Search Results
Search this site
67 resultater funnet med et tomt søk
- Grooved Lapping Film | High-Precision LCD Polishing | HANS
Grooved Lapping Film is produced by gravure printing and microstructure repeat technology, coating precision abrasives on the backing to produce concave-convex structure polishing sheet, used to clean chip front panel in the LCD process, have higher polishing cleaning ability and longer life time Diamond Lapping Film Grooved Lapping Film er produsert av dyptrykk og mikrostrukturrepetisjonsteknologi, belegg presisjonsslipemidler på baksiden for å produsere konkav-konveks struktur poleringsark, brukt til å rense chip frontpanel i LCD-prosessen, har høyere polering rengjøringsevne og lengre levetid. Funksjoner 1. Mikroenheter har samme høyde på overflaten av produktet, kan garantere jevn sliping; 2. Produktets mikroenhet er rektangulær pyramidestruktur, kan garantere høyere rengjøringsevne; 3. Produktets mikroenhet har selvslipende evne,can garanterer stabil rengjøringsevne i løpet av levetiden;_cc781905-5cde-3194-bb3b-136bad5_cc578d-3cf581d-3c1cc58d-3c1cc58d-3cd-5cd-3d-5cd-5c1cd-3d-5cd-3d-5cd-3d-5cd-3d-5cd-3d-5cd-5c1bb-5bcd-5cd-5c1cd-5c1bb-5c1bb 3194-bb3b-136bad5cf58d_ 4. Produktoverflaten har jevnt fordelt sponspor, kan garantere best mulig sponfjerning.
- 3C Metal Material Applications | Precision Polishing Solutions
Explore high-performance abrasive solutions from Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd — including Structured Aluminum Oxide Abrasive Discs, Diamond Grinding Pads, Lapping Films, and Microfinishing Films. Ideal for stainless steel, aluminum-magnesium alloy, titanium alloy, and 3C device manufacturing. Silisiumkarbid Lapping Film Disc Silisiumdioksid Lapping Film Disc består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder silisiumdioksidpartikler. Det anbefales for sluttpolering hvor kantfastholdelse er viktig. Anbefalt som et alternativ til kolloidaler og kluter for sluttpolering på SEM- og TEM-prøver. Silisiumkarbid- og silisiumdioksidfilmer består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder enten silisiumkarbid- eller silisiumdioksidpartikler. De anbefales for finsliping og lapping der kantbevaring er viktig. Funksjoner: * Micron gradert førsteklasses slipemiddel for å produsere presise finisher * Presisjonsstøtte for jevnhet og prøveplanaritet * Tåler vann, olje og de fleste løsemidler * Brukes for ikke-innkapslede prøver * Anbefales ikke for bruk med strømhoder Diameter: 4" 6" 8" Montering: PSA (Pad) Ruhetsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-31-580bb_51-506d_31-506d_cf5005-5005-5005-5000-5005-5100d Partikkelstørrelse/µm: 0,3 Type: Silisium Dioksid Lapping Film Disc
- About Flexible Lapping Film Products – Precision Polishing Solutions
Explore Hans' precision grinding solutions for polished surfaces on metals, glass, and ceramics, enhancing your production quality. Om Agrolinx Jeg er et avsnitt. Klikk her for å legge til din egen tekst og redigere meg. Det er lett. Bare klikk på "Rediger tekst" eller dobbeltklikk meg for å legge til ditt eget innhold og gjøre endringer i fonten. Jeg er et flott sted for deg å fortelle en historie og fortelle brukerne dine litt mer om deg.
- Lubricants & Dispersants Base Liquid | Flexible Lapping Film | Hans
High-quality lubricants and dispersants base liquid for flexible lapping films. Ensures consistent polishing, cooling, and even abrasive performance. Oppslemming av kolloid silika smøremidler kan blandes med slipende materialer som diamantpulver, som kan oppnå god spredning og suspensjonseffekt, forbedre slipekraften, oppnå utmerket slipe- og prosesseringseffekt. Den er miljøvennlig og enkel å rengjøre. Tilpasninger er tilgjengelige etter kravene, og det vil være mer praktisk for kundene å bruke. Egenskaper 1. God spredning; 2. Høy fjerningsrate; 3. Bred anvendelighet.
