Search Results

Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. CMP slurry CMP slurry tar kolloidalt som råmateriale. Med unike formler design i henhold til forskjellige poleringsmaterialer, kan slurryen vår sikre pH-verdien nesten uendret under polering, og dermed sikre stabiliteten til poleringshastigheten og spare poleringstid. CMP-poleringsslurry er mye brukt til en rekke ulike nanoskalamaterialers kjemisk mekaniske polering. Slik som safirmateriale, silisium, rustfritt stål, aluminium magnesiumlegering, sammensatt krystall, etc. Funksjoner 1. Ensartet partikkelstørrelse. (smal fordeling, sfærisk overflate); 2. Høy poleringshastighet. (spesiell formel. pH-verdien er stabil); 3. Høy flathet. (overflatekvalitet Ra<0,2nm TTV<3u); 4. Høy sykling liv; 5. Lavtemperaturpolering tilgjengelig. (Under 35 ℃); 6. Forbedret type for silisiumkarbidsubstrat; 7. Nøytral eller svak syre poleringsslurry for aluminiumnitrid varmeavledningssubstrat. applikasjoner 1. Silicon karbidsubstrat 2. Safirmateriale 3. Rustfritt stål 4. Optisk glass og krystall 5. Aluminiumnitrid varmeavledningssubstrat

Achieve precision with our lapping film, the ultimate tool for consistent finishes. Perfect for polishing and finishing applications. Lapping Film Disc Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Precision Lapping Poleringsfilm er belagt med nøyaktig graderte mineraler (som diamant, aluminiumoksid, silisiumkarbid, silisiumoksid, ceriumoksid og så videre) på polyesterunderlaget med høy styrke for å gi en jevn, konsistent finish. Med eller uten PSA (Pressure Sensitive Adhesive) bakside, og tilgjengelig i ark, skiver og ruller for å møte bruken på alle typer poleringsutstyr. Disse filmene er mye brukt i polering av fiberoptiske koblinger, ruller, harddisker og metalldeler etc.Aluminium oxide lapping film, Silisium Carbide Lapping Film Disc, Cerium Oxide Lapping Film Disc og Diamond Lapping Film Disc er en maskineringsprosess, i hvilke to overflater er gnidd sammen med slipemiddel mellom dem, ved håndbevegelse eller ved hjelp av en maskin. Vi kan levere diamant-, silisiumkarbid- og aluminafilmer og andre typer slipemidler. Denne filmen er et av de mest aggressive slipemediene vi har testet. Brukt i elektronikkindustrien for polering av fiberoptiske komponenter og datamaskinharddiskhoder, er denne slitesterke, hurtigskjærende filmen virkelig bemerkelsesverdig for sliping av kantverktøy.

Professional solutions for LCD panel cleaning. Ensure streak-free, dust-free, and damage-free screens for monitors, TVs, and electronic displays. Silisiumkarbid Lapping Film Disc Silisiumdioksid Lapping Film Disc består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder silisiumdioksidpartikler. Det anbefales for sluttpolering hvor kantfastholdelse er viktig. Anbefalt som et alternativ til kolloidaler og kluter for sluttpolering på SEM- og TEM-prøver. Silisiumkarbid- og silisiumdioksidfilmer består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder enten silisiumkarbid- eller silisiumdioksidpartikler. De anbefales for finsliping og lapping der kantbevaring er viktig. Funksjoner: * Micron gradert førsteklasses slipemiddel for å produsere presise finisher * Presisjonsstøtte for jevnhet og prøveplanaritet * Tåler vann, olje og de fleste løsemidler * Brukes for ikke-innkapslede prøver * Anbefales ikke for bruk med strømhoder Diameter: 4" 6" 8" Montering: PSA (Pad) Ruhetsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-31-580bb_51-506d_31-506d_cf5005-5005-5005-5000-5005-5100d Partikkelstørrelse/µm: 0,3 Type: Silisium Dioksid Lapping Film Disc

