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Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Semiconductor Polishing Slurry Semiconductor Polishing Slurry verfügt über entsprechende Polierprozesse und Verbrauchsmaterialien für Verbindungshalbleiter, einschließlich Siliziumkarbid, Aluminiumnitrid, Galliumnitrid, Galliumarsenid, Indiumphosphid usw., und übernimmt auch verschiedene Arten von OEM-Dienstleistungen. Merkmale Die neue GRISH-Serie von AO-Polieraufschlämmungen wurde professionell für das Rückseitenpolieren von InP- und GaAs-Chips entwickelt. hohe Qualifikationsquote. Anwendungen Weit verbreitet beim Polieren der Rückseite von InP-Chips und GaAs-Chips. Empfehlen Sie den Polierprozess für InP&GaAs Logitech-Polierer Erster Schritt: Verdünnung, 15–30 Minuten: 3–10 µm Aluminiumoxidpulver und Quarzplatte. Zweiter Schritt: Polieren der Rückseite: 30-40 Minuten: InP: AO-1/3-20 Aluminiumoxid-Polierschlamm zusammen mit PU-Polierpad GaAs: AO-1/3-20 Aluminiumoxid-Polierschlamm oder AO-1/5-10 Aluminiumoxid-Polierschlamm oder SO-80-PF CMP-Polierschlamm zusammen mit PU-Polierpad

Explore our high-performance abrasive polishing disc for versatile uses. Achieve precision and efficiency in grinding and polishing tasks. Läppen von Foliengewindebohrern Heim / Läppfolie Polierscheibe / Diamant-Läppfolie / Diamantperlen-Polierband wird aus Diamantperlen in Mikrometergröße hergestellt, die aus viel kleineren Diamantpartikeln in Mikrometergröße bestehen. Es wirkt während des Poliervorgangs wie ein Mikrometer-Schleifstein und sorgt für eine glatte Polieroberfläche mit hoher Abtragsrate. Während des Poliervorgangs zerfallen die Diamantperlen in kleinere Partikel, die als Polierkette fungieren und für ein gleichmäßiges Polieren und eine längere Lebensdauer sorgen. Anmerkung: Kundenspezifische Anpassungen sind auf Anfrage erhältlich. Merkmale 1. Konstante Entfernungsrate und lange Lebensdauer; 2. Kratzfrei und erzeugt eine hervorragende Oberflächengüte.

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. Polykristalliner Diamantschlamm Hans Diamantpolierschlamm umfasst die PCD-, DND- und MD-Serien, die für die unterschiedlichsten Anwendungen geeignet sind. Es ist mit guter Dispensierbarkeit, gleichmäßiger Partikelgrößenverteilung, sowohl auf Wasser- als auch auf Ölbasis erhältlich und wird häufig zum Läppen und Verarbeiten harter Materialien verwendet. Polykristalliner Diamantschlamm Unsere beliebteste PCD-Aufschlämmung bietet eine hohe Abtragsrate ohne Kratzer und wird häufig zum Läppen und Bearbeiten von Saphirsubstraten, optischen Linsen, Hartgläsern, Kristallen, Keramiken, Magnetköpfen, Festplatten und CMOS-Chips usw. verwendet.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Beflockter Florüberlappungsfilm Beflockte Polpolierfolie wird durch fortschrittliche elektrostatische Pflanztechnologie und präzise Beschichtungstechnologie hergestellt. HS-1 ist der direkt auf das Polyester gepflanzte Flock, der separat oder zusammen mit der Polierflüssigkeit verwendet werden kann. HS-2 kommt von HS-1, das mit dem Siliziumoxid-Schleifmittel beschichtet ist. Merkmale: 1. Hervorragende Polierleistung: Hervorragende Polierfähigkeit, hervorragender Poliereffekt und nach dem Polieren kann die Rauheit der Oberfläche einen Spiegeleffekt erreichen; 2. Hohe Läppgleichmäßigkeit: Die Oberfläche der Produkte ist sauber und weich, kann die hohe Läppkonsistenz erreichen, kann nach dem Läppen / Polieren einen hohen Grad an Gleichmäßigkeit und Glätte erreichen; 3.Perfekte Krümmung des Oberflächenpoliereffekts: Unsere Produkte haben eine gute Flexibilität, können eine Vielzahl von Krümmungsoberflächenpolieren erreichen, und der Poliereffekt ist ausgezeichnet; 4.Signifikant bei der Aufbewahrung von Glasschlund-/Chip-Abfalleffekten, Verhindern Sie effektiv Kratzer: Unsere Produkte verwenden elektrostatische Beflockungssubstrate mit ausgezeichneter Elastizität und Glasschlund-/Chip-Abfallreserve und Puffereffekt, mit Wasser als Poliermedium, können Kratzer auf dem Auftragen von Oberflächen effektiv vermeiden .