- CMP Polishing Slurry | Chemical Mechanical Polishing Solution | Hans
Discover premium CMP slurry for chemical mechanical polishing of materials like wafers and glass. Achieve unmatched precision and efficiency. CMP slurry CMP slurry tar kolloidalt som råmateriale. Med unike formler design i henhold til forskjellige poleringsmaterialer, kan slurryen vår sikre pH-verdien nesten uendret under polering, og dermed sikre stabiliteten til poleringshastigheten og spare poleringstid. CMP-poleringsslurry er mye brukt til en rekke ulike nanoskalamaterialers kjemisk mekaniske polering. Slik som safirmateriale, silisium, rustfritt stål, aluminium magnesiumlegering, sammensatt krystall, etc. Funksjoner 1. Ensartet partikkelstørrelse. (smal fordeling, sfærisk overflate); 2. Høy poleringshastighet. (spesiell formel. pH-verdien er stabil); 3. Høy flathet. (overflatekvalitet Ra<0,2nm TTV<3u); 4. Høy sykling liv; 5. Lavtemperaturpolering tilgjengelig. (Under 35 ℃); 6. Forbedret type for silisiumkarbidsubstrat; 7. Nøytral eller svak syre poleringsslurry for aluminiumnitrid varmeavledningssubstrat. applikasjoner 1. Silicon karbidsubstrat 2. Safirmateriale 3. Rustfritt stål 4. Optisk glass og krystall 5. Aluminiumnitrid varmeavledningssubstrat
- Diamond Lapping Film Disc – Efficient Polishing & Finishing
Discover premium diamond lapping film for unmatched precision and durability. Perfect for metals, glass, ceramics, and hard surfaces. Lapping Film Taps Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Diamond Lapping Film Disc / Diamantperlepoleringstape er laget av diamantperler i mikronstørrelse som består av diamantpartikler med mye mindre mikronstørrelse. Den fungerer som en mikron slipestein under poleringsprosessen, og gir en jevn poleringsoverflate med høy fjerningshastighet. Under poleringsprosessen brytes diamantperlene i mindre partikler, som fungerer som poleringskjede og gir jevn polering og oppnår lengre levetid. Merknad: Tilpasninger er tilgjengelige på forespørsel. Funksjoner 1. Konsekvent fjerningshastighet og lang levetid; 2. Riper fri og gir overlegen overflatefinish.
- Colloidal Silica Polishing Slurry | Flexible Abrasive Lapping Film | Hans
High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. Oppslemming av kolloid silika Kolloide silika-oppslemminger produseres av høyrent silisiumpulver gjennom avansert teknologi. De er mye brukt for kjemisk mekanisk polering i nanometerskala i en rekke materialer som silisiumskiver, kjemisk kombinasjon av krystaller, presis optikk, edelstener osv. Vi kan tilby forskjellige kornstørrelser for å møte dine krav. I henhold til den forskjellige PH-verdien kan den deles inn i sur og alkalisk type. Funksjoner 1. Høy fjerningshastighet, ved å bruke stor størrelse på silikapartikler, kan du oppnå rask etterbehandling; 2. Ulike partikkelstørrelser kan gjøres etter forespørselen din; 3. Høy renhet kan redusere urenheter på elektriske produkter; 4. Høy jevn prosessering, SiO2-partikler vil ikke forårsake skade på fysiske enheter. applikasjon Fiberoptiske kontakter endelig finish. _cc781905-5cde-31954-6_bad5b-cde
- Structured Diamond Lapping Disc – 3D Precision Polishing
Advanced structured diamond lapping discs with 3D abrasive particles for consistent, precise polishing of ceramics, metals, and other hard surfaces. Lapping Film Taps Hjem / Lapping Film Poleringsskive / Diamond Lapping Film Disc / Diamantperlepoleringstape er laget av diamantperler i mikronstørrelse som består av diamantpartikler med mye mindre mikronstørrelse. Den fungerer som en mikron slipestein under poleringsprosessen, og gir en jevn poleringsoverflate med høy fjerningshastighet. Under poleringsprosessen brytes diamantperlene i mindre partikler, som fungerer som poleringskjede og gir jevn polering og oppnår lengre levetid. Merknad: Tilpasninger er tilgjengelige på forespørsel. Funksjoner 1. Konsekvent fjerningshastighet og lang levetid; 2. Riper fri og gir overlegen overflatefinish.
- Micro-finishing Lapping Film Roll | Flexible Lapping Film
Discover our premium microfinishing film roll, designed for durability and efficiency. Achieve a flawless finish with our microfinishing film roll. Mikrofinishing filmrull Mikrofinishing filmrull produseres ved å belegge slipekornene jevnt på den høystyrke PET-filmen, noe som kan gi høy effektivitet og oppnå et speilfinishresultat. Tilgjengelige slipematerialer er aluminiumoksid, silisiumkarbid og diamant etc. for å oppfylle forskjellige hardhet på arbeidsstykkets etterbehandlingskrav. Funksjoner _cc781905-5cde-3194-bb3b-1586bad5c 1. Høy fjerningshastighet med godt belagte slipekorn; 2. Enkel skraping og mindre plugg; 3. Konsekvent finishytelse med ensartet PET-bakside og slipemiddelbelagt; 4. Lang holdbarhet og god kostnadseffektivitet for kundene.
