Wysokowydajne zawiesiny do skalowalnej produkcji atomowo gładkich i wolnych od wad wafli SiC (węglik krzemu), Specjalnie zaprojektowane do docierania lub mechanicznego polerowania wafli SiC z powierzchnią Si, C oraz powierzchniami pojedynczymi lub polikrystalicznymi, Zoptymalizowane rozwiązania dla partii i pojedynczych -systemy waflowe CMP zapewniające podwyższony koszt posiadania, zawiesiny zawierają zaawansowane dodatki, które zapewniają ultrawysoką szybkość polerowania, do 10 razy szybszą niż istniejące procesy, przy jednoczesnym zachowaniu jednorodności i braku uszkodzeń podpowierzchniowych