High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. Aufschlämmungen aus kolloidaler Kieselsäure Aufschlämmungen aus kolloidalem Siliziumdioxid werden durch hochreine Siliziumpulver durch fortschrittliche Technologie hergestellt. Sie werden häufig für chemisch-mechanisches Polieren im Nanometerbereich in einer Vielzahl von Materialien wie Siliziumwafern, chemischen Kombinationen von Kristallen, präzisen Optiken, Edelsteinen usw. verwendet. Wir können unterschiedliche Korngrößen liefern, um Ihre Anforderungen zu erfüllen. Je nach unterschiedlichem PH-Wert kann es in saure und alkalische Typen unterteilt werden. Merkmale 1. Hohe Entfernungsrate, durch die Verwendung großer Kieselsäurepartikel können Sie eine schnelle Endbearbeitung erreichen; 2. Unterschiedliche Partikelgröße könnte zu Ihrer Anfrage gemacht werden; 3. Hohe Reinheit kann Verunreinigungen auf elektrischen Produkten verringern; 4. Hohe reibungslose Verarbeitung, SiO2-Partikel verursachen keine Schäden an physischen Geräten. Anwendung Endgültige Ausführung der Glasfaseranschlüsse.

Durable 3D structured lapping film for precise polishing, smoothing, and finishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Ceroxid-Läppfolie und -band 3D-strukturierte Filme haben reduplikative 3D-Muster, wie etwa kubische, pyramidenförmige, prismatische, Rautenmuster und so weiter. Es enthält feine Schleifmittel in Mustern. Diese Muster haben eine einheitliche Höhe und zeigen eine konsistente und dauerhafte Polierfähigkeit. Merkmale 1. Langlebige Polierleistung mit gleichmäßigem Schleifmodul; 2. Konstante Abtragsrate mit selbstrichtenden Eigenschaften; 3. Entladen Sie Polierrückstände durch Rillen zwischen Mustern.

Roll polishing. The long lasting product is used to complete the product process and produce consistently superior surface finish. Cleaning: use plenty of DI water to clean the film between each use, then wipe the film with a lint-free wipe. Siliziumkarbid-Läppfolie Heim / Läppfolie Polierscheibe / Siliziumdioxid-Läppfilm / Siliziumdioxid-Läppfilmscheibe besteht aus einer Mylarfolie, die mit Harz beschichtet ist, das Siliziumdioxidpartikel enthält. Es wird für abschließende Polieranwendungen empfohlen, bei denen die Kantenbeständigkeit wichtig ist. Empfohlen als Alternative zu Kolloiden und Tüchern zum abschließenden Polieren von REM- und TEM-Proben. Siliziumkarbid- und Siliziumdioxid-Läppfolien bestehen aus einem mit Harz beschichteten Mylar-Film, der entweder Siliziumkarbid- oder Siliziumdioxidpartikel enthält. Sie werden für Feinschleif- und Läppanwendungen empfohlen, bei denen es auf Schnitthaltigkeit ankommt. Merkmale: * Premium-Schleifmittel mit Mikron-Gradierung für präzise Oberflächen * Präzisionsunterlage für Einheitlichkeit und Ebenheit der Probe * Beständig gegen Wasser, Öl und die meisten Lösungsmittel * Für nicht eingekapselte Proben verwenden * Nicht für Power Head-Anwendungen empfohlen Durchmesser: 4" 6" 8" Montage: PSA (Pad) Rauheitsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ :15000 Partikelgröße/µm: 0,3 Typ: Silikon Kohlendioxid Läppfilmscheibe