Search Results

Explore Hans' precision grinding solutions for polished surfaces on metals, glass, and ceramics, enhancing your production quality. Az Agrolinxről Bekezdés vagyok. Kattintson ide saját szöveg hozzáadásához és szerkesztéséhez. Könnyű. Csak kattintson a „Szöveg szerkesztése” elemre, vagy kattintson duplán rám a saját tartalom hozzáadásához és a betűtípus módosításához. Remek hely vagyok, ahol elmesélhetsz egy történetet, és egy kicsit többet megtudhatsz rólad a felhasználóid.

High-quality flocked pile polishing film for precise surface finishing, smoothing, and polishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Flocked Pile Lapping Film A bolyhos polírozó fólia fejlett elektrosztatikus ültetési technológiával és precíz bevonási technológiával készül. A HS-1 közvetlenül a poliészterre ültetett nyáj, amely külön-külön vagy a polírozó folyadékkal együtt használható. A HS-2 a szilícium-oxid csiszolóanyaggal bevont HS-1-ből származik. Jellemzők: 1. Kiemelkedő polírozási teljesítmény: Kiváló polírozási képesség, kiemelkedő polírozó hatás, és polírozás után a felület érdessége elérheti a tükörszintű hatást; 2. Magas fokú lefedési egyenletesség: a termékek felülete tiszta és puha, elérheti a nagy átfedési konzisztenciát, magas fokú egyenletességet és simaságot érhet el a lapolás/polírozás után; 3. Perfect curviture serface polírozó hatás: termékeink jó rugalmassággal rendelkeznek, különféle görbületi felületi polírozást érhetnek el, és a polírozó hatás kiváló; 4. Jelentős az üvegnyelő/forgácshulladék hatás fenntartásában, hatékonyan elkerülhető a karcolás: termékeink elektrosztatikus pelyhesítő hordozót használnak, kiváló rugalmassággal és üvegnyelő/forgácshulladék-tartalékkal és puffer hatással, vízzel, mint polírozó közeggel, hatékonyan elkerülhetik a karcolásokat a felhordott felületeken .

High-precision colloidal silica polishing slurry for defect-free finishing on glass, optics, and precision surfaces. Compatible with flexible lapping films. Kolloid szilícium-dioxid szuszpenziók A kolloid szilícium-dioxid szuszpenziót nagy tisztaságú szilíciumporral állítják elő fejlett technológia segítségével. Széles körben használják nanométeres léptékű kémiai mechanikai polírozáshoz különféle anyagokban, mint például szilícium ostya, kristályok kémiai kombinációja, precíz optika, drágakövek stb. Különböző szemcseméreteket tudunk biztosítani az Ön igényeinek megfelelően. Az eltérő PH érték szerint savas és lúgos típusra osztható. Jellemzők 1. Nagy eltávolítási sebesség, nagy méretű szilícium-dioxid részecske használatával gyors befejezést érhet el; 2. Különböző részecskeméretet lehet tenni az Ön kérésére; 3. A nagy tisztaság csökkentheti az elektromos termékek szennyeződését; 4. Magas sima feldolgozás, a SiO2 részecskék nem okoznak kárt a fizikai eszközökben. Alkalmazás Száloptikai csatlakozók végső befejezése. _cc781905-5cde-31914-6bbd

High-performance polycrystalline diamond slurry for scratch-free, high-stock removal lapping of sapphire, optics, ceramics, and semiconductor materials. Polikristályos gyémánt szuszpenzió A Hans gyémánt polírozó szuszpenzió PCD, DND és MD sorozatokat tartalmaz, amelyek a legtöbb alkalmazáshoz megfelelnek. Jó adagolhatóságú, egyenletes szemcseméret-eloszlású, víz és olaj alapú egyaránt kapható, széles körben alkalmazzák kemény anyagok lapolására és feldolgozására. Polikristályos gyémánt szuszpenzió Legnépszerűbb PCD-iszapunk karcmentes, magas leválasztási sebességet biztosít, széles körben használják zafír szubsztrátum, optikai lencsék, keményüvegek, kristályok, kerámiák, mágneses fejek, merevlemez és CMOS chip stb. lapolására és feldolgozására.

Explore our high-performance abrasive polishing disc for versatile uses. Achieve precision and efficiency in grinding and polishing tasks. Fóliacsapok itthon / Fóliapolírozó korong / Gyémánt lefedő filmlemez / A gyémántgyöngyös polírozószalag mikron méretű gyémántgyöngyökből készül, amelyek sokkal kisebb, mikron méretű gyémántrészecskékből állnak. A polírozás során mikroncsiszoló kőként működik, és sima polírozási felületet biztosít magas eltávolítási sebességgel. A polírozási folyamat során a gyémántgyöngyök kisebb részecskékre törnek, amelyek polírozó láncként működnek, és egyenletes polírozást biztosítanak, és hosszabb élettartamot biztosítanak. Megjegyzés: Testreszabás kérésre elérhető. Jellemzők 1. Egyenletes eltávolítási arány és hosszú élettartam; 2. Karcmentes és kiváló felületi minőséget biztosít.

Roll polishing. The long lasting product is used to complete the product process and produce consistently superior surface finish. Cleaning: use plenty of DI water to clean the film between each use, then wipe the film with a lint-free wipe. Szilícium-karbid fóliás lemez itthon / Fóliapolírozó korong / Szilícium-dioxid fedőfólia / Szilícium-dioxid fóliafólia lemez szilícium-dioxid részecskéket tartalmazó gyantával bevont mylar filmből áll. Végső polírozáshoz ajánlott, ahol fontos az élek megtartása. A SEM és TEM minták végső polírozására szolgáló kolloidok és kendők alternatívájaként ajánlott. A szilícium-karbid és szilícium-dioxid lefedő fóliák szilícium-karbid vagy szilícium-dioxid részecskéket tartalmazó gyantával bevont mylar filmből állnak. Finomcsiszoláshoz és lapfoláshoz ajánljuk, ahol fontos az élek megtartása. Jellemzők: * Mikron fokozatú prémium csiszolóanyag a precíz felületek készítéséhez * Precíziós hátlap az egyenletesség és a minta síksága érdekében * Ellenáll a víznek, olajnak és a legtöbb oldószernek * Nem kapszulázott mintákhoz használható * Nem ajánlott elektromos fejes alkalmazásokhoz Átmérő: 4" 6" 8" Rögzítés: PSA (Pad) Érdességi fokozat: Mesh _cc781905-5cde-3194 -bb3b-136bad5cf58d_ Részecskeméret/µm: 0,3 Típus: szilícium Dioxid Lapozó filmlemez

Durable 3D structured lapping film for precise polishing, smoothing, and finishing on metals, glass, ceramics, and other hard surfaces. Cérium-oxid fedőfólia és öv A 3D strukturált filmek replikatív 3D mintázattal rendelkeznek, például köbös, piramis, prizmás, gyémánt mintázatú és így tovább. Finom csiszolóanyagot tartalmaz a mintákon belül. Ezek a minták egyenletes magasságúak, és egyenletes és tartós polírozási képességet mutatnak. Jellemzők 1. Tartós polírozási teljesítmény egységes csiszolómodullal; 2. Konzisztens eltávolítási arány önkötözési jellemzőkkel; 3. Távolítsa el a polírozási törmeléket a minták közötti barázdákon keresztül.