Discover our high-performance abrasive cloth designed for versatile grinding and polishing tasks, ensuring excellent results. Diamond Lapping Film Diamond Lapping Film er belagt med nøyaktig gradert diamantpulver på polyesterbaksiden med høy styrke for å gi en jevn, jevn finish. Gir en konsistent, repeterbar finish på ekstremt harde materialer. De gir utmerket kantbevaring og opprettholder koplanaritet uavhengig av varierende materialer eller hardhet i prøven. Brukes vanligvis for uinnkapslet tverrsnitt, TEM-kile-/plan-polering, polering av baksiden og FIB prøvefortynning. Tilgjengelig i 0,5-80 μm kvaliteter, med eller uten PSA (Pressure Sensitive Adhesive) bakside. Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 180 240 360 400 _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 600 1000 1200 _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 2000 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5 cf58d_ 2500 4000 6000 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 8000 33-4c08d_33-405d_31905d_3194-58d19_51905d_319400000 Particle size/µm 80 60_cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 45 _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ 40 30 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 16 _cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 15 _cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58 d_ 9 _cc781905-5cde- 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 6 3 _cc781905-5cde-3194- bb3b-136bad5cf58d_ 2 _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_1 3-4-58d_ 3175 -bb3b-136bad5cf58d_ 0,5 Type: Diamond Lapping Film Disc

Eco-friendly Cerium Oxide polishing slurry provides superior results for aluminum oxide applications, ensuring efficiency and safety. Ceriumoksidpoleringsslurry Cerium Oxide-serien poleringsslurry er en slags miljøvennlig vannbasert poleringsslurry. Laget av slipende materialer av høy kvalitet, slurryen har god spredning, jevn kornstørrelse og høy poleringseffektivitet. I mellomtiden gjør funksjonene som er enkle å rengjøre og ikke-rester den svært egnet for MPO/MTP-poleringsprosesser. Cerium oxide slurry er en ferdigblandet cerium slurry klar til å poleres rett ut av flasken. Du trenger ikke å blande dine egne slurries fra pulver. Riktig blandet og enkel å bruke for å oppnå en rask, lys polering på dine tilstrekkelig forberedte glassoverflater. Funksjoner: 1. Ingen riper på overflaten etter poleringsprosessen; 2. Ingen ødelagt kant på overflaten etter poleringsprosessen; 3. Lett å rengjøre og ikke-rester. Instruksjoner 1. Rist flasken for å få slipemidlet til å redispergere før bruk. 2. Bruk gjerne slurry med poleringspute i PU-serien. _cc781905-5cde-b3d31905-5cde-bad31905-5cde-b3d31905-91cde-bad

High-precision structured diamond thinning pad for glass and sapphire. Ideal for optical lapping, BK7, and fused silica. Made by Hans Diamond, China. Lapping Film Taps Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Diamond Lapping Film Disc / Diamantperlepoleringstape er laget av diamantperler i mikronstørrelse som består av diamantpartikler med mye mindre mikronstørrelse. Den fungerer som en mikron slipestein under poleringsprosessen, og gir en jevn poleringsoverflate med høy fjerningshastighet. Under poleringsprosessen brytes diamantperlene i mindre partikler, som fungerer som poleringskjede og gir jevn polering og oppnår lengre levetid. Merknad: Tilpasninger er tilgjengelige på forespørsel. Funksjoner 1. Konsekvent fjerningshastighet og lang levetid; 2. Riper fri og gir overlegen overflatefinish.

Discover premium cerium oxide lapping film rolls for precise polishing and finishing. Buy lapping film now for exceptional results! Diamond Lapping Film Roll Mikrofinishing filmrull produseres ved å belegge slipekornene jevnt på den høystyrke PET-filmen, noe som kan gi høy effektivitet og oppnå et speilfinishresultat. Tilgjengelige slipematerialer er aluminiumoksid, silisiumkarbid og diamant etc. for å oppfylle forskjellige hardhet på arbeidsstykkets etterbehandlingskrav. Funksjoner _cc781905-5cde-3194-bb3b-1586bad5c 1. Høy fjerningshastighet med godt belagte slipekorn; 2. Enkel skraping og mindre plugg; 3. Konsekvent finishytelse med ensartet PET-bakside og slipemiddelbelagt; 4. Lang holdbarhet og god kostnadseffektivitet for kundene.

High-efficiency silicon carbide microfinishing polishing rolls from HANS. Provides mirror finishes and adapts to various hardness substrates with flexible PET backing. Silisiumkarbid Lapping Film Roll Mikrofinishing filmrull produseres ved å belegge slipekornene jevnt på den høystyrke PET-filmen, noe som kan gi høy effektivitet og oppnå et speilfinishresultat. Tilgjengelige slipematerialer er aluminiumoksid, silisiumkarbid og diamant etc. for å oppfylle forskjellige hardhet på arbeidsstykkets etterbehandlingskrav. Funksjoner _cc781905-5cde-3194-bb3b-1586bad5c 1. Høy fjerningshastighet med godt belagte slipekorn; 2. Enkel skraping og mindre plugg; 3. Konsekvent finishytelse med ensartet PET-bakside og slipemiddelbelagt; 4. Lang holdbarhet og god kostnadseffektivitet for kundene.

