน้าที่เหมือนหินเจียรระดับไมครอนในระหว่างกระบวนการขัดเงา และให้พื้นผิวที่ขัดเรียบด้วยอัตราการขจัดที่สูง ในระหว่างกระบวนการขัด เม็ดเพชรจะแตกเป็นอนุภาคขนาดเล็ก ซึ่งทำหน้าที่เป็นห่วงโซ่การขัดและให้การขัดที่สม่ำเสมอและมีอายุการใช้งานยาวนานขึ้น หมายเหตุ: การปรับแต่งตามคำขอ คุณสมบัติ 1. อัตราการกำจัดที่สม่ำเสมอและอายุการใช้งานยาวนาน 2. ปราศจากรอยขีดข่วนและสร้างพื้นผิวที่เหนือกว่า

High-precision diamond lapping film discs from HANS. Ideal for polishing glass, metals, ceramics, and semiconductor surfaces with flexible lapping films. ฟิล์มขัดเพชร Diamond Lapping Film เคลือบด้วยผงเพชรที่มีการจัดเกรดอย่างแม่นยำบนแผ่นรองโพลีเอสเตอร์ที่มีความแข็งแรงสูงเพื่อให้พื้นผิวที่สม่ำเสมอและสม่ำเสมอ ให้พื้นผิวที่สม่ำเสมอและทำซ้ำได้บนวัสดุที่แข็งมาก โดยให้การยึดขอบที่ยอดเยี่ยมและรักษาระนาบระนาบโดยไม่คำนึงถึงวัสดุที่แตกต่างกันหรือความแข็งภายในตัวอย่าง โดยทั่วไปแล้วจะใช้สำหรับการกลึงตัดขวางแบบไม่ห่อหุ้ม, การขัดแบบลิ่ม TEM/แบบแปลน-วิว, การขัดด้านหลัง และการทำให้ตัวอย่างบางลงของ FIB มีจำหน่ายในเกรด 0.5-80 ไมโครเมตร โดยมีหรือไม่มี backing เป็น PSA (Pressure Sensitive Adhesive) ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ _cc31781395_bad5_bd1905-5bde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc311905_bad5_badcdh 240 360 _cc781905-5cde-3194-bbf317894d _cc781905-5cde-3194-bbf3b5894d_1365d -bb3b-136bad5cf58d_ 600 1000 _cc31789435cf58d 1000 _cc31789451905-bad -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 2000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5 cf58d_ 2500 4000 _cc781905-5cde-3194_bad 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 8000 10000 ขนาดอนุภาค/µm 80 _cc781905-5ccd-317895_bb3bf 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 45_cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf1905_945 _cbf581905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf1905_945 _cde -136bad5cf58d_ 40 _cc781905-5cde-3194-5dcf58d_ _cc781905-5cde-3194-5df-bdcf58d_cc781905-5cde-3194-5d 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 16 bb-c3158945cf58d_cc3178945cf58dc-3178945cf58dc-3178945cdcf-3178945cdc-3194-bb3b-136bad5cf58d_ -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 15 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 d_ 9 _cc781905-5_bb3b-136bad5cf58d_ 9 _cc781905-5_cde-3194-bb378b-136dc 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 6 bb5_cc3158945dcf58dcf-3158943dc-badcf-3158943-5bdc-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 3 _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cf58d_ _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cf58dh bb3b-136bad5cf58d_ 2 _cc3781905_bad5_cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _cc3781905_badd5_cde-190581394-5cde 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_1 _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 0.5 ชนิด: แผ่นฟิล์มขัดเพชร

Explore Hans' precision grinding solutions for polished surfaces on metals, glass, and ceramics, enhancing your production quality. เกี่ยวกับ Agrolinx ฉันเป็นวรรค คลิกที่นี่เพื่อเพิ่มข้อความของคุณเองและแก้ไขฉัน มันเป็นเรื่องง่าย. เพียงคลิก "แก้ไขข้อความ" หรือดับเบิลคลิกฉันเพื่อเพิ่มเนื้อหาของคุณเองและทำการเปลี่ยนแปลงแบบอักษร ฉันเป็นสถานที่ที่ดีสำหรับคุณในการบอกเล่าเรื่องราวและแจ้งให้ผู้ใช้ของคุณทราบข้อมูลเพิ่มเติมเกี่ยวกับคุณอีกเล็กน้อย

