Explore cerium oxide applications for cleaning and polishing delicate surfaces, including glass, metals, and fiber optics efficiently. Притирочная пленка из оксида церия Притирочная пленка из оксида церия используется для прецизионной очистки и полировки деталей, содержащих стекло или кварц. Он также полезен для тонкой полировки других подложек, таких как металлы, керамика и пластик. Этот продукт используется для окончательной полировки волоконно-оптических разъемов, также может использоваться для прецизионной сверхточной обработки оптики; использование процесса обратите внимание, что суспензия для полировки оксида церия увеличивает использование лучшего, полировка, регулировка времени и давления, полировка, пожалуйста, обратите внимание на чистую полированную поверхность. Доступны в виде дисков, листов и рулонов, с клеем, чувствительным к давлению (PSA), или без него. Характеристики: 1. Пленка суспензионного покрытия с однородным слоем покрытия обеспечивает стабильные характеристики полировки. _cc781905-5cde-3194-bb5c_f586b-138d 2. Featuring better self-sharpening during polishing 3. Uniform particle size help to get higher passing rate. _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Can be used for different polishing process _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 5. Две разные модели пленки рецепта как option Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ : 15000 10000 _cc781905-5cde-3b-08bbd_3194-6bb Particle size/µm: 0.3 _cc781905-5cde-3194-bb3b- 136bad5cf58d_ 0.5 _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 Тип: Диск для притирки оксида церия

High-precision structured diamond thinning pad for glass and sapphire. Ideal for optical lapping, BK7, and fused silica. Made by Hans Diamond, China. Пленка для притирки Дом / Диск для полировки притирочной пленки / Диск с алмазной притирочной пленкой / Полировальная лента с алмазными шариками изготовлена из алмазных шариков микронного размера, которые состоят из алмазных частиц гораздо меньшего микронного размера. Он действует как микронный шлифовальный камень во время процесса полировки и обеспечивает гладкую полируемую поверхность с высокой скоростью съема. В процессе полировки алмазные шарики распадаются на более мелкие частицы, которые действуют как полировальная цепочка, обеспечивают равномерную полировку и продлевают срок службы. Примечание: индивидуальные настройки доступны по запросу. Функции 1.Постоянная скорость удаления и долгий срок службы; 2. Не оставляет царапин и обеспечивает превосходное качество поверхности.

Discover an advanced precision cleaning solution for LCD panels. Maintain clarity and protect screens with our cost-effective technology. Метчики для полировки пленки CF Дом / Кран для полировки притирочной пленки / Лента для полировки пленки CF / Полировочная лента CF изготавливается путем равномерного нанесения микронного порошка оксида алюминия на основу из ПЭТ. Он используется для выравнивания точки выступа и эффективного устранения дефектов в процессе цветного фильтра ЖК-дисплея. Функции 1. Очень однородная поверхность покрытия и постоянная толщина; 2. Гладкая и прямая режущая кромка; 3. Хорошая чистота.

