Suspensii de înaltă performanță pentru fabricarea scalabilă a plachetelor SiC (carbură de siliciu) netede din punct de vedere atomic și fără defecte ,Concepute special pentru leparea sau lustruirea mecanică a plachetelor de SiC cu suprafețe Si-face, C-face și suprafețe simple sau policristaline,Soluții optimizate pentru lot și singur -sisteme CMP pentru napolitane care oferă costuri de proprietate sporite, Nămolurile includ aditivi avansați care oferă o rată de lustruire ultra-înaltă, de până la 10 ori mai rapidă decât procesele existente, menținând în același timp uniformitatea și fără daune sub suprafață