Innovative structured foam polishing disc with 3D silicon carbide abrasives on flexible foam for precision lapping, finishing, and surface polishing. Lapping Film Taps Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Diamond Lapping Film Disc / Diamantperlepoleringstape er laget av diamantperler i mikronstørrelse som består av diamantpartikler med mye mindre mikronstørrelse. Den fungerer som en mikron slipestein under poleringsprosessen, og gir en jevn poleringsoverflate med høy fjerningshastighet. Under poleringsprosessen brytes diamantperlene i mindre partikler, som fungerer som poleringskjede og gir jevn polering og oppnår lengre levetid. Merknad: Tilpasninger er tilgjengelige på forespørsel. Funksjoner 1. Konsekvent fjerningshastighet og lang levetid; 2. Riper fri og gir overlegen overflatefinish.

Reach out to Flexible Lapping Film Products for inquiries about polishing, smoothing, and finishing solutions. Expert support for industrial and professional users. Kontakt oss Takk for din interesse for Hans abrasive Lapping Film. For å kontakte oss vennligst kontakt oss via: Sende inn Takk for at du sendte inn! Adresse 111th Liuquan Road Zhangdian Zibo Shandong Kina flexibleabrasive@gmail.com Whatsapp og tlf: 13805339219

Discover premium silicon carbide abrasives for precise polishing and finishing on various materials. Ensure professional results. Silisiumkarbid Lapping Film Disc Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Silisiumkarbid Lapping Film Disc / Silisiumkarbid lapping filmer består av en mylarfilm belagt med harpiks inneholdende enten silisiumkarbid eller silisiumdioksydpartikler. De anbefales for finsliping og lapping der kantbevaring er viktig. Funksjoner: * Micron graderte førsteklasses slipemidler for å produsere presise overflater i grader 30 til 1 mikron * Presisjonsstøtte for jevnhet og prøveplanaritet * Tåler vann, olje og de fleste løsemidler * Fargekodet for rask identifikasjon * Brukes for innkapslede eller ikke-innkapslede prøver * Anbefales ikke for bruk med strømhoder Silisiumkarbid: anbefalt for ikke-jernholdige metaller og polymerer. Slipende materiale: Silisiumkarbid Gjeldende materialer: Keramikk, herdede metaller, karbid, eksotiske legeringer, kompositter Bruksområder: Flat Lapping, Fiberoptisk kontaktpolering, Superfinishing Kroppsmateriale: Polyesterfilm Bond: SIC Coated Diameter: 4" 6" 8" Montering: PSA (Pad) Ruhetsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ 600 1000_cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1200 2000 3000_cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4000_cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf5781d-3d5_5981d-3d5cf598d-3d5cf598d-3d5cf598d-3d5cf598d-3d5cf595d-3d5cf598d-3d5cf595d-5cf5cf58d-0bcf595d-0bcf595d-0bcf595d-0bcf595d9 Particle size/µm 30 16 _cc781905- 5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 15 _cc781905-5cde-3194-bb3b -136bad5cf58d_ 9 _cc781905-5cde -3194-bb3b-136bad5cf58d_5 3_cc781905 -5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ _c c781905-5cde-3194-bb3b-136bad5cf58d_ 1 Type: Silisiumkarbid Lapping Film Disc

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Semiconductor Polishing Slurry Semiconductor Polishing Slurry har tilsvarende poleringsprosesser og forbruksvarer for sammensatte halvledere, inkludert silisiumkarbid, aluminiumnitrid, galliumnitrid, galliumarsenid, indiumfosfid, etc., og påtar seg også ulike typer OEM-tjenester. Funksjoner GRISH nye serie av AO Polishing slurry er profesjonelt utviklet for bakpolering av InP & GaAs Chips. Sammenlignet med Logitech Slurry, den har høy fjerningshastighet, bedre overflateplanhet (Ra, TTV, LTV), høy kvalifikasjonsprosent. applikasjoner Mye brukt i InP Chip og GaAs Chip bakpolering. Anbefal poleringsprosess for InP&GaAs Logitech polerer Første trinn: Tynning, 15-30 min:3-10umAluminiumoksid pulver og kvartsplate； Andre trinn: Baksidepolering：30-40min： InP: AO-1/3-20Aluminiumoksidpoleringsslurry sammen med PU-poleringspute GaAs: AO-1/3-20Aluminiumoksidpoleringsslurry OrAO-1/5-10Aluminiumoksidpoleringsslurry ellerSO-80-PF CMP poleringsslurry sammen med PU-poleringspute