Discover high-quality MTP lapping polishing film from HANS, designed for precision and durability. Includes an equipment maintenance guide. Алмазная притирочная пленка MPO (Multi-fiber Push On) Волоконно-оптический разъем представляет собой тип разъема Plug and Play с многоволоконными кабелями в качестве каналов передачи сигнала. Таким образом, полировальная пленка должна обладать свойством самозатачивания, гарантируя, что значение угла падения ядра будет положительный. Полировочная пленка Grish SC, специально предназначенная для MPO, использует усовершенствованный рецепт покрытия для производства нашей пленки с передовой технологией производства, чтобы покрыть наши пленки с такой возможностью, чтобы удовлетворить различные условия полировки клиента. Характеристики: 1. Пленка суспензионного покрытия с однородным слоем покрытия обеспечивает стабильные характеристики полировки. _cc781905-5cde-3194-bb5cbad_f586-138d_ 2. Featuring better self-sharpening during polishing 3. Uniform particle size help to get higher passing rate. _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Can be used for different polishing process _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 5. Two different recipe film models as option _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Суспензия для полировки полупроводников Полировальная суспензия для полупроводников имеет соответствующие процессы полировки и расходные материалы для составных полупроводников, включая карбид кремния, нитрид алюминия, нитрид галлия, арсенид галлия, фосфид индия и т. д., а также предлагает различные виды услуг OEM. Функции GRISH новая серия AO Polishing slurry профессионально разработана для обратной полировки чипов InP и GaAs. высокий уровень квалификации. Приложения Широко используется для полировки обратной стороны чипов InP и GaAs. Рекомендовать процесс полировки для InP&GaAs Полировщик Logitech Первый этап: разбавление, 15-30 мин: 3-10 мкм, порошок оксида алюминия и кварцевая пластина; Второй шаг: Полировка подложки: 30-40 минут: InP: AO-1/3-20 Полировочная паста на основе оксида алюминия вместе с полиуретановым полировальным диском GaAs: полировочная смесь на основе оксида алюминия AO-1/3-20 или полировальная смесь на основе оксида алюминия AO-1/5-10 или полировальная смесь на основе оксида алюминия SO-80-PF CMP вместе с полиуретановым полировальным диском

Discover premium cerium oxide lapping film rolls for precise polishing and finishing. Buy lapping film now for exceptional results! Рулон алмазной притирочной пленки Рулон пленки для микрофинишной обработки производится путем равномерного покрытия абразивных зерен на высокопрочной ПЭТ-пленке, что обеспечивает высокую эффективность и достижение зеркального результата финишной обработки. Доступные абразивные материалы: оксид алюминия, карбид кремния, алмаз и т. д., чтобы соответствовать требованиям к чистовой обработке заготовки различной твердости. Особенности 1. Высокая производительность съема абразивных зерен с хорошо нанесенным покрытием; 2. Простота очистки и меньше пробок; 3. Стабильное качество отделки с однородной основой из ПЭТ и абразивным покрытием; 4. Долгий срок службы и хорошее соотношение цены и качества для клиентов.

Discover our premium microfinishing film roll, designed for durability and efficiency. Achieve a flawless finish with our microfinishing film roll. Рулон пленки для микрофинишной обработки Рулон пленки для микрофинишной обработки производится путем равномерного покрытия абразивных зерен на высокопрочной ПЭТ-пленке, что обеспечивает высокую эффективность и достижение зеркального результата финишной обработки. Доступные абразивные материалы: оксид алюминия, карбид кремния, алмаз и т. д., чтобы соответствовать требованиям к чистовой обработке заготовки различной твердости. Особенности 1. Высокая производительность съема абразивных зерен с хорошо нанесенным покрытием; 2. Простота очистки и меньше пробок; 3. Стабильное качество отделки с однородной основой из ПЭТ и абразивным покрытием; 4. Долгий срок службы и хорошее соотношение цены и качества для клиентов.

Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. суспензия ХМП В качестве сырья для суспензии CMP используется коллоид. Благодаря уникальной формуле, разработанной в соответствии с различными полировальными материалами, наша суспензия может обеспечить практически неизменное значение pH во время полировки, что обеспечивает стабильность скорости полировки и экономит время полировки. Полировальная суспензия CMP широко используется для химико-механической полировки различных наноразмерных материалов. Например, сапфировый материал, кремний, нержавеющая сталь, алюминиево-магниевый сплав, составной кристалл и т. д. Функции 1. Равномерный размер частиц. (узкое распределение, сферическая поверхность); 2. Высокая скорость полировки. (специальная формула. Значение pH стабильно); 3. Высокая плоскостность. (качество поверхности Ra<0,2нм TTV<3u); 4. Высокий цикл жизни; 5. Возможна низкотемпературная полировка. (до 35 ℃); 6. Улучшенный тип для подложки из карбида кремния; 7. Нейтральная или слабокислотная полировальная паста для теплорассеивающей подложки из нитрида алюминия. Приложения 1. Субстрат из карбида кремния 2. Сапфировый материал 3. Нержавеющая сталь 4. Оптическое стекло и хрусталь 5. Теплоотводящая подложка из нитрида алюминия

Explore Hans' precision grinding solutions for polished surfaces on metals, glass, and ceramics, enhancing your production quality. Об Агролинкс Я абзац. Нажмите здесь, чтобы добавить свой собственный текст и отредактировать меня. Это просто. Просто нажмите «Редактировать текст» или дважды щелкните меня, чтобы добавить свой собственный контент и внести изменения в шрифт. Я — отличное место для вас, чтобы рассказать историю и дать вашим пользователям узнать о вас немного больше.