- Polycrystalline Diamond Powder | High-Performance Abrasive
Premium polycrystalline diamond powder for precision grinding, lapping, and polishing. High hardness, durability, and superior performance for industrial applications. Ultrafint poleringspulver Ultrafint poleringspulver har tre typer ultrafint poleringspulver silisiumkarbid, aluminiumoksyd og ceriumoksyd produsert av avansert graderingsteknologi. De er karakterisert med høy renhet, utmerket krystallform og jevn partikkelstørrelsesfordeling. Disse brukes mest av optikk, kommunikasjon, display, halvledere, datalagringsindustri og etc. Funksjoner 1. Fin partikkelstørrelse og justerbar poleringseffektivitet kan møte ulike poleringskrav; 2. Sentralisert partikkelstørrelsesfordeling og god krystallform kan oppnå presisjonspoleringsresultat på kort tid; 3. Høy renhet kan møte forespørselen fra magnetiske platematerialer som harddisk, og halvledermaterialer som silisium og andre høyteknologiske felt. applikasjoner 1. Halvleder 2. Optisk glass og krystall 3. Harddisk 4. LCD-panel 5. Optisk kommunikasjon
- Abrasive Lapping Film – Applications in Precision Polishing
Discover the benefits of abrasive film discs for precise polishing and finishing. Abrasive film discs are versatile for metals and ceramics. Silisiumkarbid Lapping Film Disc Silisiumdioksid Lapping Film Disc består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder silisiumdioksidpartikler. Det anbefales for sluttpolering hvor kantfastholdelse er viktig. Anbefalt som et alternativ til kolloidaler og kluter for sluttpolering på SEM- og TEM-prøver. Silisiumkarbid- og silisiumdioksidfilmer består av en mylarfilm belagt med harpiks som inneholder enten silisiumkarbid- eller silisiumdioksidpartikler. De anbefales for finsliping og lapping der kantbevaring er viktig. Funksjoner: * Micron gradert førsteklasses slipemiddel for å produsere presise finisher * Presisjonsstøtte for jevnhet og prøveplanaritet * Tåler vann, olje og de fleste løsemidler * Brukes for ikke-innkapslede prøver * Anbefales ikke for bruk med strømhoder Diameter: 4" 6" 8" Montering: PSA (Pad) Ruhetsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-31-580bb_51-506d_31-506d_cf5005-5005-5005-5000-5005-5100d Partikkelstørrelse/µm: 0,3 Type: Silisium Dioksid Lapping Film Disc Frequently asked questions General Product Selection Customization Product Use Storage and Handling Application Compatibility Quality Assurance Application Support Shipping and Delivery Sampling and Evaluation Ordering and Quotations How should diamond lapping film be used correctly? To use diamond lapping film correctly, remove a strip from the sheet and securely adhere it to the platen, ensuring precise alignment. Utilize an edge-trailing stroke (up and away) technique, which differs from the approach used with diamond stones. Which abrasive materials are commonly used for demanding diamond lapping work? What is the process of diamond lapping? What material is best for lapping? How should you choose a diamond lapping fluid for precision finishing? What is the main purpose of the lapping process? What is the standard material removal rate in the lapping process? What is the proper method for cleaning a diamond lapping plate?
- Eco-Friendly Silicon Carbide Abrasive Slurries | Semiconductor Polishing
Discover eco-friendly silicon carbide polishing solutions for semiconductor wafer and ceramic polishing. Achieve top results! Silisiumkarbidpoleringsslurry Høyytelsesoppslemminger for skalerbar produksjon av atomisk glatte og defektfrie SiC (silisiumkarbid) wafere, Spesielt designet for lapping eller mekanisk polering av SiC wafere med Si-flate, C-flate og enkelt- eller polykrystallinske overflater, Optimaliserte løsninger for batch og enkelt - wafer CMP-systemer som gir økte eierkostnader, slurries inkluderer avanserte tilsetningsstoffer som gir ultrahøy poleringshastighet, opptil 10 ganger raskere enn eksisterende prosesser, samtidig som de opprettholder ensartethet og ingen skade under overflaten