Explore high-performance abrasive solutions from Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd — including Structured Aluminum Oxide Abrasive Discs, Diamond Grinding Pads, Lapping Films, and Microfinishing Films. Ideal for stainless steel, aluminum-magnesium alloy, titanium alloy, and 3C device manufacturing. แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนคาร์ไบด์ แผ่นฟิล์มขัดซิลิคอนไดออกไซด์ ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนไดออกไซด์ ขอแนะนำสำหรับการขัดขั้นสุดท้ายที่การรักษาขอบเป็นสิ่งสำคัญ แนะนำให้ใช้แทนคอลลอยด์และผ้าสำหรับการขัดเงาขั้นสุดท้ายบนตัวอย่าง SEM และ TEM ฟิล์มเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และซิลิคอนไดออกไซด์ประกอบด้วยฟิล์มไมลาร์ที่เคลือบด้วยเรซินที่มีอนุภาคซิลิกอนคาร์ไบด์หรือซิลิกอนไดออกไซด์ แนะนำให้ใช้กับการเจียรละเอียดและการขัดที่ขอบเป็นสิ่งสำคัญ คุณสมบัติ: * สารกัดกร่อนระดับไมครอนเกรดไมครอนเพื่อผิวงานที่แม่นยำ * การสำรองที่แม่นยำเพื่อความสม่ำเสมอและระนาบของตัวอย่าง * ต้านทานน้ำ น้ำมัน และตัวทำละลายส่วนใหญ่ * ใช้สำหรับตัวอย่างที่ไม่ห่อหุ้ม * ไม่แนะนำสำหรับการใช้งานหัวจ่ายไฟ เส้นผ่านศูนย์กลาง: 4" 6" 8" การติดตั้ง: PSA (Pad) ความหยาบ เกรด: ตาข่าย _cc781905-5cde-3194-bb3b-3178945cfde -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 ขนาดอนุภาค/µm: 0.3 ประเภท: ซิลิโคน ไดออกไซด์ แผ่นฟิล์มขัด

High-quality lubricants and dispersants base liquid for flexible lapping films. Ensures consistent polishing, cooling, and even abrasive performance. สารละลายซิลิกาคอลลอยด์ สารหล่อลื่นสามารถผสมกับวัสดุที่มีฤทธิ์กัดกร่อน เช่น ผงเพชร ซึ่งสามารถให้ผลการกระจายตัวและกันกระเทือนที่ดี ปรับปรุงแรงขัดถู ให้ผลการเจียรและการประมวลผลที่ยอดเยี่ยม เป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมและทำความสะอาดง่าย การปรับแต่งสามารถใช้ได้ตามความต้องการ, และจะสะดวกยิ่งขึ้นสำหรับลูกค้าที่จะใช้. คุณสมบัติ 1. กระจายตัวได้ดี 2. อัตราการกำจัดสูง 3. การบังคับใช้กว้าง

Discover eco-friendly silicon carbide polishing solutions for semiconductor wafer and ceramic polishing. Achieve top results! สารละลายซิลิกอนคาร์ไบด์ขัดเงา สารละลายประสิทธิภาพสูงสำหรับการผลิตที่ปรับขนาดได้ของเวเฟอร์ SiC (ซิลิกอนคาร์ไบด์) ที่เรียบและปราศจากข้อบกพร่อง ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะสำหรับการขัดหรือขัดเวเฟอร์ SiC ด้วยเครื่องจักรด้วยพื้นผิว Si-face, C-face และ single หรือ polycrystalline โซลูชันที่ปรับให้เหมาะสมสำหรับชุดงานและชุดเดียว - ระบบเวเฟอร์ CMP ช่วยเพิ่มต้นทุนในการเป็นเจ้าของ สารละลายรวมถึงสารเติมแต่งขั้นสูงที่ให้อัตราการขัดที่สูงมาก เร็วกว่ากระบวนการที่มีอยู่ถึง 10 เท่า ในขณะที่ยังคงความสม่ำเสมอและไม่มีความเสียหายของพื้นผิวย่อย

Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. สารละลาย CMP สารละลาย CMP ใช้คอลลอยด์เป็นวัตถุดิบ ด้วยการออกแบบสูตรเฉพาะตามวัสดุขัดต่างๆ สารละลายของเราสามารถมั่นใจได้ว่าค่า pH แทบไม่เปลี่ยนแปลงในระหว่างการขัดเงา จึงมั่นใจได้ถึงความเสถียรของอัตราการขัดและประหยัดเวลาในการขัดเงา น้ำยาขัดเงา CMP ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการขัดเงาทางกลทางเคมีของวัสดุระดับนาโน เช่นวัสดุแซฟไฟร์ ซิลิกอน สแตนเลส อะลูมิเนียมแมกนีเซียมอัลลอย คริสตัลผสม ฯลฯ คุณสมบัติ 1. ขนาดอนุภาคสม่ำเสมอ (การกระจายแบบแคบ, พื้นผิวทรงกลม); 2. อัตราการขัดสูง (สูตรพิเศษ ค่า pH คงที่); 3. ความเรียบสูง (คุณภาพพื้นผิว Ra <0.2nm TTV <3u); 4. ชีวิตการขี่จักรยานสูง; 5. มีการขัดด้วยอุณหภูมิต่ำ (ต่ำกว่า 35 ℃); 6. ปรับปรุงประเภทสำหรับพื้นผิวซิลิกอนคาร์ไบด์; 7. สารละลายขัดกรดเป็นกลางหรืออ่อนสำหรับพื้นผิวกระจายความร้อนอลูมิเนียมไนไตรด์ แอปพลิเคชั่น 1. Silicon สารตั้งต้นคาร์ไบด์ 2. วัสดุไพลิน 3. Stainless เหล็ก 4. แก้วแสงและคริสตัล 5. พื้นผิวกระจายความร้อนอลูมิเนียมไนไตรด์