High-performance ultra fine polishing powder for precision finishing on glass, metal, ceramics, and semiconductors. Ideal for flexible lapping applications. Ультратонкий полировальный порошок Дом / Притирочный полировальный порошок / Ультратонкий полировальный порошок / Ультратонкий полировальный порошок имеет три вида ультратонкого полирующего порошка: карбид кремния, оксид алюминия и оксид церия, произведенные с использованием передовой технологии сортировки. Они характеризуются высокой чистотой, отличной формой кристаллов и равномерным распределением частиц по размерам. Они в основном используются оптикой, коммуникациями, дисплеями, полупроводниками, индустрией хранения данных и т. Д. Функции 1. Мелкий размер частиц и регулируемая эффективность полировки могут удовлетворить различные требования к полировке; 2. Централизованное распределение частиц по размерам и хорошая форма кристаллов позволяют добиться точных результатов полировки за короткое время; 3. Высокая чистота может удовлетворить требования магнитных материалов для записи, таких как жесткий диск, и полупроводниковых материалов, таких как кремний и других высокотехнологичных областей. Приложения 1. Полупроводник 2. Оптическое стекло и хрусталь 3. Жесткий диск 4. ЖК-панель 5. Оптическая связь

Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time Алмазная притирочная пленка Пленка для притирки с канавками изготавливается по технологии глубокой печати и повторения микроструктуры , нанося на подложку прецизионные абразивы для получения полировального листа с вогнуто-выпуклой структурой, используемого для очистки передней панели чипа в процессе ЖК-дисплея, имеет более высокую степень полировки. очищающая способность и более длительный срок службы. Характеристики 1. Микроблоки имеют одинаковую высоту на поверхности продукта, что гарантирует однородность помола; 2. Микроблок продукта имеет прямоугольную пирамидальную структуру, что гарантирует более высокую очищающую способность; 3. Микроблок продукта обладает самозатачивающейся способностью, can гарантирует стабильную очищающую способность в течение всего срока службы; 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Поверхность продукта имеет равномерно распределенную канавку для стружки, что может гарантировать наилучшую способность удаления стружки.

Achieve precision with our lapping film, the ultimate tool for consistent finishes. Perfect for polishing and finishing applications. Диск с притирочной пленкой Дом / Диск для полировки притирочной пленки / Полировальная пленка для прецизионной притирки покрывается точно подобранными минералами (такими как алмаз, оксид алюминия, карбид кремния, оксид кремния, оксид церия и т. д.) на основе из высокопрочного полиэстера, что обеспечивает однородную и однородную поверхность. С подложкой PSA (клей, чувствительный к давлению) или без нее, в листах, дисках и рулонах для использования на полировальном оборудовании любого типа. Эти пленки широко используются для полировки оптоволоконных разъемов, роликов, жестких дисков, металлических деталей и т. д. Притирочная пленка из оксида алюминия, притирочная пленка из карбида кремния, притирочная пленка из оксида церия и алмазная притирочная пленка — это процесс обработки, в котором какие две поверхности натираются между собой абразивом, движением руки или с помощью машины. Мы можем поставить алмазные, карбидно-кремниевые и глиноземные притирочные пленки и другие виды абразива. Эта пленка является одним из самых агрессивных средств для заточки, которые у нас есть. проверено. Эта долговечная, быстрорежущая пленка, используемая в электронной промышленности для полировки оптоволоконных компонентов и головок жестких дисков компьютеров, действительно замечательна для заточки режущих инструментов.