Search Results

Flexible Diamond Products Tech Co., Ltd provides high-performance Semiconductor Polishing Slurries for compound semiconductors such as SiC, AlN, GaN, GaAs, and InP. OEM services available for custom polishing solutions, ensuring superior planarity and low-defect surfaces. Semiconductor Polishing Slurry Semiconductor Polishing Slurry har tilsvarende poleringsprocesser og forbrugsstoffer til sammensatte halvledere, herunder siliciumcarbid, aluminiumnitrid, galliumnitrid, galliumarsenid, indiumphosphid osv., og udfører også forskellige typer OEM-tjenester. Funktioner GRISH nye serie af AO poleringsslam er professionelt udviklet til bagpolering af InP & GaAs Chips. Sammenlignet med Logitech Slurry har den høj fjernelseshastighed, bedre overfladeplanhed (Ra, TTV, LTV), høj kvalifikationsprocent. Ansøgninger Udbredt i InP Chip og GaAs Chip bagpolering. Anbefal poleringsproces for InP&GaAs Logitech polermaskine Første trin: Udtynding, 15-30 min.：3-10umAluminiumoxid pulver & kvartsplade； Andet trin: Bagsidepolering：30-40min： InP: AO-1/3-20Aluminiumoxid poleringsslam sammen med PU polerpude GaAs: AO-1/3-20Aluminiumoxid-poleringsslam OrAO-1/5-10Aluminiumoxid-poleringsslam eller SO-80-PF CMP-poleringsslam sammen med PU-polerpude

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. Polykrystallinsk diamantopslæmning Hans diamantslibningsslam inkluderer PCD, DND og MD serier, som passer til de fleste forskellige applikationer. Det er med god dispenserbarhed, ensartet partikelstørrelsesfordeling, både vand- og oliebaseret er tilgængelig, meget udbredt til de hårde materialer, der skal lappe og forarbejde. Polykrystallinsk diamantopslæmning Vores mest populære PCD-opslæmning kan give en høj snavsfjernelseshastighed uden ridser, meget brugt til lapning og behandling af safirsubstrat, optiske linser, hårde briller, krystaller, keramik, magnethoveder, harddisk og CMOS-chip osv.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Flocked Pile Lapping Film Flocked luv poleringsfilm er produceret af avanceret elektrostatisk planteteknologi og præcis belægningsteknologi. HS-1 er flokken plantet direkte på polyesteren, og den kan bruges separat eller bruges sammen med polervæsken. HS-2 kommer fra HS-1 belagt med siliciumoxidslibemidlet. Funktioner: 1. Fremragende poleringsydelse: Fremragende poleringsevne, overordnet poleringseffekt og efter polering kan overfladens ruhed nå spejlniveaueffekt; 2. Høj grad af lapningsensartethed: Produktets overflade er pæn og blød, kan nå den høje lapningskonsistens, kan nå høj grad af ensartethed og glathed efter lapning/polering; 3.Perfect curviture serface polering effekt: vores produkter har god fleksibilitet, kan opnå en række curivture overflade polering, og polering effekten er fremragende; 4. Betydende med hensyn til at reservere glasrør/spånaffaldseffekt, undgår effektivt ridser: vores produkter bruger elektrostatiske flockningssubstrater, med fremragende elasticitet og glasrør/spånaffaldsreserve og buffereffekt, med vand som poleringsmedium, kan effektivt undgå ridser på påføringsoverflader .

Explore our high-performance abrasive polishing disc for versatile uses. Achieve precision and efficiency in grinding and polishing tasks. Lapping Film Taps Home / Lapping Film Polishing Disc / Diamond Lapping Film Disc / Diamant-perle poleringstape er lavet af mikron størrelse diamantperler, som består af meget mindre mikron størrelse diamantpartikler. Det fungerer som en mikron slibesten under poleringsprocessen og giver en glat poleringsoverflade med høj fjernelseshastighed. Under poleringsprocessen bryder diamantperlerne i mindre partikler, som fungerer som poleringskæde og giver ensartet polering og opnår længere levetid. Bemærk: Tilpasninger er tilgængelige efter anmodning. Funktioner 1. Konsekvent fjernelseshastighed og lang levetid; 2. Fri for ridser og giver overlegen overfladefinish.

High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. Kolloide silica-opslæmninger Kolloide silica-opslæmninger fremstilles af siliciumpulver med høj renhed gennem avanceret teknologi. De bruges i vid udstrækning til kemisk mekanisk polering i nanometerskala i en række forskellige materialer såsom siliciumwafer, kemisk kombination af krystaller, præcis optik, ædelsten osv. Vi kan levere forskellige kornstørrelser for at opfylde dine krav. I henhold til de forskellige PH-værdier kan den opdeles i sur og alkalisk type. Funktioner 1. Høj fjernelseshastighed, ved at bruge stor størrelse af silicapartikler, kan du opnå hurtig efterbehandling; 2. Forskellige partikelstørrelser kan laves efter din anmodning; 3. Høj renhed kan mindske urenhed på elektriske produkter; 4. Høj jævn behandling, SiO2-partikler vil ikke forårsage skade på fysiske enheder. Ansøgning Fiberoptiske stik slutfinish. _cc781905-5cde-31954-6_bad5b-cde

Durable 3D structured lapping film for precise polishing, smoothing, and finishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Cerium Oxide Lapping Film og Bælte 3D-strukturerede film har reduplikative 3D-mønstre såsom kubisk, pyramide, prismatisk, diamantmønster og så videre. Den indeholder fine slibemidler indeni mønstre. Disse mønstre har ensartet højde og viser ensartet og holdbar poleringsevne. Funktioner 1. Holdbar poleringsydelse med ensartet slibemodul; 2. Konsekvent fjernelseshastighed med egenskaber for selvbeklædning; 3. Udled poleringsaffald gennem riller mellem mønstre.

Roll polishing. The long lasting product is used to complete the product process and produce consistently superior surface finish. Cleaning: use plenty of DI water to clean the film between each use, then wipe the film with a lint-free wipe. Siliciumcarbid Lapping Film Disc Home / Lapping Film Polishing Disc / Siliciumdioxid Lapping Film / Siliciumdioxid Lapping Film Disc består af en mylarfilm belagt med harpiks indeholdende siliciumdioxidpartikler. Det anbefales til afsluttende polering, hvor kantfastholdelse er vigtig. Anbefales som et alternativ til kolloider og klude til endelig polering på SEM- og TEM-prøver. Siliciumcarbid- og siliciumdioxid-lapningsfilm består af en mylarfilm belagt med harpiks indeholdende enten siliciumcarbid- eller siliciumdioxidpartikler. De anbefales til finslibning og lapning, hvor kantfastholdelse er vigtig. Funktioner: * Micron-graderet premium slibemiddel til at producere præcise finish * Præcisionsunderlag for ensartethed og prøveplanaritet * Modstår vand, olie og de fleste opløsningsmidler * Bruges til ikke-indkapslede prøver * Anbefales ikke til power head-applikationer Diameter: 4" 6" 8" Montering: PSA (Pad) Ruhedsgrad: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ _cc781905-31-506d-31-506d Partikelstørrelse/µm: 0,3 Type: Siliciumdioxid Lapping Film Disc